專利名稱：彩色濾光片的制造方法以及半透射式液晶顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明有關(guān)一種半透射式液晶顯示器及其制備方法，且特別是有關(guān)于一種具有不同厚度的彩色濾光片的半透射式液晶顯示器及其制備方法。
背景技術(shù)：
反射式液晶顯示器(reflective liquid crystal display，RLCD)可分為“全反射式”與“半透射式”兩大類。全反射式LCD不用背光源，利用附在LCD面板上的反射板來反射外部光線，好處是極為省電，但是缺點是在較暗的環(huán)境看不到顯示屏幕內(nèi)容且對比度較差，因此一般會用前光源作為輔助光源。而半透射式LCD(transflective LCD)是當(dāng)外部光線足夠時就用外部光源，不足時可點亮背光源，是兼具省電以及具輔助光線的方式，因此是許多手機、個人數(shù)字助理(PDA)以及手提電腦等便攜式液晶顯示裝置的優(yōu)先選擇。
請參閱圖1，圖1為顯示現(xiàn)有半透射式LCD結(jié)構(gòu)的一例的示意圖。
現(xiàn)有半透射式LCD的結(jié)構(gòu)，其結(jié)構(gòu)包括有一下基底100，其上具有一絕緣層110；一下電極120，位于該絕緣層110上，該下電極120具有一反射區(qū)122與一透射區(qū)124，其中該反射區(qū)122例如是鋁層，而該透射區(qū)124例如是銦錫氧化物(ITO)層；一上基底160，其內(nèi)側(cè)表面上具有一彩色濾光片150上；一上電極140，位于該彩色濾光片150上；以及一液晶層130，設(shè)置于該上基底160與該下基底100之間。
然而，上述現(xiàn)有半透射式LCD在反射模式(reflective mode)時，環(huán)境光(ambient light，即反射光)170透過彩色濾光片150的次數(shù)是兩次。而在透射模式(transmissive mode)時，背光(backlight，即透射光)180透過彩色濾光片150的次數(shù)是一次。因此造成在反射模式與透射模式下的顯示顏色無法相同，亦即有色彩濃度(色飽和度，color purity)相差很大的問題，而降低半透射式LCD的顯示品質(zhì)(display-quality)。
近來，業(yè)界提出一種具有不同厚度的彩色濾光片的半透射式LCD。以下利用圖2A～2C來說明上述半透射式LCD的彩色濾光片制造流程。
首先，請參閱圖2A，先在一基底200上形成圖案化的一透明光致抗蝕劑層210，該透明光致抗蝕劑層210對應(yīng)半透射式LCD的反射區(qū)(reflectiveregion)201。
接著，請參閱圖2B，形成圖案化的一紅色光致抗蝕劑層220于部分基底200與部分透明光致抗蝕劑層210上。
接著，請參閱圖2C，依序形成圖案化的一綠色光致抗蝕劑層230與一藍色光致抗蝕劑層240于部分基底200與部分透明光致抗蝕劑層210上。如此，現(xiàn)有的具有不同厚度的彩色濾光片250即完成。
然而，由于現(xiàn)有工藝中必須在基底200上先形成透明光致抗蝕劑層210，因而需要增加一道光掩模，而增加成本。并且，涂布在透明光致抗蝕劑層210上的該紅色光致抗蝕劑層220、綠色光致抗蝕劑層230及藍色光致抗蝕劑層240的表面并不平坦，亦即現(xiàn)有工藝不易控制該紅色光致抗蝕劑層220、綠色光致抗蝕劑層230及藍色光致抗蝕劑層240的膜厚，因而不易完全解決色彩濃度(色飽和度，color purity)相差的問題。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明的一目的在于提供一種半透射式LCD，其特征在于其具有不同厚度的彩色濾光片。
本發(fā)明的另一目的，在于提供一種具有不同厚度的彩色濾光片，主要應(yīng)用于半透射式LCD。
