處圖案內(nèi)容不變的優(yōu)勢在于；圖像合成的過程中，各幅圖案間的差異決定了合 成圖像的清晰度及與背景間的對比度，因此圖像內(nèi)容不變而僅改變位置決定了合成圖案的 質(zhì)量不受圖案內(nèi)容的影響而僅由其位置的變化所決定。
[0077] 根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的制備光學(xué)防偽元件的方法適合于制作開窗安全線、標(biāo) 簽、標(biāo)識、寬條、透明窗口、覆膜等。所述安全線的厚度不大于50um。帶有所述開窗安全線 的防偽紙用于鈔票、護(hù)照、有價(jià)證券等各類高安全產(chǎn)品的防偽。
[0078] 根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施方式，還提供了具有上述光學(xué)防偽元件1的防偽產(chǎn)品。W 下結(jié)合圖9-10示意性地說明具有本發(fā)明所述的光學(xué)防偽元件1的產(chǎn)品。
[0079] 圖9給出了所述光學(xué)防偽元件1在鈔票上W開窗安全線7的形式使用的實(shí)施方 式，其中圖9 (a)示出了光學(xué)防偽元件1在部分開窗安全線中使用的一種實(shí)施方式，圖9化） 示出了光學(xué)防偽元件1在全開窗安全線中使用的一種實(shí)施方式。圖9(c)示出了所述開窗 安全線4的一種實(shí)施方式的橫截面示意圖，所述光學(xué)防偽元件1的基材2的上表面21上覆 蓋有表面浮雕結(jié)構(gòu)區(qū)3 (平坦區(qū)未示出），所述表面浮雕結(jié)構(gòu)區(qū)3上覆蓋有由多層錐層形成 的錐層4。當(dāng)所述多層錐層為由吸收層、低折射率介質(zhì)層和反射層依次堆疊形成的錐層或由 吸收層、高折射率介質(zhì)層和反射層依次堆疊形成的錐層時(shí)，所述反射層與表面浮雕結(jié)構(gòu)區(qū)3 相接觸，從而保證帶有所述光學(xué)防偽元件1的開窗安全線7觀察方向?yàn)閺乃龌?的表 面21 -側(cè)進(jìn)行觀察。當(dāng)然所述錐層4也可W選擇其它上文提到的錐層。
[0080] 圖9(d)示出了所述開窗安全線7的另一種實(shí)施方式的橫截面示意圖，所述光學(xué)防 偽元件1的基材2的下表面22上覆蓋有表面浮雕結(jié)構(gòu)區(qū)3 (平坦區(qū)未示出），所述表面浮雕 結(jié)構(gòu)區(qū)3上覆蓋有錐層4。當(dāng)所述多層錐層為由吸收層、低折射率介質(zhì)層和反射層依次堆疊 形成的錐層或由吸收層、高折射率介質(zhì)層和反射層依次堆疊形成的錐層時(shí)，所述吸收層與 表面浮雕結(jié)構(gòu)區(qū)3相接觸，從而保證帶有所述光學(xué)防偽元件1的開窗安全線7的觀察方向 為從所述基材2的表面21 -側(cè)進(jìn)行觀察。當(dāng)然所述錐層4也可W選擇其它上文提到的錐 層。
[0081] 優(yōu)選地，對于圖9(c)和圖9(d)所示的開窗安全線7可在形成錐層4之后，在錐層 4的表面通過本領(lǐng)域人員公知的復(fù)合工藝覆蓋至少半透明的介質(zhì)薄膜，例如PET膜、PVC膜 等。
[0082] 圖10示出了所述光學(xué)防偽元件1在鈔票上W寬條8及防偽標(biāo)9的形式使用的實(shí) 施方式。
[0083] 圖10(b)示出了所述寬條8及防偽標(biāo)9的一種實(shí)施方式的橫截面示意圖，所述光 學(xué)防偽元件1的基材2的上表面21上的表面浮雕結(jié)構(gòu)區(qū)3 (平坦區(qū)未示出）上覆蓋有由多 層錐層形成的錐層4。當(dāng)所述多層錐層為由吸收層、低折射率介質(zhì)層和反射層依次堆疊形成 的錐層或由吸收層、高折射率介質(zhì)層和反射層依次堆疊形成的錐層時(shí)，所述反射層與表面 浮雕結(jié)構(gòu)區(qū)3相接觸，從而保證帶有所述光學(xué)防偽元件1的寬條8及防偽標(biāo)9的觀察方向 為從所述基材2的表面21 -側(cè)進(jìn)行觀察。當(dāng)然所述錐層4也可W選擇其它上文提到的錐 層。
[0084] 圖10(c)示出了所述寬條8及防偽標(biāo)9的另一種實(shí)施方式的橫截面示意圖，所述 光學(xué)防偽元件1的基材2的下表面22上覆蓋有表面浮雕結(jié)構(gòu)區(qū)3 (平坦區(qū)未示出），所述表 面浮雕結(jié)構(gòu)區(qū)3上覆蓋有由多層錐層形成的錐層4。當(dāng)所述多層錐層為由吸收層、低折射 率介質(zhì)層和反射層依次堆疊形成的錐層或由吸收層、高折射率介質(zhì)層和反射層依次堆疊形 成的錐層時(shí)，所述吸收層與表面浮雕結(jié)構(gòu)區(qū)3相接觸，從而保證帶有所述光學(xué)防偽元件1的 所述寬條8及防偽標(biāo)9觀察方向?yàn)閺乃龌?的表面21 -側(cè)進(jìn)行觀察。當(dāng)然所述錐層 4也可W選擇其它上文提到的錐層。
[00財(cái)圖10(d)示出了所述寬條8及防偽標(biāo)9的另一種實(shí)施方式的橫截面示意圖，所述 光學(xué)防偽元件1的基材2為可剝離的結(jié)構(gòu)，當(dāng)向鈔票表面施放帶有光學(xué)防偽元件1的寬條8 或防偽標(biāo)9時(shí)，所述光學(xué)防偽元件1的基材2將同時(shí)剝離，從而使得寬條8及防偽標(biāo)9具備 本領(lǐng)域人員公知的多方面的優(yōu)勢，例如產(chǎn)品結(jié)構(gòu)更薄。在該結(jié)構(gòu)中，下表面22的表面浮雕 結(jié)構(gòu)區(qū)3(平坦區(qū)未示出）上覆蓋有由多層錐層形成的錐層4,當(dāng)所述多層錐層為由吸收層、 低折射率介質(zhì)層和反射層依次堆疊形成的錐層或由吸收層、高折射率介質(zhì)層和反射層依次 堆疊形成的錐層時(shí)，所述吸收層與表面浮雕結(jié)構(gòu)區(qū)3相接觸，從而保證帶有所述光學(xué)防偽 元件1的所述寬條8及防偽標(biāo)9觀察方向?yàn)閺乃龌?的表面21 -側(cè)進(jìn)行觀察。當(dāng)然 所述錐層4也可W選擇其它上文提到的錐層。
