專利名稱：分劃板焦點(diǎn)測(cè)量系統(tǒng)和使用多重干涉測(cè)量光束的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在曝光期間控制分劃板平臺(tái)。
背景技術(shù)：
在歷史上，在石印機(jī)中，分劃板的安裝側(cè)和圖案?jìng)?cè)是一個(gè)并且相同，建立在分劃板平臺(tái)平臺(tái)板的一個(gè)平面處的分劃板聚焦平面。因而，在六個(gè)自由度(DOF)中平臺(tái)位置的知識(shí)導(dǎo)致在六個(gè)DOF中分劃板圖案表面位置的知識(shí)。六個(gè)DOF是X、Y、Z、Rx、Ry、及Rz，如圖1中所示。然而，遠(yuǎn)紫外(EUV)分劃板的安裝(或夾持)幾乎肯定是到分劃板的后表面(例如，與圖案表面相對(duì))。后側(cè)夾持導(dǎo)致與是分劃板平度、分劃板厚度、及分劃板厚度變化的函數(shù)的分劃板平臺(tái)有關(guān)的分劃板焦點(diǎn)平面位置。因而，與深紫外(DUV)系統(tǒng)相反，分劃板平臺(tái)位置的知識(shí)不會(huì)分辯分劃板的圖案布置在所有六個(gè)DOF中何處。由于分劃板厚度的變化不能容易地確定平面外DOF(Z、Rx、和Ry)。在所有六個(gè)DOF中需要知道分劃板圖案?jìng)?cè)(與夾持側(cè)相對(duì))的位置。
在幾乎所有分檔器和掃描器中，使用干涉儀由典型平臺(tái)度量學(xué)方案確定三個(gè)平面內(nèi)DOF(X、Y、和Rz)。然而，三個(gè)平面外DOF(Z、Rx、和Ry)更難以測(cè)量。如以上討論的那樣，在EUV機(jī)中，Z、Rx、和Ry必須以比以前石印機(jī)高得多的精度知道。精度要求由定位在與石印機(jī)的光學(xué)器件有關(guān)的焦點(diǎn)平面處的分劃板上的圖案的需要產(chǎn)生。而且，在某些情況下，光學(xué)器件在分劃板焦點(diǎn)平面處不是遠(yuǎn)心的，這增加了對(duì)精確地把在分劃板平臺(tái)上的分劃板位置確定到六個(gè)DOF內(nèi)的需要。同時(shí)，關(guān)鍵是準(zhǔn)確地把焦點(diǎn)保持在分劃板的圖案上，即使分劃板不十分平也是如此。因此，在EUV機(jī)中測(cè)量Z位置和分劃板的圖案?jìng)?cè)的平面外傾斜(Rx和Ry)要求嚴(yán)密準(zhǔn)確。
因此，需要的是一種能容易校準(zhǔn)一個(gè)分劃板焦點(diǎn)平面(用于后側(cè)夾持分劃板)或使之與一個(gè)分劃板平臺(tái)相關(guān)以允許使用合理的常規(guī)平臺(tái)度量學(xué)方法跟蹤在六個(gè)DOF中分劃板的位置的圖案表面的測(cè)量系統(tǒng)和方法。也需要一種把分劃板表面映像到在分劃板平臺(tái)上的表面上、允許用于平臺(tái)位置的反饋基于在平臺(tái)上的表面而不是在分劃板表面上的表面的測(cè)量系統(tǒng)和方法。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實(shí)施例提供的一種方法包括步驟根據(jù)一個(gè)第一組干涉儀測(cè)量束測(cè)量分劃板的圖案?jìng)?cè)的位置數(shù)據(jù)；在分劃板平臺(tái)的掃描期間，根據(jù)一個(gè)第二組干涉儀測(cè)量束測(cè)量分劃板平臺(tái)的映像數(shù)據(jù)；及在借助于分劃板的圖案?jìng)?cè)上的圖案曝光晶片期間，根據(jù)位置數(shù)據(jù)和映像數(shù)據(jù)控制分劃板平臺(tái)。
本發(fā)明的另外實(shí)施例提供的一種方法包括步驟使用第一干涉儀確定在分劃板平臺(tái)上的后側(cè)夾持分劃板的分劃板焦點(diǎn)平面；在分劃板平臺(tái)的掃描期間，使用一個(gè)第二干涉儀確定分劃板平臺(tái)的位置；及在曝光過程期間，根據(jù)相關(guān)步驟控制分劃板平臺(tái)。
