專利名稱：圖案生成裝置和用于測量表面物理特性的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在用于曝光設(shè)備的表面，優(yōu)選在石英制成的玻璃板上，寫入圖案的方法，如權(quán)利要求1所限定。本發(fā)明還涉及測量表面物理特性來確定平板表面形狀的方法，如權(quán)利要求10所限定。另外，本發(fā)明涉及測量表面物理特性來確定平板表面形狀的裝置，如權(quán)利要求15所限定，和在用于曝光設(shè)備的表面，優(yōu)選在石英制成的玻璃板上，或直接在半導(dǎo)體材料上，寫入圖案的裝置，如權(quán)利要求21所限定。
背景技術(shù)：
當生產(chǎn)大顯示器或顯示器部件、彩色濾光片，以及其它類似應(yīng)用時，曝光系統(tǒng)從玻璃板將圖像轉(zhuǎn)印到相當大的基板，玻璃板優(yōu)選由高質(zhì)量石英制成，其具有高達1100mm乘以1300mm或更大尺寸。曝光系統(tǒng)包括定位器或分檔器，其通過玻璃板發(fā)射光并照射到基板上，參見圖1。玻璃板用兩根標尺或可替換地用框架保持在適當位置，因此，玻璃板的形狀會變形，定位器或分檔器補償該計算的變形。帶有圖像圖案的玻璃板正面設(shè)置在標尺上，通過系統(tǒng)在基板上準確復(fù)制的圖像取決于玻璃板正面的絕對平整。
掩模的定位(即，在笛卡兒坐標系統(tǒng)中的絕對位置)足夠精確是非常重要的，讓來自不同系統(tǒng)(即，彩色濾光片和TFT陣列)的掩模組合。而且，大的TFT基板可以用兩個或更多掩模拼接在一起，以覆蓋大的曝光面積。
在用于小平板的圖案生成系統(tǒng)中，在圖案生成和測量過程中，三角裝置用于支撐平板，但是，厚度為10mm和尺寸為1000×1000mm的玻璃板的重量大約是40kg，其不適于放在三個定位銷上?？商鎿Q的方法是使用氣墊用于平板支撐，但是，這會導(dǎo)致象在圖案的曝光過程中確定平板準確位置的其它問題。另一可替換的方法是處理將平板直接放在圖案形成裝置的工作臺(即，支架)上時產(chǎn)生的結(jié)果，盡管平板會變形。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種用于在與寫入圖案時產(chǎn)生的任何物理變形無關(guān)的物體表面寫入圖案的方法和圖案發(fā)生裝置。
該目的通過如權(quán)利要求1所限定的方法和如權(quán)利要求21所限定的裝置來實現(xiàn)。
本發(fā)明的另一目的是提供測量與測量物體時產(chǎn)生的任何物理變形無關(guān)的物體的表面的方法和裝置。
該目的通過如權(quán)利要求10所限定的方法和如權(quán)利要求15所限定的裝置來實現(xiàn)。
本發(fā)明的優(yōu)點是在圖案生成裝置(或測量裝置)的支撐中的不平整不會在圖案或測量中引入任何誤差。
另一優(yōu)點是物體(即，玻璃板或半導(dǎo)體材料)的背面和/或正面的任何不平整不會在圖案或測量中引入任何誤差。
本發(fā)明的另一優(yōu)點是以夾帶在物體和支撐之間的顆粒和/或空氣形式的污染物可以得到補償，從而不會在圖案或測量中引入任何誤差。
另一優(yōu)點是可能完全校正在曝光設(shè)備中產(chǎn)生的變形和在圖案寫入過程中形成的變形，只要在測量平板時已知在曝光設(shè)備中的變形的信息，如相同申請人在出版的國際專利申請WO 00/72090中所公開。


圖1表示依照現(xiàn)有技術(shù)的曝光系統(tǒng)。
圖2表示依照現(xiàn)有技術(shù)的圖案生成裝置。
