本技術(shù)涉及絲網(wǎng)印刷網(wǎng)版，尤其涉及一種背電場(chǎng)網(wǎng)版和絲網(wǎng)印刷系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

1、太陽(yáng)能電池片制備過(guò)程中的絲網(wǎng)印刷是一道重要的工序，印刷的效果會(huì)對(duì)太陽(yáng)能電池的效率產(chǎn)生較大的影響。絲網(wǎng)印刷包括背電場(chǎng)印刷，背電場(chǎng)印刷的工藝包括制作背電場(chǎng)網(wǎng)版的過(guò)程，在制作背電場(chǎng)網(wǎng)版時(shí)，需在絲網(wǎng)上噴涂一層掩膜層，掩膜層上鏤空出與硅片上的柵線和硅片邊框線相對(duì)應(yīng)的鏤空縫隙。

2、現(xiàn)有技術(shù)中，對(duì)應(yīng)硅片邊框線位置處的掩膜層與絲網(wǎng)之間的牢固性較弱，易脫落或卷邊翹起，不僅網(wǎng)版壽命偏低，而且漿料印刷至硅片上時(shí)，造成印刷在硅片上對(duì)應(yīng)掩膜層脫落或卷邊翹起位置處的背電場(chǎng)偏厚，突出于硅片表面，在硅片疊放時(shí)，該硅片上突出硅片表面的部分容易劃傷相鄰疊放的硅片，甚至出現(xiàn)硅片隱裂現(xiàn)象，降低了電池片的良率。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型的目的在于提供一種背電場(chǎng)網(wǎng)版和絲網(wǎng)印刷系統(tǒng)，用于提升掩膜層設(shè)置在絲網(wǎng)上的牢固性，避免掩膜層出現(xiàn)脫落或卷邊翹起現(xiàn)象，提升電池片良率。

2、為了實(shí)現(xiàn)上述目的，第一方面，本實(shí)用新型提供一種背電場(chǎng)網(wǎng)版，包括絲網(wǎng)和掩膜層，掩膜層鋪設(shè)于絲網(wǎng)的一側(cè)表面。掩膜層包括第一掩膜部、第二掩膜部和連接線掩膜部，第一掩膜部圍設(shè)于第二掩膜部的外周，第一掩膜部和第二掩膜部之間具有對(duì)應(yīng)待印刷硅片的邊框線的第一縫隙。第二掩膜部包括多個(gè)沿第一方向間隔排布的掩膜區(qū)塊，相鄰的兩個(gè)掩膜區(qū)塊之間具有對(duì)應(yīng)待印刷硅片的柵線的第二縫隙，第二縫隙與第一縫隙連通。連接線掩膜部位于第一縫隙中，且連接線掩膜部的兩端分別與第一掩膜部和掩膜區(qū)塊連接。

3、采用上述技術(shù)方案時(shí)，第一掩膜部和第二掩膜部之間具有對(duì)應(yīng)待印刷硅片的邊框線的第一縫隙，相鄰的兩個(gè)掩膜區(qū)塊之間具有對(duì)應(yīng)待印刷硅片的柵線的第二縫隙，從而在印刷時(shí)，漿料從第一縫隙和第二縫隙中下落至硅片上，以在硅片上形成背電場(chǎng)。連接線掩膜部位于第一縫隙中，且連接線掩膜部的兩端分別與第一掩膜部和掩膜區(qū)塊連接，連接線掩膜部的設(shè)置，用于將第一掩膜部和掩膜區(qū)塊連接在一起，使得掩膜區(qū)塊和第一掩膜部通過(guò)連接線掩膜部形成一個(gè)整體，能夠增強(qiáng)掩膜區(qū)塊設(shè)置在絲網(wǎng)上的牢固性，避免掩膜層出現(xiàn)脫落或卷邊翹起現(xiàn)象，進(jìn)一步地，減少硅片上的背電場(chǎng)偏厚導(dǎo)致的其它硅片被劃傷甚至出現(xiàn)隱裂的現(xiàn)象，從而可以提升電池片的良率。

4、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，連接線掩膜部平行于第二縫隙的長(zhǎng)度延伸方向。

5、采用上述技術(shù)方案時(shí)，連接線掩膜部平行于第二縫隙，在印刷背電場(chǎng)時(shí)，刮刀或墨刀沿著連接線掩膜部的長(zhǎng)度延伸方向運(yùn)動(dòng)，如此，使得連接線掩膜部的受力方向平行于其長(zhǎng)度方向，避免連接線掩膜部受到垂直于其長(zhǎng)度方向的作用力，減弱連接線掩膜部設(shè)置在絲網(wǎng)上的穩(wěn)定性。

6、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，連接線掩膜部的數(shù)量為多個(gè)，其中，至少一個(gè)連接線掩膜部的一端與掩膜區(qū)塊的位于第一縫隙和第二縫隙之間的角端點(diǎn)連接。

7、采用上述技術(shù)方案時(shí)，連接線掩膜部連接角端點(diǎn)，以將較容易卷邊脫落的角端點(diǎn)連接固定，提高角端點(diǎn)的固定強(qiáng)度。同時(shí)，掩膜區(qū)塊的位于第一縫隙和第二縫隙之間的角端點(diǎn)不僅受到所在掩膜區(qū)塊的作用力，還受到了來(lái)自于連接線掩膜部的作用力，增強(qiáng)了角端點(diǎn)所受到的作用力的均勻性，有效避免角端點(diǎn)卷邊脫落。