本發(fā)明更進(jìn)一步的實(shí)施例提供的一種系統(tǒng)包括一個(gè)可動(dòng)分劃板平臺(tái)，保持一個(gè)分劃板，分劃板帶有一個(gè)圖案?jìng)?cè)；一個(gè)雙重干涉儀器件，投射和探測(cè)來自分劃板的圖案?jìng)?cè)的一個(gè)第一組干涉儀射束和來自分劃板平臺(tái)的一個(gè)第二組干涉儀射束；及一個(gè)存儲(chǔ)器件，存儲(chǔ)由第一組干涉儀射束測(cè)量的分劃板的位置數(shù)據(jù)和由第二組干涉儀射束測(cè)量的分劃板平臺(tái)的映像數(shù)據(jù)。
下面參照附圖詳細(xì)描述本發(fā)明另外的實(shí)施例、特征、及優(yōu)點(diǎn)、以及本發(fā)明各個(gè)實(shí)施例的結(jié)構(gòu)和操作。


包括在這里和形成說明書一部分的附圖表明本發(fā)明，并且與描述一起進(jìn)下用來解釋本發(fā)明的原理和使熟悉適當(dāng)技術(shù)的人員能夠?qū)崿F(xiàn)和使用本發(fā)明。
圖1表示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的分劃板的舉例取向。
圖2A表示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例使用雙重干涉儀的石印系統(tǒng)或器械的一部分。
圖2B表示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例使用兩個(gè)干涉儀的石印系統(tǒng)或器械的一部分。
圖3A和3B表示根據(jù)本發(fā)明各個(gè)實(shí)施例測(cè)量的分劃板和平臺(tái)的各種配置。
圖4表示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例用于石印機(jī)的整體測(cè)量和控制方法的流程圖。
圖5表示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例用于分劃板的測(cè)量和控制方法的流程圖。
圖6表示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例用于分劃板平臺(tái)的測(cè)量和控制方法的流程圖。
圖7表示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例用來測(cè)量分劃板和平臺(tái)的石印系統(tǒng)的一部分。
圖8表示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例用來測(cè)量分劃板和平臺(tái)位置的石印系統(tǒng)的一部分。
圖9A表示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例帶有側(cè)保持分劃板的石印系統(tǒng)的一部分。
圖9B表示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例帶有前面保持分劃板的石印系統(tǒng)的一部分。
現(xiàn)在參照附圖描述本發(fā)明。在附圖中，類似標(biāo)號(hào)指示相同或功能相似的元件。另外，標(biāo)號(hào)的最左位標(biāo)識(shí)其中標(biāo)號(hào)第一次出現(xiàn)的圖。
具體實(shí)施例方式
第一組干涉測(cè)量束用來確定分劃板的圖案表面的位置和用于夾持到(例如后面、側(cè)面、或前面夾持)到分劃板平臺(tái)上的一個(gè)焦點(diǎn)平面。第二組干涉測(cè)量束用來確定在Y方向掃描期間分劃板平臺(tái)的位置的映像。兩組干涉測(cè)量束相關(guān)以使分劃板焦點(diǎn)平面與分劃板平臺(tái)的映像相關(guān)。該信息用來把在分劃板的圖案表面上的圖案曝光期間的分劃板平臺(tái)控制到一個(gè)晶片。