本發(fā)明的又另一目的，在于提供一種具有不同厚度的彩色濾光片的制備方法。
為達上述目的，本發(fā)明提供一種具有不同厚度彩色濾光片的半透射式液晶顯示裝置，其中第一基底與第二基底對向設(shè)置，彩色濾光片位于第一基底上，且對應(yīng)透射區(qū)的彩色濾光片具有第一厚度，對應(yīng)反射區(qū)的彩色濾光片具有第二厚度，第一厚度大于第二厚度。此外，液晶層夾設(shè)于第二基底與彩色濾光片之間。
上述的具有不同厚度彩色濾光片的半透射式液晶顯示裝置中，第一基底為下基底，且包含薄膜晶體管陣列，第二基底為上基底。或者，第二基底為下基底，且包含一薄膜晶體管陣列，第一基底為上基底。
其中，具有不同厚度彩色濾光片的制造方法，包括下列步驟(a)提供一基底，該基底具有一第一區(qū)與一第二區(qū)；(b)形成一厚彩色光致抗蝕劑層于該基底上；以及(c)藉由光刻工序去除部分位在該第二區(qū)中的該厚彩色光致抗蝕劑層，而形成一薄彩色光致抗蝕劑層于位在該第二區(qū)中的該基底上。
其中，該第一區(qū)對應(yīng)半透射式液晶顯示器(transflective LCD)的透射區(qū)(transmissive region)，而該第二區(qū)對應(yīng)半透射式液晶顯示器(transflective LCD)的反射區(qū)(reflective region)。
還有，步驟(c)的去除部分位在該第二區(qū)中的該厚彩色光致抗蝕劑層的方法，是藉由利用光掩模進行曝光和顯影而達成。其中，當(dāng)該厚彩色光致抗蝕劑層由正型光致抗蝕劑所組成時，使用的光掩模包括對應(yīng)于第一區(qū)的完全遮光圖案以及對應(yīng)于第二區(qū)的部分透光圖案。當(dāng)該厚彩色光致抗蝕劑層由負型光致抗蝕劑劑所組成時，使用的光掩模包括對應(yīng)于第一區(qū)的完全透光圖案以及對應(yīng)于第二區(qū)的部分透光圖案。
為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能更明顯易懂，下文特舉優(yōu)選實施例，并配合附圖，作詳細說明如下。


圖1是顯示現(xiàn)有半透射式LCD結(jié)構(gòu)的一例的示意圖；圖2A～2C是顯示現(xiàn)有具有不同厚度的彩色濾光片的工藝剖面圖；圖3A～3C是顯示本發(fā)明的具有不同厚度的彩色濾光片的工藝剖面圖；圖4是顯示當(dāng)彩色光致抗蝕劑為正型光致抗蝕劑時，本發(fā)明所采用的光掩模的上視示意圖；圖5是顯示當(dāng)彩色光致抗蝕劑為負型光致抗蝕劑時，本發(fā)明所采用的光掩模的上視示意圖；圖6是顯示本發(fā)明的具有不同厚度的彩色濾光片，應(yīng)用于一半透射式LCD裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；以及圖7是顯示本發(fā)明的具有不同厚度的彩色濾光片，應(yīng)用于另一型半透射式LCD裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
附圖標(biāo)記說明現(xiàn)有部分(圖1、圖2A～2C)
100～下基底；110～絕緣層；120～下電極；122～反射區(qū)；124～透射區(qū)；130～液晶層；140～上電極；150～彩色濾光片；160～上基底；170～外部光(即反射光)；180～背光(即透射光)；200～基底；201～反射區(qū)；210～透明光致抗蝕劑層；220～紅色光致抗蝕劑層；230～綠色光致抗蝕劑層；240～藍色光致抗蝕劑層；250～現(xiàn)有的具有不同厚度的彩色濾光片。