圖3圖示用于計算依照本發(fā)明偏移量的平板彎曲效應(yīng)。
圖4a和4b圖示當設(shè)置在平板支撐上時，具有平整頂面和成形底面的玻璃板的彎曲效應(yīng)和參考表面的引入。
圖5a和圖5b圖示當設(shè)置在平板支撐上時，具有成形頂面和平整底面的玻璃板的彎曲效應(yīng)和參考表面的引入。
圖6a和圖6b圖示當設(shè)置在成形支撐上時，具有平整頂面和平整底面的玻璃板的平板彎曲效應(yīng)和參考表面的引入。
圖7a和7b表示測量的玻璃板x-y坐標和利用校正函數(shù)補償?shù)南嗤ＡО鍃-y坐標，圖7c表示沒有補償?shù)臏y量和具有補償?shù)臏y量之間的差。
圖8表示具有使平板形狀變形的顆粒的玻璃板的三維測量。
圖9a和9b表示圖8所示的測量的玻璃板x-y坐標，和利用校正函數(shù)補償?shù)南嗤ＡО鍃-y坐標。
具體實施例方式
圖1表示使用擱在兩根標尺12上的玻璃板11的曝光系統(tǒng)10。當放在標尺12上時，玻璃板11的重量造成玻璃板11彎曲。由重量造成的玻璃板的變形易于計算并能夠校正。玻璃板11具有在朝下擱在標尺12上的表面13上設(shè)置的圖案。光源14將光15照射到玻璃板11上，在玻璃板11的表面13上設(shè)置的圖案在基板16上產(chǎn)生圖案的拷貝?；?6可以是用于TV顯示器的TFT。通常，圖案以一一對應(yīng)的關(guān)系轉(zhuǎn)印到基板16上。
在圖1中沒有示出其它必備的光學(xué)設(shè)備，因為附圖的目的是描述功能原理，而不是整個曝光系統(tǒng)。
圖2表示圖案生成裝置20，其也可以用作測量裝置，包括寫入圖案的裝置21，例如，引導(dǎo)來自激光器的激光束的反射鏡，和測量所述裝置20和玻璃板11的表面13之間的高度Hz的裝置22，寫入圖案的表面13朝上放在支撐23上，支撐23稱為工作臺。圖案寫入裝置21可以在工作臺的整個表面上平移，其可以以許多方式實現(xiàn)移動。圖2圖示工作臺具有沿x方向相對圖案寫入裝置21移動其的一種方式，圖案寫入裝置21連接設(shè)置在梁25上的滑動支撐24，以沿y方向移動圖案寫入裝置。實現(xiàn)圖案寫入裝置平移的另一種可能方式是提供沿x和y方向移動工作臺而不移動圖案寫入裝置的裝置，或圖案寫入裝置具有沿x和y方向移動而不移動工作臺的裝置。
所述裝置20還具有通過氣墊27在玻璃板11的表面13上以不變距離設(shè)置的成角度的腳板26。腳板26和圖案寫入裝置21經(jīng)過柔性連接28連接滑動支撐24，讓滑動支撐24和圖案寫入裝置/腳板之間的距離根據(jù)玻璃板11的表面13的粗糙度來變化?？梢詼y量沿z方向變化的距離(即，高度Hz)，以計算表面13沿z方向的表面粗糙度。平行于玻璃板11的表面13的腳板的尺寸具有用于圖案寫入裝置21的激光束的開口，并優(yōu)選相當大，即，每側(cè)5mm，因為測量的目的是在相當長的距離上檢測高度的偏差。由于腳板和玻璃板之間的距離不變，在腳板下面的氣墊起圖案生成裝置的自動聚焦裝置的作用。
但是，本發(fā)明不應(yīng)該限于這種使用氣墊作為自動聚焦裝置的圖案生成裝置，而是可以使用提供系統(tǒng)聚焦的其它類型的系統(tǒng)?；静糠质茄b置20具有測量裝置和玻璃板11的表面13之間的高度Hz的裝置，因此，當圖案寫入裝置21相對工作臺23移動并且同時相對表面13移動時，高度變化。
本發(fā)明的基本部分是針對計算的高度Hz的差確定參考面。該差用H表示，如圖3所示。參考面可以具有任何期望的形狀，只要參考面的形狀保持不變。優(yōu)選地，參考面的形狀是平面。