圖1表示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于在X-Y平面內(nèi)定向或平行于X-Y平面的分劃板100的六個(gè)自由度(DOF)。同樣，六個(gè)DOF是X(沿X軸)、Y(沿Y軸)、Z(沿Z軸)、Rx(繞X軸的旋轉(zhuǎn))、R6(繞Y軸的旋轉(zhuǎn))、及Rz(繞Z軸的旋轉(zhuǎn))。更容易確定的DOF是基于分劃板平臺(tái)運(yùn)動(dòng)的X、Y、及Rz。在下面討論的實(shí)施例中，是下面討論焦點(diǎn)的DOF是Z和Rz。要認(rèn)識(shí)到，如果改變分劃板100的取向，則任何DOF能由下面的設(shè)備和方法確定。
圖2A表示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的石印機(jī)的一部分200。部分200包括帶有一個(gè)后側(cè)夾持分劃板204的分劃板平臺(tái)202，后側(cè)夾持分劃板204具有一個(gè)圖案206。盡管沒按比例畫出，一個(gè)干涉儀系統(tǒng)208包括兩個(gè)干涉儀208A和208B。每個(gè)干涉儀208A和208B把照射(I)光從照射器件210投射向部分200。在各個(gè)實(shí)施例中，照射器件210能是帶有或不帶有聚焦或擴(kuò)展光學(xué)器件的光源、激光等。來自第一干涉儀208A的第一組干涉測(cè)量束RSZ1和RSZ2分別從在分劃板204上的第一212和第二214位置反射。第一位置212與圖案206的一個(gè)第一側(cè)相鄰，而第二位置214與圖案206的一個(gè)第二側(cè)相鄰。反射束由探測(cè)器(D)216接收。與探測(cè)束相對(duì)應(yīng)的信號(hào)在由控制器220處理之前或之后存儲(chǔ)在一個(gè)存儲(chǔ)器件218中。
同樣參照?qǐng)D2A，類似地，來自第二干涉儀208B的第二組干涉測(cè)量束RSZ3和RSZ4分別從在分劃板平臺(tái)202上的第一222和第二224點(diǎn)反射，并且由探測(cè)器216探測(cè)。與探測(cè)束相關(guān)的信號(hào)然后存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器218中。在以上表示和描述的實(shí)施例中，所有四個(gè)測(cè)量點(diǎn)212、214、222、及224基本上沿具有相同Y值的線布置。在其它實(shí)施例中，這可能是需要的。
圖2B表示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例包括一個(gè)第一干涉儀208A′和一個(gè)第二干涉儀208B′的干涉儀208′。
圖3A和3B表示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的分劃板204的第一和第二可能位置。為了計(jì)算Z和Ry值，干涉技術(shù)由干涉儀系統(tǒng)208或208′進(jìn)行，并且值由控制器220確定(圖2A)。Z能通過平均距離Z1和Z2確定，而Ry能根據(jù)下式確定Ry=Z2-Z1L]]>在其它實(shí)施例中，信號(hào)代表基于比較的兩個(gè)相關(guān)束(即RSZ1和RSZ2或RSZ3和RSZ4)的強(qiáng)度、相位、距離等的干涉測(cè)量。來自比較的生成信號(hào)與分劃板平臺(tái)202或分劃板204的參數(shù)(例如，位置、取向、傾斜等)相對(duì)應(yīng)。
參照?qǐng)D3A，對(duì)于位于Y軸上或平行于Y軸的分劃板204，Z和Ry的計(jì)算如下。關(guān)于Z，Z1近似等于Z2，因?yàn)榉謩澃?04位于Y軸上或平行于Y軸。因而，Z≈Z1≈Z2。關(guān)于Ry，它基本上是零。這是因?yàn)椋绻鸝1≈Z2，那么Z2-Z1＝0。
參照?qǐng)D3B，對(duì)于繞Y軸旋轉(zhuǎn)Ry的分劃板，Z和Ry的計(jì)算如下。關(guān)于Z，它等于(Z1+Z2)/2或者是兩個(gè)值的平均值。關(guān)于Ry，它等于(Z2-Z1)/L，如以上公式中所示。