本發(fā)明部分(圖3A～3C、圖4、圖5、圖6、圖7)300～基底；301～透射區(qū)；302～反射區(qū)；310～厚彩色光致抗蝕劑層；320～薄彩色光致抗蝕劑層；330～透明的平坦層；410、510～光掩模；420、520～第一圖案；430、530～第二圖案；1050、1070～間隙(slit)；1060、1080～微圖案；600、700～下基底；610、710～絕緣層；620、720～下電極；622、722～反射區(qū)；624、724～透射區(qū)；630、755～液晶層；640、750～上電極；645、740～平坦層；650、730～彩色濾光片；651、731～厚區(qū)；652、732～薄區(qū)；660、760～上基底；670、770～環(huán)境光(即反射光)；680、780～背光(即透射光)；690、790～半透射式LCD裝置。
具體實施例方式
請參閱圖3A～3C，用以說明本發(fā)明的半透射式LCD中的具有不同厚度的彩色濾光片的工藝，其中，本發(fā)明所公開的液晶顯示器所使用的其它元件與現(xiàn)有相同，不再此贅述。這里要特別說明的是，為了簡單明了地顯示本發(fā)明的特征，圖3A～3C是顯示對應(yīng)任一像素(pixel)的彩色濾光片工藝剖面圖。并且，每一像素之間的可以形成有黑色矩陣(blackmatrix)圖案，但在此省略其圖示。
首先，請參閱圖3A，提供一基底300，該基底300具有一第一區(qū)301與一第二區(qū)302。其中，該基底300例如是玻璃基板。還有，第一區(qū)301對應(yīng)半透射式LCD裝置的透射區(qū)(transmissive region)，而第二區(qū)302對應(yīng)半透射式LCD裝置的反射區(qū)(reflective region)。
其次，仍請參閱圖3A，涂布一厚彩色光致抗蝕劑(color resist)層310于基底300上。其中該厚彩色光致抗蝕劑層310的顏色例如是紅色、綠色或藍色。
其次，請參閱圖3B，去除部分位在第二區(qū)302中的厚彩色光致抗蝕劑層310，而形成一薄彩色光致抗蝕劑層320于位在第二區(qū)302中的基底300上。在此，舉2個例子說明形成圖3B的方法，但并非限定本發(fā)明。
第1例當(dāng)厚彩色光致抗蝕劑層310由正型光致抗蝕劑(positive photoresist)所組成時，則去除部分位在第二區(qū)302中的厚彩色光致抗蝕劑層310的方法，如下述步驟。
請參閱圖4，進行利用一曝光源(exposure light，未圖示)與一光掩模(reticle or photomask)410的一光刻工序(photolithography procedure)，對厚彩色光致抗蝕劑層310進行光刻而去除部分位在第二區(qū)302中的厚彩色光致抗蝕劑層310，藉以在該第二區(qū)302中的該基底300上形成薄彩色光致抗蝕劑層320。其中，該光掩模410包括對應(yīng)第一區(qū)301的一第一圖案420(即完全遮光圖案)，以及對應(yīng)第二區(qū)302的一第二圖案430(即部分透光圖案)。其中第一圖案420用以遮蔽該第一區(qū)301，以避免曝光源照射至第一區(qū)301的厚彩色光致抗蝕劑層310。第二圖案430用以降低穿透該第二區(qū)302的曝光強度，亦即該光掩模410的第二圖案430可使曝光分辨率降低，最低可使分辨率降為1/2左右。
由于第二圖案430需具有降低曝光強度的效果，可利用一半調(diào)圖案(half-tone pattern)加以達成。舉一范例，此第二圖案430可由以適當(dāng)間隙(slit)1050相隔開的多個微圖案1060所構(gòu)成，微圖案1060可為透光圖案或不透光圖案，但是當(dāng)微圖案1060為透光圖案時，圖中用以分隔各微圖案1060的間隙1050就必須為非透光。反之，當(dāng)微圖案1060為非透光圖案時，間隙1050就必須為透光，如圖4所示。藉由控制上述微圖案1060及/或間隙1050的尺寸，使光線被部分阻礙而無法完全透過，就能在進行光刻步驟時降低透光強度而令厚彩色光致抗蝕劑層310不會完全被顯影掉，亦即于顯影完后仍殘留有一定厚度的彩色光致抗蝕劑層(即薄彩色光致抗蝕劑層320)。至于微圖案1060的形狀設(shè)計并未特別限定，可為任何形狀，例如矩形、圓形、方形、長方形、菱形或三角形等等，或是該微圖案1060整體為一長條形。另外，薄彩色光致抗蝕劑層320的膜厚，則可藉由控制上述微圖案1060及/或間隙1050的尺寸來進行調(diào)整。
