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      印章蝕刻機(jī)的制作方法

      文檔序號(hào):2670310閱讀:1297來源:國知局
      專利名稱:印章蝕刻機(jī)的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實(shí)用新型涉及一種用于制作金屬印章以及其它金屬印模面的裝置,更具體地說是一種印章蝕刻機(jī)。
      在現(xiàn)有技術(shù)中,印章行業(yè)所使用的腐蝕機(jī),通常都是借用印刷廠腐蝕銅鋅板的腐蝕機(jī),該腐蝕機(jī)在結(jié)構(gòu)上主要是由溶液池、安裝在溶液池中的幾個(gè)葉輪、轉(zhuǎn)盤和用以驅(qū)動(dòng)葉輪和轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)的電機(jī)等構(gòu)成。其存在的缺點(diǎn)是1、在結(jié)構(gòu)上采用葉輪撥水的原理,體積較大,且比較笨重;2、每次開機(jī)腐蝕需要溶液量約40立升,金屬印章往往一天或幾天只需加工一枚或幾枚,而一槽溶液配制好后則只能使用一天,造成很大浪費(fèi),也增加了印章的制作成本。
      本實(shí)用新型的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)而提供一種體積較小,工作時(shí)使用溶液量少,適于印章制作行業(yè)使用,使印章生產(chǎn)成本較低,且便于實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控制的印章蝕刻機(jī)。
      為完成上述目的,本實(shí)用新型所提供的技術(shù)解決方案是一種印章蝕刻機(jī),包括轉(zhuǎn)盤3、用于驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)盤3轉(zhuǎn)動(dòng)的電機(jī)4、溶液槽12及降溫裝置和加熱裝置,其特殊之處在于,它具有一個(gè)腐蝕桶2,所述轉(zhuǎn)盤3設(shè)置于該腐蝕桶2內(nèi)的一側(cè),在腐蝕桶2內(nèi)與轉(zhuǎn)盤3對(duì)應(yīng)的另一側(cè)安裝有噴淋嘴11,所述溶液槽12位于腐蝕桶2的下部,并與腐蝕桶2相連通,其底面7的最低部設(shè)置有一個(gè)排液管16,該排液管16與一個(gè)耐腐蝕泵17的抽吸口相連,耐腐蝕泵17的出液口與送液管14相連,送液管14與所述噴淋嘴11相接,所述耐腐蝕泵17安裝于機(jī)架1上,所述排液管16或送液管14的下端接有一個(gè)排廢液閥18。
      上述技術(shù)解決方案中所述腐蝕桶2的底面6可以為一斜面,所述溶液槽12的底面7也可以是一斜面,以便于溶液的流動(dòng);所述溶液槽12的底面7上可以設(shè)置一個(gè)凹槽15,所述加熱裝置則位于該凹槽15內(nèi),以便更有利于耐腐蝕泵17對(duì)溶液的抽吸及加熱裝置對(duì)溶液的加熱。所述腐蝕桶2與溶液槽12之間可以通過設(shè)在底面6上的流通槽連通,也可直接省略底面6,使兩者直接連通。
      上述技術(shù)解決方案中的降溫裝置和加熱裝置可采用各種已知結(jié)構(gòu)形式的裝置,如降溫裝置可采用已知結(jié)構(gòu)形式的制冷機(jī),其蒸發(fā)器8可直接安裝于溶液槽12內(nèi),加熱裝置可采用電加熱管13等,只要其便于調(diào)整溶液溫度即可。
      上述技術(shù)解決方案中所述的噴淋嘴11可采用各種結(jié)構(gòu)形式的噴淋嘴,只要其能夠噴出較細(xì)的淋浴狀液體即可。
      上述技術(shù)解決方案中所述的降溫裝置、加熱裝置和耐腐蝕泵17的工作電源可以與一個(gè)微電腦控制裝置10相接,這樣可更方便、更有效、更精確地控制其工作;所述降溫裝置、加熱裝置和耐腐蝕泵17也可采用相互獨(dú)立的手動(dòng)控制裝置,但以前者為好。
      附圖描述了本實(shí)用新型的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例。


      圖1是該實(shí)施例的一個(gè)結(jié)構(gòu)示意圖;圖2是
      圖1的A向視圖。
      圖中各標(biāo)號(hào)的說明如下1-機(jī)架,2-腐蝕桶,3-轉(zhuǎn)盤,4-電機(jī),5-印章料,6-腐蝕桶底面,7-溶液槽底面,8-蒸發(fā)器,9-壓縮機(jī),10-微電腦控制裝置,11-噴淋嘴,12-溶液槽,13-電加熱管,14-送液管,15-凹槽,16-排液管,17-耐腐蝕泵,18-排廢液閥。
      參見