因此，在各個(gè)實(shí)施例中，四個(gè)干涉儀射束RSZ1-RSZ4用來確定分劃板204的圖案表面206的兩個(gè)DOF(Z和Ry)。在這些實(shí)施例中，Z是大約與圖案表面206正交并且平行于石印機(jī)的光軸的方向。而且，在這些實(shí)施例中，Ry是繞分劃板平臺(tái)202的掃描軸的旋轉(zhuǎn)。如上所述，兩個(gè)干涉儀射束(RSZ1和RSZ2)反射離開在圖案206任一側(cè)的分劃板204的圖案表面206。這些光束在石印印刷期間不能使用，因?yàn)榉謩澃迤脚_(tái)202必須行駛(在圖2A和2B中箭頭表示的掃描Y方向上)得比分劃板204的實(shí)際長(zhǎng)度遠(yuǎn)。這導(dǎo)致來自這兩個(gè)干涉儀射束(RSZ1和RSZ2)的間斷信號(hào)。因?yàn)槭艿诫x開分劃板表面。這種間斷性使得Z和Ry的準(zhǔn)確平臺(tái)控制困難得幾乎不可能。而且，在分劃板焦點(diǎn)平面處的其它掩模功能(分幅刀片(未表示))利用在石印條件下對(duì)于分劃板平臺(tái)202的控制不實(shí)用的這兩個(gè)束(RSZ1和RSZ2)，因?yàn)榈镀窟M(jìn)行一次掃描就切掉干涉儀射束(RSZ1和RSZ2)。
而且，在各個(gè)實(shí)施例中，其它兩個(gè)干涉儀射束(RSZ3和RSZ4)定位成反射離開在分劃板平臺(tái)202上的表面。有用于這些反射表面配置的多種選擇。在某些實(shí)施例中，分劃板平臺(tái)202的一個(gè)第一反射表面(例如，帶有點(diǎn)222)能定向在X-Y平面內(nèi)或與其平行以給出Z位置反饋。然后，分劃板平臺(tái)202的一個(gè)第二反射表面(例如，帶有點(diǎn)224)能定向在X-Y平面內(nèi)或與其平行?？蛇x擇的配置是可能的，其中分劃板平臺(tái)202的第二反射表面能定向Y-Z平面內(nèi)或與其平行。然后，第二表面產(chǎn)生Ry平臺(tái)位置信息。在另外的可選擇實(shí)施例中，各種其它定向存在，其中計(jì)算產(chǎn)生Z和Ry值。石印機(jī)典型地察看在X或Z方向上有分離的兩個(gè)干涉儀(例如，雙重干涉儀210或干涉儀210A′和210B′)之間的差，因而給出Ry信息。
圖4-6表示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的方法400、500、及600的流程圖。這些方法的概述如下。在把分劃板204(并且在校準(zhǔn)期間偶然地或在校準(zhǔn)之間一次或定期地)裝載到分劃板平臺(tái)202上之后，來自RSZ1和RSZ2的數(shù)據(jù)能用來定位在由石印機(jī)的投影光學(xué)器件(未表示)建立的分劃板焦點(diǎn)平面或由機(jī)器建立確定的任何其它希望平面處的圖案表面206。然后，在Y方向掃描分劃板平臺(tái)202從而分劃板204保持在選擇平面中的同時(shí)，記錄RSZ3和RSZ4的值，并且作為映像圖存儲(chǔ)。當(dāng)石印機(jī)準(zhǔn)備進(jìn)行曝光時(shí)，來自映像圖的數(shù)據(jù)用來控制分劃板平臺(tái)202，并因此在Z和Ry方面控制分劃板204，從而圖案206總是在選擇平面中。因而，即使束RSZ1和RSZ2由于在掃描的任一端處越過分劃板204是間斷的，也不會(huì)兼顧平臺(tái)控制，因?yàn)榭刂品答亖碜允鳵SZ3和RSZ4。在另一個(gè)實(shí)施例中，在石印期間能恒定地監(jiān)視束RSZ1和RSZ2，以確認(rèn)映像圖和可能進(jìn)行用于Z和Ry控制的映像圖的連續(xù)更新。要認(rèn)識(shí)到，有在掃描期間確定平臺(tái)位置同時(shí)把分劃板204的圖案206保持在選擇平面中的其它方法，這些方法都通過本發(fā)明想到。