第2例當(dāng)厚彩色光致抗蝕劑層310由負型光致抗蝕劑(negative photoresist)所組成時，則去除部分位在第二區(qū)302中的厚彩色光致抗蝕劑層310的方法，如下述步驟。
請參閱圖5，進行利用一曝光源(未圖示)與一光掩模510的一光刻工序，對厚彩色光致抗蝕劑層310進行光刻而去除部分位在第二區(qū)302中的厚彩色光致抗蝕劑層310，因而形成薄彩色光致抗蝕劑層320于位在該第二區(qū)302中的該基底300上。其中，該光掩模510包括對應(yīng)第一區(qū)301的一第一圖案520(即透光圖案)，以及對應(yīng)第二區(qū)302的一第二圖案530(即部分透光圖案)。其中第一圖案520用以使該第一區(qū)301的厚彩色光致抗蝕劑層310完全曝光。第二圖案530用以降低穿透該第二區(qū)302的曝光強度，亦即該光掩模510的第二圖案530可使曝光分辨率降低，最低可使分辨率降為1/2左右。
由于第二圖案530需具有降低曝光強度的效果，可利用一半調(diào)圖案(half-tone pattern)加以達成。舉一范例，此第二圖案530可由以適當(dāng)間隙(slit)1070相隔開的多個微圖案1080所構(gòu)成，微圖案1080可為透光圖案或不透光圖案，但是當(dāng)微圖案1080為透光圖案時，圖中用以分隔各微圖案1080的間隙1070就必須為非透光，如圖5所示。反之，當(dāng)微圖案1080為非透光圖案時，間隙1070就必須為透光。藉由控制上述微圖案1080及/或間隙1070的尺寸，使光線被部分阻礙而無法完全透過，就能在進行光刻步驟時降低透光強度而令厚彩色光致抗蝕劑層310不會完全被顯影掉，亦即于顯影完后仍殘留有一定厚度的彩色光致抗蝕劑層(即薄彩色光致抗蝕劑層320)。至于微圖案1080的形狀設(shè)計并未特別限定，可為任何形狀，例如矩形、圓形、方形、長方形、菱形或三角形等等，或是該微圖案1080整體為一長條形。另外，薄彩色光致抗蝕劑層320的膜厚，則可藉由控制上述微圖案1080及/或間隙1070的尺寸來進行調(diào)整。
另外這里要說明的是，上述厚彩色光致抗蝕劑層310所使用的正型光致抗蝕劑或負型光致抗蝕劑，兩者均屬于感光性樹脂或高分子材料。正型光致抗蝕劑是光致抗蝕劑本身難溶于顯影劑，但經(jīng)曝光后，會解離成一種溶于顯影液的結(jié)構(gòu)；負型光致抗蝕劑是光致抗蝕劑經(jīng)曝光后會產(chǎn)生鏈接，使曝光后的光致抗蝕劑結(jié)構(gòu)不溶于顯影劑。只要是一般市售的彩色“正型光致抗蝕劑”或“負型光致抗蝕劑”皆適用于本發(fā)明工藝中而能達成本發(fā)明的功效。
之后，請參閱圖3C，為了利于將來要進行后續(xù)工藝，可于該厚彩色光致抗蝕劑層310與該薄彩色光致抗蝕劑層320上形成一具有高透射率(或稱高透明度)的平坦層(transparent planarization layer，或稱overcoat)330。其中，該平坦層330由有機絕緣材料或無機絕緣材料所組成，有機絕緣材料例如是苯并環(huán)丁烯(BCB)、丙烯酸樹脂(acryl resin)等等，而無機絕緣材料例如是SiO2、SiNx等等。如此，即完成了本發(fā)明的具有不同厚度的彩色濾光片。
這里要特別提醒的是，本發(fā)明僅使用一道光刻步驟以及一個光掩模(410/510)來形成具有不同厚度的彩色濾光片，因此可以降低制造成本。再者，由于本發(fā)明的彩色濾光片是形成于平坦的基底300上，因而可以容易地控制彩色濾光片的厚度。
