本實(shí)用新型涉及一種測(cè)量尺，尤其是一種測(cè)繪尺。

背景技術(shù)：

公知的：測(cè)繪尺包括繪圖用測(cè)繪尺以及測(cè)量用測(cè)繪尺，繪圖用測(cè)繪尺主要在繪圖過程中使用用于測(cè)量繪圖尺寸，測(cè)量用測(cè)繪尺，主要用于現(xiàn)場(chǎng)對(duì)測(cè)量點(diǎn)進(jìn)行測(cè)量的卷尺。

現(xiàn)有的繪圖用測(cè)繪尺一般采用直尺，直尺雖然在繪圖過程中能夠輔助繪圖人員繪制水平線，豎直線并且能夠測(cè)量尺寸，但是通過直尺無法繪制圓或者圓弧。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種不僅能測(cè)量尺寸，同時(shí)能夠繪制圓的測(cè)繪尺。

本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：測(cè)繪尺，包括刻度尺、滑塊；所述刻度尺為鋼尺，所述滑塊上設(shè)置有與刻度尺匹配的夾槽；所述滑塊一端設(shè)置有固定塊；所述固定塊上設(shè)置有筆頭孔；所述滑塊上設(shè)置有磁鐵，所述磁鐵位于夾槽上方；

所述刻度尺上至少設(shè)置有兩個(gè)滑塊，所述滑塊的夾槽與刻度尺配合；所有滑塊上的固定塊位于刻度尺的同一側(cè)；所述筆頭孔具有的中心線與刻度尺的上表面垂直。

進(jìn)一步的，所述夾槽具有的深度H小于刻度尺具有的厚度。

進(jìn)一步的，所述筆頭孔為錐形通孔。

本實(shí)用新型的有益效果是：本實(shí)用新型所述的測(cè)繪尺包括刻度尺，并且在刻度尺上設(shè)置有兩個(gè)滑塊，在滑塊上設(shè)置筆頭孔；當(dāng)需要繪制圓形時(shí)，只需將兩只筆分別插入到筆頭孔中，固定其中一只筆，讓另一只筆繞著固定的筆旋轉(zhuǎn)即可。同時(shí)通過滑動(dòng)滑塊，從而能夠調(diào)節(jié)兩個(gè)滑塊之間的距離，能夠繪制不同直徑的圓形或者圓弧。因此本實(shí)用新型所述的測(cè)繪尺能夠提高繪圖效率，能夠減少繪圖使用的工具。

附圖說明

圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例中測(cè)繪尺的立體圖；

圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例中測(cè)繪尺的主視圖；

圖3是本實(shí)用新型實(shí)施例中測(cè)繪尺的側(cè)視圖；

圖4是本實(shí)用新型實(shí)施例中滑塊的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖中標(biāo)示：1-刻度尺，2-滑塊，21-夾槽，22-固定塊，23-筆頭孔，3-磁鐵。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說明。

如圖1至圖4所示，本實(shí)用新型所述的測(cè)繪尺，包括刻度尺1、滑塊2；所述刻度尺1為鋼尺，所述滑塊2上設(shè)置有與刻度尺1匹配的夾槽21；所述滑塊2一端設(shè)置有固定塊22；所述固定塊22上設(shè)置有筆頭孔23；所述滑塊2上設(shè)置有磁鐵3，所述磁鐵3位于夾槽21上方；

所述刻度尺1上至少設(shè)置有兩個(gè)滑塊2，所述滑塊2的夾槽21與刻度尺1配合；所有滑塊2上的固定塊22位于刻度尺1的同一側(cè)；所述筆頭孔23具有的中心線與刻度尺1的上表面垂直。

由于在滑塊2內(nèi)設(shè)置有磁鐵3，同時(shí)刻度尺1采用鋼尺，因此將滑塊2安裝到刻度尺1上后，在磁鐵3的磁力作用下滑塊2固定在刻度尺1上。

本實(shí)用新型所述的測(cè)繪尺包括刻度尺1，并且在刻度尺1上設(shè)置有兩個(gè)滑塊2，在滑塊2上設(shè)置筆頭孔23；當(dāng)需要繪制圓形時(shí)，只需將兩只筆分別插入到筆頭孔23中，固定其中一只筆，讓另一只筆繞著固定的筆旋轉(zhuǎn)即可。同時(shí)通過滑動(dòng)滑塊2，從而能夠調(diào)節(jié)兩個(gè)滑塊2之間的距離，能夠繪制不同直徑的圓形或者圓弧。因此本實(shí)用新型所述的測(cè)繪尺能夠提高繪圖效率，能夠減少繪圖使用的工具。

為了提高測(cè)量精度，避免滑塊安裝到刻度尺1上后，刻度尺1無法與紙面貼合，進(jìn)一步的，所述夾槽21具有的深度H小于刻度尺1具有的厚度。

為了便于筆插入到筆頭孔23內(nèi)，進(jìn)一步的，所述筆頭孔23為錐形通孔。