圖4描繪根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的方法400的流程圖(步驟402-410)。在步驟402，把一個(gè)分劃板(例如，分劃板204)向后夾持到一個(gè)分劃板平臺(tái)(例如，平臺(tái)202)。在步驟404，根據(jù)第一組干涉測(cè)量束(例如，RSZ1和RSZ2)確定分劃板焦點(diǎn)平面。在步驟406，在分劃板平臺(tái)的掃描期間根據(jù)第二組干涉測(cè)量束(例如，RSZ3和RSZ4)確定分劃板平臺(tái)位置的映像圖。在步驟408，使測(cè)量分劃板焦點(diǎn)平面與分劃板平臺(tái)的映像圖相關(guān)。在步驟410，在把分劃板上的圖案曝光到晶片上期間根據(jù)相關(guān)控制分劃板平臺(tái)。通過在先有技術(shù)中已知的過程完成曝光。
圖5描繪根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例在步驟406期間可能發(fā)生的方法500的流程圖。在步驟502，從與分劃板圖案(例如，圖案206)的第一側(cè)相鄰的位置(例如，點(diǎn)212)反射一個(gè)第一束(例如，RSZ1)。在步驟504，從與分劃板圖案的第二側(cè)相鄰的位置(例如，點(diǎn)214)反射一個(gè)第二束(例如，RSZ2)。在步驟506，在一個(gè)干涉儀(例如，干涉儀208或208′)中探測(cè)兩個(gè)反射束。在步驟508，對(duì)于接收的信號(hào)進(jìn)行干涉運(yùn)算(例如，在控制器220中)以確定分劃板圖案的位置，并因而確定分劃板焦點(diǎn)平面。在步驟510，存儲(chǔ)位置信息(例如，在存儲(chǔ)器218中)。在能是步驟410的部分的步驟512，在曝光過程期間把位置信息用來(例如，由平臺(tái)控制器228)控制分劃板平臺(tái)(例如，平臺(tái)202)。
圖6描繪根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例在步驟408期間可能發(fā)生的方法600的流程圖。在步驟602，在Y方向掃描分劃板平臺(tái)(例如，平臺(tái)202)。在步驟604，反射一個(gè)第一測(cè)量束(例如，RSZ3)離開在平行于X-Y平面或定向在其中的分劃板平臺(tái)上的點(diǎn)(例如，點(diǎn)222)。在步驟606，反射第二測(cè)量束(例如，RSZ4)離開在平行于X-Y或Y-Z平面或定向在其中的分劃板平臺(tái)上的點(diǎn)(例如，點(diǎn)224)。在步驟608，第一和第二測(cè)量束由一個(gè)干涉儀(例如，干涉儀208或208′)探測(cè)。在步驟610，根據(jù)由干涉儀產(chǎn)生的干涉值確定平臺(tái)位置信息(例如，由處理器220)。在步驟612，在掃描期間根據(jù)干涉值產(chǎn)生平臺(tái)位置的映像圖(例如，由控制器220)。在步驟614，存儲(chǔ)映像圖(例如，在存儲(chǔ)器218中)。在能是步驟410的部分的步驟616，在曝光過程期間把來自存儲(chǔ)映像圖的數(shù)據(jù)用來(例如，由平臺(tái)控制器228)控制分劃板平臺(tái)。
圖7表示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例用來測(cè)量平臺(tái)202和分劃板204位置的石印機(jī)的一部分700。在這個(gè)實(shí)施例中，盡管未表示，束RSZ1-RSZ3和RSX1-RSX2由與以上討論的208或208′相似的干涉儀、或任何其它干涉儀產(chǎn)生和探測(cè)。如以上討論的那樣，RSZ1和RSZ2用來確定關(guān)于分劃板204的特性，而RSZ3用來確定平臺(tái)202的Z。RSX1和RSX2用來確定平臺(tái)202的X位置和Ry。Ry由下式確定Ry=X2-X1L]]>圖8表示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例用來測(cè)量平臺(tái)202和分劃板204位置的石印機(jī)的一部分800。