[0086] W上結(jié)合附圖詳細(xì)描述了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，但是，本發(fā)明并不限于上述實(shí) 施方式中的具體細(xì)節(jié)，在本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思范圍內(nèi)，可W對本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行多種簡 單變型，送些簡單變型均屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。
[0087]另外需要說明的是，在上述【具體實(shí)施方式】中所描述的各個具體技術(shù)特征，在不矛 盾的情況下，可W通過任何合適的方式進(jìn)行組合。為了避免不必要的重復(fù)，本發(fā)明對各種可 能的組合方式不再另行說明。
[0088] 此外，本發(fā)明的各種不同的實(shí)施方式之間也可W進(jìn)行任意組合，只要其不違背本 發(fā)明的思想，其同樣應(yīng)當(dāng)視為本發(fā)明所公開的內(nèi)容。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種光學(xué)防偽元件，包括： 基材； 位于所述基材上的表面浮雕結(jié)構(gòu)層；以及 位于所述表面浮雕結(jié)構(gòu)層上的鍍層； 其中，所述表面浮雕結(jié)構(gòu)層由多個組元疊加形成，每一個組元包括平坦區(qū)和由多個光 柵單元形成的浮雕結(jié)構(gòu)區(qū)，任意兩個組元中的任意光柵單元不共位，任意兩個組元中的光 柵單元的參數(shù)不同，以及任意兩個組元中的平坦區(qū)不完全重疊。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)防偽元件，其中，所述多個組元中的每個組元中的光柵 單元的參數(shù)大致相同。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)防偽元件，其中，所述平坦區(qū)為圖案區(qū)，所述浮雕結(jié)構(gòu)區(qū) 為背景區(qū)。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)防偽元件，其中，所述光柵單元是以下的至少一者：鋸齒 光柵、正弦光柵、矩形光柵。5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)防偽元件，其中，所述光柵單元的面積比所述表面浮雕 結(jié)構(gòu)層的面積小至少一個數(shù)量級。6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)防偽元件，其中，所述參數(shù)包括光柵的形狀、周期、深度、 取向中的至少一者。7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)防偽元件，其中，所述多個組元分別對應(yīng)于不同的觀察 角度。8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學(xué)防偽元件，其中，所述多個組元中的平坦區(qū)的形狀和/或 尺寸相同。9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)防偽元件，其中，所述鍍層包括以下鍍層中的任意一種 或組合：單層金屬鍍層；多層金屬鍍層；由吸收層、低折射率介質(zhì)層和反射層依次堆疊形成 的鍍層，其中該反射層或吸收層與所述表面浮雕結(jié)構(gòu)層相接觸；高折射率介質(zhì)層鍍層；由 高折射率介質(zhì)層、低折射率介質(zhì)層和高折射率介質(zhì)層依次堆疊形成的多介質(zhì)層鍍層；以及 由吸收層、高折射率介質(zhì)層和反射層依次堆疊形成的鍍層，其中，該反射層或吸收層與所述 表面浮雕結(jié)構(gòu)層相接觸。10. -種具有根據(jù)權(quán)利要求1至9中任意一項(xiàng)所述的光學(xué)防偽元件的防偽產(chǎn)品。
【專利摘要】一種光學(xué)防偽元件，包括：基材；位于所述基材上的表面浮雕結(jié)構(gòu)層；以及位于所述表面浮雕結(jié)構(gòu)層上的鍍層；其中，所述表面浮雕結(jié)構(gòu)層由多個組元疊加形成，每一個組元包括平坦區(qū)和由多個光柵單元形成的浮雕結(jié)構(gòu)區(qū)，任意兩個組元中的任意光柵單元不共位，任意兩個組元中的光柵單元的參數(shù)不同，以及任意兩個組元中的平坦區(qū)不完全重疊。
【IPC分類】B42D25/40, B42D25/30, B42D25/328, B42D25/324
【公開號】CN105291630
【申請?zhí)枴緾N201410377283
【發(fā)明人】張寶利, 朱軍, 王曉利
【申請人】中鈔特種防偽科技有限公司, 中國印鈔造幣總公司
【公開日】2016年2月3日
【申請日】2014年8月1日