8、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，第一縫隙和第二縫隙之間的夾角為銳角，連接線掩膜部的一端與掩膜區(qū)塊的位于第一縫隙和第二縫隙之間的銳角端點(diǎn)連接。

9、采用上述技術(shù)方案時(shí)，連接線掩膜部連接銳角端點(diǎn)，以將較容易卷邊脫落的銳角端點(diǎn)連接固定，提高銳角端點(diǎn)的固定強(qiáng)度。同時(shí)，掩膜區(qū)塊的位于第一縫隙和第二縫隙之間的銳角端點(diǎn)不僅受到所在掩膜區(qū)塊的作用力，還受到了來(lái)自于連接線掩膜部的作用力，增強(qiáng)了銳角端點(diǎn)所受到的作用力的均勻性，有效避免銳角端點(diǎn)卷邊脫落。

10、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，連接線掩膜部的寬度小于或等于50μm。

11、采用上述技術(shù)方案時(shí)，限定了連接線掩膜部的最大寬度，在確保掩膜區(qū)塊與第一膜層部的連接強(qiáng)度的同時(shí)，保證充足漿料印刷在硅片邊框線上，避免連接線掩膜部的設(shè)置影響邊框線的背電場(chǎng)印刷。

12、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，連接線掩膜部的寬度小于或等于30μm。

13、采用上述技術(shù)方案時(shí)，在確保掩膜區(qū)塊與第一膜層部的連接強(qiáng)度的同時(shí)，保證充足漿料印刷在硅片邊框線上，避免連接線掩膜部的設(shè)置影響邊框線的背電場(chǎng)印刷。

14、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，掩膜層為乳劑層或聚酰亞胺層。

15、第二方面，本實(shí)用新型提供一種絲網(wǎng)印刷系統(tǒng)，包括硅片和第一方面或第一方面任一可能的實(shí)現(xiàn)方式所描述的背電場(chǎng)網(wǎng)版，硅片上設(shè)置有多個(gè)沿第二方向延伸的細(xì)柵線，多個(gè)細(xì)柵線沿第一方向間隔排布，第一方向與第二方向相垂直。多個(gè)細(xì)柵線形成的區(qū)域外設(shè)置有閉合的邊框線，細(xì)柵線的兩端與邊框線連接。背電場(chǎng)網(wǎng)版的第一縫隙與邊框線相對(duì)應(yīng)，背電場(chǎng)網(wǎng)版的第二縫隙與細(xì)柵線相對(duì)應(yīng)，用于使?jié){料落至邊框線和細(xì)柵線上。

16、第二方面所提供的絲網(wǎng)印刷系統(tǒng)的有益效果，可以參照第一方面所提供的背電場(chǎng)網(wǎng)版的有益效果，此處不作贅述。

技術(shù)特征：

1.一種背電場(chǎng)網(wǎng)版，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背電場(chǎng)網(wǎng)版，其特征在于，所述連接線掩膜部平行于所述第二縫隙的長(zhǎng)度延伸方向。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背電場(chǎng)網(wǎng)版，其特征在于，所述連接線掩膜部的數(shù)量為多個(gè)，其中，至少一個(gè)所述連接線掩膜部的一端與所述掩膜區(qū)塊的位于所述第一縫隙和所述第二縫隙之間的角端點(diǎn)連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的背電場(chǎng)網(wǎng)版，其特征在于，所述第一縫隙和所述第二縫隙之間的夾角為銳角，所述連接線掩膜部的一端與所述掩膜區(qū)塊的位于所述第一縫隙和所述第二縫隙之間的銳角端點(diǎn)連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背電場(chǎng)網(wǎng)版，其特征在于，所述連接線掩膜部的寬度小于或等于50μm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背電場(chǎng)網(wǎng)版，其特征在于，所述連接線掩膜部的寬度小于或等于30μm。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背電場(chǎng)網(wǎng)版，其特征在于，所述掩膜層為乳劑層或聚酰亞胺層。

8.一種絲網(wǎng)印刷系統(tǒng)，其特征在于，包括：

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開(kāi)一種背電場(chǎng)網(wǎng)版和絲網(wǎng)印刷系統(tǒng)，涉及絲網(wǎng)印刷網(wǎng)版技術(shù)領(lǐng)域，用于提升掩膜層設(shè)置在絲網(wǎng)上的牢固性，避免掩膜層出現(xiàn)脫落或卷邊翹起現(xiàn)象，提升電池片良率。背電場(chǎng)網(wǎng)版包括絲網(wǎng)和掩膜層，掩膜層鋪設(shè)于絲網(wǎng)的一側(cè)表面。掩膜層包括第一掩膜部、第二掩膜部和連接線掩膜部，第一掩膜部圍設(shè)于第二掩膜部的外周，第一掩膜部和第二掩膜部之間具有對(duì)應(yīng)待印刷硅片邊框線的第一縫隙。第二掩膜部包括多個(gè)沿第一方向間隔排布的掩膜區(qū)塊，相鄰的兩個(gè)掩膜區(qū)塊之間具有對(duì)應(yīng)待印刷硅片的柵線的第二縫隙，第二縫隙與第一縫隙連通。連接線掩膜部位于第一縫隙中，且連接線掩膜部的兩端分別與第一掩膜部和掩膜區(qū)塊連接。絲網(wǎng)印刷系統(tǒng)包括硅片和背電場(chǎng)網(wǎng)版。

技術(shù)研發(fā)人員：劉建璽,王武林,馬元,鄧彩霞,王浩,田云全
受保護(hù)的技術(shù)使用者：寧夏隆基樂(lè)葉科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240306
技術(shù)公布日：2024/12/5