同樣，在這個(gè)實(shí)施例中，盡管未表示，束RSZ1-RSZ5、RSY1-RSY3、及RSX1由與以上討論的208或208′相似的干涉儀、或任何其它干涉儀產(chǎn)生和探測(cè)。這個(gè)實(shí)施例表明能夠確定用于平臺(tái)202和/或分劃板204的所有六個(gè)DOF的束。束RSZ1和RSZ2允許確定分劃板204的Z和Ry。束RSZ1和RSZ5允許確定分劃板204的Rx。束RSZ3和RSZ4允許確定平臺(tái)202的Z和Ry。束RSX1允許確定平臺(tái)202的X。束RSY1、RSY2、和/或RSY3允許確定平臺(tái)202的Y。束RSY2和RSY3允許確定平臺(tái)202的Rz。束RSY1和RSY3允許確定平臺(tái)202的Rx。這些確定根據(jù)以上公式、與以上相似的公式、或任何其它已知干涉公式進(jìn)行。
圖9A表示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的石印機(jī)的一部分900。部分900包括在其側(cè)處夾持到平臺(tái)902上的分劃板204。在某些實(shí)施例中，分劃板204能耦合到一個(gè)支撐器件(例如，一個(gè)肋板)904上，以抵消在分劃板202上的任何翅曲力。束RSZ1-RSZ4能如上述那樣用來確定平臺(tái)922和/或分劃板204的Z和Ry。
圖9B表示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的石印機(jī)的一部分920。部分920包括前面夾持到平臺(tái)922上的分劃板204。在某些實(shí)施例中，分劃板204能耦合到一個(gè)支撐器件904上，以抵消在分劃板202上的任何翅曲力。束RSZ1-RSZ4能如上述那樣用來確定平臺(tái)922和/或分劃板204的Z和Ry。
結(jié)論盡管以上已經(jīng)描述了本發(fā)明的各個(gè)實(shí)施例，但應(yīng)該理解，它們僅通過例子呈現(xiàn)，而不限制。對(duì)于熟悉相關(guān)技術(shù)的人員顯然，其中能進(jìn)行形式和細(xì)節(jié)的各種變更，而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。因而，本發(fā)明的廣度和范圍不應(yīng)該受任何上述示范實(shí)施例的限制，而是應(yīng)該僅按照如下權(quán)利要求書和其等效物定義。
權(quán)利要求
1.一種方法，包括步驟根據(jù)一個(gè)第一組干涉儀測(cè)量束測(cè)量分劃板的圖案?jìng)?cè)的位置數(shù)據(jù)；在分劃板平臺(tái)的掃描期間，根據(jù)一個(gè)第二組干涉儀測(cè)量束測(cè)量分劃板平臺(tái)的映像數(shù)據(jù)；及在借助于分劃板的圖案?jìng)?cè)上的圖案曝光晶片期間，根據(jù)所述位置數(shù)據(jù)和所述映像數(shù)據(jù)控制分劃板平臺(tái)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述測(cè)量位置數(shù)據(jù)步驟包括步驟從與在分劃板上的圖案第一側(cè)相鄰的一個(gè)點(diǎn)反射第一組束的第一束；和從與在分劃板上的圖案第二側(cè)相鄰的一個(gè)點(diǎn)反射第一組束的第二束。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述測(cè)量映像數(shù)據(jù)步驟包括步驟從在與分劃板平臺(tái)的X-Y平面平行的平面中的一個(gè)點(diǎn)反射第二組束的第一束；和從在與分劃板平臺(tái)的X-Y平面平行的平面中的一個(gè)點(diǎn)反射第二組束的第二束。