再來，請參閱圖6，用以說明本發(fā)明的具有不同厚度的彩色濾光片，應(yīng)用于一半透射式LCD裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。在此為了不混淆本發(fā)明的特征，故不予詳述半透射式LCD裝置的工藝。
一種具有不同厚度的彩色濾光片的半透射式LCD裝置690，包括下述組成一下基底600，其上具有一絕緣層610，且該下基底600可以包含有薄膜晶體管陣列(未圖示)。
一下電極(或稱反射電極，reflective electrode)620，位于該絕緣層610上，該下電極620具有反射區(qū)622與透射區(qū)624，其中該反射區(qū)622例如是鋁層，而該透射區(qū)624例如是銦錫氧化物(ITO)層或銦鋅氧化物(IZO)層。
一上基底660，其相對應(yīng)于該下基底600的一表面上具有一彩色濾光片650，其中該彩色濾光片650具有第一厚度區(qū)651與第二厚度區(qū)652，其中，于本發(fā)明的一優(yōu)選實施例中，該第一厚度區(qū)651為厚度較厚的區(qū)域且對應(yīng)該透射區(qū)624，而第二厚度區(qū)652為厚度較薄的區(qū)域且對應(yīng)該反射區(qū)622。
一平坦層(或稱覆蓋層，overcoat)645，位于該彩色濾光片650上而相對應(yīng)于該上基底660，該平坦層645為一高透射率的材質(zhì)所形成，其材質(zhì)例如是SiO2、SiNx等等。
一上電極(或稱公共電極，common electrode)640，位于該透明的平坦層645上而相對應(yīng)于該彩色濾光片650，該上電極640例如是ITO或IZO層。
一液晶層630，夾于該上基底660與該下基底600之間。
因此，上述半透射式LCD裝置690在反射模式(reflective mode)時，因為環(huán)境光(ambient light，即反射光)670透過彩色濾光片650的第二厚度區(qū)652的次數(shù)是兩次。而在透射模式(transmissive mode)時，背光(backlight，即透射光)680透過彩色濾光片650的第一厚度區(qū)651的次數(shù)是一次。由于第一厚度區(qū)651比第二厚度區(qū)652的厚度厚，所以使得在反射模式與透射模式下的顯示顏色相近，亦即解決現(xiàn)有色彩濃度(色飽和度，color purity)相差很大的問題，而能提升顯示品質(zhì)(display-quality)。
再請參閱圖7，用以說明本發(fā)明的具有不同厚度的彩色濾光片，應(yīng)用于另一型的半透射式LCD裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。圖7所示的半透射式LCD裝置采用COA(陣列上彩色濾光片，color filter on array)的技術(shù)，其能增進上下基板的對準(zhǔn)度。在此為了不混淆本發(fā)明的特征，故不予詳述上述半透射式LCD裝置的工藝。
一種具有不同厚度的彩色濾光片的半透射式LCD裝置790，包括下述組成一下基底700，其上具有一絕緣層710，且該下基底700可以包含有薄膜晶體管陣列(未圖示)。
一下電極(或稱反射電極，reflective electrode)720，位于該絕緣層710上，該下電極720具有反射區(qū)722與透射區(qū)724，其中該反射區(qū)722例如是鋁層，而該透射區(qū)724例如是銦錫氧化物(ITO)層或銦鋅氧化物(IZO)層。
經(jīng)由本發(fā)明方法制造的具有不同厚度的一彩色濾光片730，形成于該下電極720上。其中該彩色濾光片730具有第一厚度區(qū)731與第二厚度區(qū)732，其中，該第一厚度區(qū)731為厚度較厚的區(qū)域且對應(yīng)該透射區(qū)724，而第二厚度區(qū)732為厚度較薄的區(qū)域且對應(yīng)該反射區(qū)722。