      圖1、圖2,該蝕刻機(jī)具有一個(gè)腐蝕桶2,轉(zhuǎn)盤3設(shè)置于該腐蝕桶2內(nèi)的一側(cè),由安裝于腐蝕桶2外的電機(jī)4驅(qū)動(dòng),在腐蝕桶2內(nèi)與轉(zhuǎn)盤3對(duì)應(yīng)的另一側(cè)安裝有七個(gè)噴淋嘴11,腐蝕桶2的底面6為一斜面,在腐蝕桶2的下端外設(shè)有溶液槽12,該溶液槽12與腐蝕桶2相連通,其底面7為一斜面,傾斜方向與腐蝕桶底面6的傾斜方向相反,在溶液槽底面7上設(shè)有一個(gè)矩形凹槽15,在凹槽15的下部連接一個(gè)排液管16,該排液管16與一個(gè)耐腐蝕泵17的抽吸口相連,耐腐蝕泵17的出液口與送液管14相連,送液管14與所述七個(gè)噴淋嘴11相接,耐腐蝕泵17安裝于機(jī)架1上,在排液管16的下端接有一個(gè)排廢液閥18,降溫裝置為一臺(tái)制冷機(jī),其壓縮機(jī)9安裝于機(jī)架1上,其蒸發(fā)器8設(shè)置在溶液槽12的底面7上,加熱裝置為一根電加熱管13,設(shè)置于矩形凹槽15內(nèi),降溫裝置、電加熱管13及耐腐蝕泵17的工作電源均與一個(gè)微電腦控制裝置10相接,該裝置安裝在機(jī)架1的上部,通過其溫度傳感器對(duì)溶液槽12中溶液溫度的探測,可以自動(dòng)控制降溫裝置及加熱裝置的工作,該裝置還可控制耐腐蝕泵17的工作時(shí)間,進(jìn)而控制噴淋嘴11的工作時(shí)間,即對(duì)固定在轉(zhuǎn)盤3上的印章料5的腐蝕時(shí)間。
      結(jié)合上述實(shí)施例可以看出,本實(shí)用新型相比現(xiàn)有技術(shù)具有如下優(yōu)點(diǎn)1、采用噴淋嘴噴出液體對(duì)金屬印章料進(jìn)行腐蝕,使體積小,占用工作場地??;2、工作時(shí)所需溶液極少,每次僅1立升溶液即可生產(chǎn),是現(xiàn)有蝕刻機(jī)用量的1/40,特別適合于印章行業(yè)使用,大大節(jié)約了化工原料,降低了生產(chǎn)成本;3、可使用微電腦控制,使工藝參數(shù)精確、靈敏、可靠、易掌握、易操作;4、生產(chǎn)靈活性大,需要加工多少印章均適于生產(chǎn),生產(chǎn)效率高,且質(zhì)量好。
      權(quán)利要求1.一種印章蝕刻機(jī),包括轉(zhuǎn)盤(3)、用于驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)盤(3)轉(zhuǎn)動(dòng)的電機(jī)(4)、溶液槽(12)及降溫裝置和加熱裝置,其特征在于它具有一個(gè)腐蝕桶(2),所述轉(zhuǎn)盤(3)設(shè)置于該腐蝕桶(2)內(nèi)的一側(cè),在腐蝕桶(2)內(nèi)與轉(zhuǎn)盤(3)對(duì)應(yīng)的另一側(cè)安裝有噴淋嘴(11),所述溶液槽(12)位于腐蝕桶(2)的下部,并與腐蝕桶(2)相連通,其底面(7)的最低部設(shè)置有一個(gè)排液管(16),該排液管(16)與一個(gè)耐腐蝕泵(17)的抽吸口相連,耐腐蝕泵(17)的出液口與送液管(14)相連,送液管(14)與所述噴淋嘴(11)相接,所述耐腐蝕泵(17)安裝于機(jī)架(1)上,所述排液管(16)或送液管(14)的下端接有一個(gè)排廢液閥(18)。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的印章蝕刻機(jī),其特征在于所述腐蝕桶(2)的底面(6)為一斜面。
      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的印章蝕刻機(jī),其特征在于所述溶液槽(12)的底面(7)亦為一斜面。
      4.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的印章蝕刻機(jī),其特征在于所述溶液槽(12)的底面(7)上設(shè)置一個(gè)凹槽(15),所述加熱裝置則位于該凹槽(15)內(nèi)。
      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的印章蝕刻機(jī),其特征在于所述降溫裝置、加熱裝置和耐腐蝕泵(17)的工作電源與一個(gè)微電腦控制裝置(10)相接,該裝置安裝于機(jī)架(1)上。
      專利摘要本實(shí)用新型涉及一種用于制作金屬印章以及其它金屬印模面的裝置,主要解決已有技術(shù)體積過大、使用溶液過多、易造成浪費(fèi),使印章制作成本較高的缺點(diǎn)。它具有一個(gè)腐蝕桶,在腐蝕桶內(nèi)的一側(cè)設(shè)置有轉(zhuǎn)盤,在與轉(zhuǎn)盤對(duì)應(yīng)的另一側(cè)安裝有噴淋嘴,在腐蝕桶的下部設(shè)有與之相連通的溶液槽,該溶液槽通過排液管與耐腐蝕泵的抽吸口相接,所述噴淋嘴通過送液管與耐腐蝕泵的出液口相接。其可用于制作金屬印章以及其它金屬印模。
      文檔編號(hào)B44B3/00GK2389795SQ9923504
      公開日2000年8月2日 申請(qǐng)日期1999年10月27日 優(yōu)先權(quán)日1999年10月27日
      發(fā)明者周國林 申請(qǐng)人:周國林
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