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述測(cè)量映像數(shù)據(jù)步驟包括步驟從在與分劃板平臺(tái)的X-Y平面平行的平面中的一個(gè)點(diǎn)反射第二組束的第一束；和從在與分劃板平臺(tái)的Y-Z平面平行的平面中的一個(gè)點(diǎn)反射第二組束的第二束。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述測(cè)量映像數(shù)據(jù)步驟包括步驟從在與分劃板平臺(tái)的X-Y平面平行的平面中的一個(gè)點(diǎn)反射第二組束的第一束；和從在分劃板平臺(tái)的X-Y平面中取向的平面中的一個(gè)點(diǎn)反射第二組束的第二束。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述測(cè)量映像數(shù)據(jù)步驟包括步驟從在與分劃板平臺(tái)的X-Y平面平行的平面中的一個(gè)點(diǎn)反射第二組束的第一束；和從在分劃板平臺(tái)的Y-Z平面中取向的平面中的一個(gè)點(diǎn)反射第二組束的第二束。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述測(cè)量映像數(shù)據(jù)步驟包括步驟從在分劃板平臺(tái)的X-Y平面中取向的平面中的一個(gè)點(diǎn)反射第二組束的第一束；和從在與分劃板平臺(tái)的X-Y平面平行的平面中的一個(gè)點(diǎn)反射第二組束的第二束。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述測(cè)量映像數(shù)據(jù)步驟包括步驟從在分劃板平臺(tái)的X-Y平面中取向的平面中的一個(gè)點(diǎn)反射第二組束的第一束；和從在與分劃板平臺(tái)的Y-Z平面平行的平面中的一個(gè)點(diǎn)反射第二組束的第二束。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述測(cè)量映像數(shù)據(jù)步驟包括步驟從在分劃板平臺(tái)的X-Y平面中取向的平面中的一個(gè)點(diǎn)反射第二組束的第一束；和從在分劃板平臺(tái)的X-Y平面中取向的平面中的一個(gè)點(diǎn)反射第二組束的第二束。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述測(cè)量映像數(shù)據(jù)步驟包括步驟從在分劃板平臺(tái)的X-Y平面中取向的平面中的一個(gè)點(diǎn)反射第二組束的第一束；和從在分劃板平臺(tái)的Y-Z平面中取向的平面中的一個(gè)點(diǎn)反射第二組束的第二束。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述測(cè)量位置數(shù)據(jù)步驟包括步驟確定在分劃板的圖案?jìng)?cè)的Z方向上的自由度，其中Z方向與分劃板的圖案?jìng)?cè)正交；和確定用于分劃板的圖案?jìng)?cè)的Ry旋轉(zhuǎn)的自由度，其中Ry旋轉(zhuǎn)是繞分劃板平臺(tái)的掃描軸。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，進(jìn)一步包括根據(jù)所述測(cè)量位置數(shù)據(jù)步驟確定分劃板焦點(diǎn)平面的步驟。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，進(jìn)一步包括步驟使分劃板焦點(diǎn)平面與分劃板平臺(tái)的所述測(cè)量映像數(shù)據(jù)相關(guān)；和在晶片的所述曝光期間，根據(jù)所述相關(guān)步驟跟蹤分劃板的圖案?jìng)?cè)的位置。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，進(jìn)一步包括根據(jù)所述測(cè)量位置數(shù)據(jù)步驟確定預(yù)定分劃板平面的步驟。