一平坦層(或稱覆蓋層，overcoat)740，位于該彩色濾光片730上，該平坦層740為一高透射率的材質(zhì)所形成，其材質(zhì)例如是SiO2、SiNx等等。
一上基底760，其相對應(yīng)于該下基底700。
一上電極(或稱公共電極，common electrode)750，位于該上基底760上，該上電極750例如是ITO或IZO層。
一液晶層755，夾于該上基底760與該下基底700之間。
因此，上述半透射式LCD裝置790在反射模式時，因為環(huán)境光(即反射光)770透過彩色濾光片730的第二厚度區(qū)732的次數(shù)是兩次。而在透射模式時，背光(即透射光)780透過彩色濾光片730的第一厚度區(qū)731的次數(shù)是一次。由于第一厚度區(qū)731比第二厚度區(qū)732的厚度厚，所以使得在反射模式與透射模式下的顯示顏色相近，亦即解決現(xiàn)有色彩濃度(色飽和度)相差很大的問題，而能提升顯示品質(zhì)。
以上僅舉一利用一具有半調(diào)圖案的光掩模形成具有不同厚度的半透射式LCD裝置的彩色濾光片為例，但是該具有不同厚度的彩色濾光片亦可利用一具有不同透射率的光掩模加以達成，例如于一光掩模中同時具有一透射區(qū)及一半透射區(qū)，使光致抗蝕劑的曝光程度不同，而使光致抗蝕劑形成不同的區(qū)域。
本發(fā)明的特征與優(yōu)點本發(fā)明的特征在于利用光掩模上不同的分辨率或透射率，使相對應(yīng)反射區(qū)的彩色濾光片部分移除，而形成一具有不同厚度的彩色濾光片，并將該彩色濾光片應(yīng)用于半透射式LCD裝置。
如此，經(jīng)由本發(fā)明，使得具有不同厚度的彩色濾光片能夠以一道光掩模來形成，不僅可以提升半透射式LCD裝置的顯示品質(zhì)，亦能達成降低成本的目的。再者，與現(xiàn)有方法相比，由于本發(fā)明的彩色濾光片是形成于平坦的基底上，所以能夠較容易地控制彩色濾光片中各區(qū)的膜厚，因而能解決現(xiàn)有的色彩濃度(色飽和度，color purity)相差的問題。
本發(fā)明雖以優(yōu)選實施例公開如上，但是其并非用以限定本發(fā)明的范圍，本領(lǐng)域技術(shù)人員在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，應(yīng)當(dāng)可做些許的更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護范圍應(yīng)當(dāng)以所附權(quán)利要求所確定的為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種具有不同厚度彩色濾光片的半透射式液晶顯示裝置，具有一透射區(qū)與一反射區(qū)，該半透射式液晶顯示裝置包括一第一基底與一對向的一第二基底；一彩色濾光片，位于該第一基底上，其中對應(yīng)該透射區(qū)的該彩色濾光片具有一第一厚度，對應(yīng)該反射區(qū)的該彩色濾光片具有一第二厚度，該第一厚度大于該第二厚度；以及一液晶層，夾于該第二基底與該彩色濾光片之間。
2.如權(quán)利要求1所述的具有不同厚度彩色濾光片的半透射式液晶顯示裝置，其中該第一基底包含一薄膜晶體管陣列。
3.如權(quán)利要求1所述的具有不同厚度彩色濾光片的半透射式液晶顯示裝置，其中該第二基底包含一薄膜晶體管陣列。
4.如權(quán)利要求1所述的具有不同厚度彩色濾光片的半透射式液晶顯示裝置，還包括一平坦層設(shè)于該彩色濾光片和該液晶層之間。