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，進(jìn)一步包括步驟使預(yù)定分劃板平面與分劃板平臺(tái)的所述測(cè)量映像數(shù)據(jù)相關(guān)；和在晶片的所述曝光期間，根據(jù)所述相關(guān)步驟跟蹤分劃板的圖案?jìng)?cè)的位置。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中在校準(zhǔn)之間進(jìn)行所述測(cè)量位置數(shù)據(jù)步驟一次。
17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中在校準(zhǔn)之間定期進(jìn)行所述測(cè)量位置數(shù)據(jù)步驟。
18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中連續(xù)地進(jìn)行所述測(cè)量位置數(shù)據(jù)步驟。
19.一種方法，包括步驟使用一個(gè)第一干涉儀確定在分劃板平臺(tái)上的夾持分劃板的平面；在分劃板平臺(tái)的掃描期間，使用一個(gè)第二干涉儀確定分劃板平臺(tái)的位置；使平面與分劃板平臺(tái)的位置相關(guān)；及在曝光過程期間，根據(jù)所述相關(guān)步驟控制分劃板平臺(tái)。
20.一種系統(tǒng)，包括一個(gè)可動(dòng)分劃板平臺(tái)，保持一個(gè)分劃板，所述分劃板帶有一個(gè)圖案?jìng)?cè)；一個(gè)雙重干涉儀器件，投射和探測(cè)來自所述分劃板的所述圖案?jìng)?cè)的一個(gè)第一組干涉儀射束和來自所述分劃板平臺(tái)的一個(gè)第二組干涉儀射束；及一個(gè)存儲(chǔ)器件，存儲(chǔ)由所述第一組干涉儀射束測(cè)量的所述分劃板的位置數(shù)據(jù)和由所述第二組干涉儀射束測(cè)量的所述分劃板平臺(tái)的映像數(shù)據(jù)。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的系統(tǒng)，進(jìn)一步包括一個(gè)控制器，在一個(gè)晶片上的分劃板圖案的曝光期間，根據(jù)所述存儲(chǔ)映像數(shù)據(jù)和所述存儲(chǔ)位置數(shù)據(jù)控制所述分劃板平臺(tái)。
22.根據(jù)權(quán)利要求20所述的系統(tǒng)，其中把所述分劃板向后夾持到所述分劃板平臺(tái)上。
23.根據(jù)權(quán)利要求20所述的系統(tǒng)，其中把所述分劃板側(cè)向夾持到所述分劃板平臺(tái)上。
24.根據(jù)權(quán)利要求20所述的系統(tǒng)，其中把所述分劃板向前夾持到所述分劃板平臺(tái)上。
25.根據(jù)權(quán)利要求20所述的系統(tǒng)，其中所述雙重干涉儀器件包括一種帶有兩個(gè)干涉部分的單個(gè)結(jié)構(gòu)。
26.根據(jù)權(quán)利要求20所述的系統(tǒng)，其中所述雙重干涉儀器件包括兩個(gè)干涉儀。
全文摘要
一個(gè)第一組干涉測(cè)量束用來確定分劃板的圖案表面的位置和用于向后夾持到分劃板平臺(tái)上的分劃板的分劃板焦點(diǎn)平面。一個(gè)第二組干涉測(cè)量束在Y方向的掃描期間用來確定分劃板平臺(tái)位置的映像。使兩組干涉測(cè)量束相關(guān)，以使分劃板焦點(diǎn)平面與分劃板平臺(tái)的映像相關(guān)。在到晶片上的分劃板的圖案表面的圖案的曝光期間，信息用來控制分劃板平臺(tái)。
文檔編號(hào)G03F9/00GK1510525SQ03155430
公開日2004年7月7日 申請(qǐng)日期2003年9月5日 優(yōu)先權(quán)日2002年9月6日
發(fā)明者斯蒂芬·洛克斯, 托德·J·拜德納瑞克, J 拜德納瑞克, 斯蒂芬 洛克斯 申請(qǐng)人:Asml控股股份有限公司