5.一種具有不同厚度彩色濾光片的半透射式液晶顯示裝置，包括一下基底，其上具有一絕緣層；一下電極，形成于該絕緣層上，該下電極具有一反射區(qū)與一透射區(qū)；一上基底，對向于該下基底；一彩色濾光片，設(shè)置于該上基底的一表面，其中該彩色濾光片具有一第一厚度區(qū)與一第二厚度區(qū)，其中該第一厚度區(qū)的厚度大于該第二厚度區(qū)，而且該第一厚度區(qū)對應(yīng)該透射區(qū)，而第二厚度區(qū)對應(yīng)該反射區(qū)；一上電極，形成于該彩色濾光片上且對向于該下基底；以及一液晶層，夾于該上基底與該下基底之間。
6.如權(quán)利要求5所述的具有不同厚度彩色濾光片的半透射式液晶顯示裝置，還包括一平坦層設(shè)置于該彩色濾光片和該液晶層之間。
7.一種具有不同厚度彩色濾光片的半透射式液晶顯示裝置，包括一下基底，其上具有一絕緣層；一下電極，形成于該絕緣層上，該下電極具有一反射區(qū)與一透射區(qū)；一彩色濾光片，形成于該下電極上，其中該彩色濾光片具有一第一厚度區(qū)與一第二厚度區(qū)，其中該第一厚度區(qū)的厚度大于該第二厚度區(qū)，而且該第一厚度區(qū)對應(yīng)該透射區(qū)，而第二厚度區(qū)對應(yīng)該反射區(qū)；一上基底，對向于該下基底；一上電極，形成于該上基底上，且對向于該下基板；以及一液晶層，夾于該上電極與該彩色濾光片之間。
8.如權(quán)利要求7所述的具有不同厚度彩色濾光片的半透射式液晶顯示裝置，還包括一平坦層設(shè)置于該彩色濾光片和該液晶層之間。
9.一種具有不同厚度彩色濾光片的制造方法，包括下列步驟(a)是供一基底，該基底具有一第一區(qū)與一第二區(qū)；(b)形成一厚彩色光致抗蝕劑層于該基底上；以及(c)進行利用一光掩模的一光刻工序，用以對該厚彩色光致抗蝕劑層進行光刻而去除部分位在該第二區(qū)中的該厚彩色光致抗蝕劑層，因而形成一薄彩色光致抗蝕劑層于位在該第二區(qū)中的該基底上。
10.如權(quán)利要求9所述的具有不同厚度彩色濾光片的制造方法，其中該光掩模上對應(yīng)于該第二區(qū)的圖案為一半調(diào)圖案。
11.如權(quán)利要求9所述的具有不同厚度彩色濾光片的制造方法，其中該光掩模上對應(yīng)于該第二區(qū)的圖案包含多個微圖案。
12.如權(quán)利要求9所述的具有不同厚度彩色濾光片的制造方法，其中該第一區(qū)對應(yīng)一半透射式液晶顯示器的透射區(qū)，而該第二區(qū)對應(yīng)該半透射式液晶顯示器的反射區(qū)。
13.如權(quán)利要求9所述的具有不同厚度彩色濾光片的制造方法，其中該厚彩色光致抗蝕劑層為正型光致抗蝕劑，該光掩模包括對應(yīng)該第一區(qū)的一完全遮光圖案、以及對應(yīng)該第二區(qū)的一部分透光圖案。
14.如權(quán)利要求9所述的具有不同厚度彩色濾光片的制造方法，其中該厚彩色光致抗蝕劑層為負型光致抗蝕劑，該光掩模包括對應(yīng)該第一區(qū)的一完全透光圖案、以及對應(yīng)該第二區(qū)的一部分透光圖案。
15.如權(quán)利要求9所述的具有不同厚度彩色濾光片的制造方法，還包括形成一平坦層覆蓋于該厚彩色光致抗蝕劑層與該薄彩色光致抗蝕劑層上。
全文摘要
本發(fā)明提供一種彩色濾光片的制造方法以及半透射式液晶顯示裝置。彩色濾光片具有不同厚度，該半透射式液晶顯示裝置具有該濾光片。該液晶顯示裝置包含一下基底，其上具有一絕緣層；一下電極，位于絕緣層上，而下電極具有一反射區(qū)與一透射區(qū)；一上基底，其相對應(yīng)于下基底的一表面上具有一彩色濾光片，其中彩色濾光片具有不同的厚度區(qū)；一平坦層，位于彩色濾光片上；一上電極，位于平坦層上；一液晶層，設(shè)置于上基底與下基底之間。
文檔編號G02B5/23GK1523436SQ200410001489
公開日2004年8月25日 申請日期2004年1月9日 優(yōu)先權(quán)日2003年8月8日
發(fā)明者張明欽, 吳仰恩, 陳伯綸, 胡至仁, 林敬桓 申請人:友達光電股份有限公司