如果可能的話，期望使用“自由”(無引力)形式，即，平板的中心線作為參考面，其實際上相當難實現(xiàn)。平板的底面用于參考面不是好的選擇，因為分檔器或定位器使用頂面作為參考。
另一方面，如果頂面用作參考面，另外需要知道平板的底面形狀和支撐的形狀?？梢垣@得支撐的形狀，但是，實際上非常難知道底面的形狀。但是，不知道底面可以測量頂面。由于平板的重量，放在三腳上的大玻璃板會變形，但是，如果知道平板的厚度、平板的材料和三腳的結(jié)構(gòu)，可以計算理想板的變形函數(shù)。當放在三腳上時，非理想玻璃板的測量形成變形板的測量。那么，用變形板的測量減去理想板的計算的變形函數(shù)計算頂面的形狀。
與底面相比，玻璃板的頂面通常更平整，即，相對中心線的高度變化更小，因此，最好的折衷應(yīng)該是將平板的頂面作為參考面。但是，應(yīng)該注意，由于在曝光系統(tǒng)的以下步驟中玻璃板的變形，并不證明頂面是最佳選擇，如圖1所示。如果玻璃板靠近擱在標尺13位置的頂面13出現(xiàn)變化，表在標尺12附近的表面13上的圖案會變形。
但是，應(yīng)該注意，雖然優(yōu)選頂面，任何表面可以用作參考表面。
圖3圖示厚度為T的玻璃板的平板彎曲效應(yīng)。確定參考面30，在這個實例中，參考面是平整的，玻璃板分成幾個測量點31，用圖2所示的裝置22測量每個測量點的高度Hz。用裝置20的玻璃板11的表面13的測量高度Hz減去在測量點的參考面30的高度，容易計算參考平面30和玻璃板11的變形表面13之間的高度H。
然后，根據(jù)三個變量玻璃板的厚度(T)、相鄰測量點(P)之間的距離和參考面30與玻璃板11的表面13之間的測量高度(H)，計算每個測量點的局部偏移量d(作為x和y的函數(shù))。局部偏移量應(yīng)該轉(zhuǎn)換成寫入圖案的位置與參考面的位置偏差，如圖4-6所述。在平板表面上的間距P與在參考面上的標稱間距Pnom不同。
相鄰測量點之間的距離應(yīng)該不超過預(yù)定距離，其取決于從測量得到合理的好結(jié)果的測量所需的精度。例如，如果玻璃板11的厚度大約為10mm并且玻璃板的材料是石英，相鄰測量點之間的最大距離是50mm。相鄰測量點之間的距離還根據(jù)玻璃板的厚度變化，以獲得相同的測量精度。玻璃板的厚度變化大約為10-15μm，但是，可以更大。測量點可以隨機分布在表面13上，但是，優(yōu)選設(shè)置成每個點之間具有預(yù)定距離(即，間距)的柵格結(jié)構(gòu)，在x和y方向無需相同。
局部偏移量是每個測量點在x和y方向梯度的函數(shù)，可以利用非常簡單的表達式計算。
由提供的測量高度H和已知的兩個相鄰測量點31a之間的距離P可以計算角度α。
對于小角度αα=HP]]>而且，假若α是小的，可以利用公式計算局部偏移量dd=T2*α=H*T2*P]]>但是，應(yīng)該注意，上述用于計算局部偏移量d的公式僅僅是確定偏移量d的非限制性實例。每個測量點的梯度可以用系統(tǒng)直接測量，局部偏移量與梯度和平板厚度成比例。
如上所述，圖3圖示一維的彎曲效應(yīng)，但是，局部偏移量d是每個測量點偏差的二維函數(shù)(dx和dy)。
作為非限制性實例，我們假定兩個相鄰點31之間的距離為40mm，玻璃板的厚度為10mm，測量高度H為1μm，得到125nm的一維局部偏移量d。
圖4a和4b圖示當用平整支撐45支撐時，具有平整頂面43和成形底面42的玻璃板41的彎曲效應(yīng)和參考表面44的引入，其中在該實例中的參考面44是平整的。
當玻璃板41設(shè)置在平整支撐45上時，頂面43的形狀變化，底面42通常隨著平整支撐45。這種結(jié)果是在頂面形成的圖案(用點46圖示)必須擴大，以獲得正確的參考面。
圖5a和圖5b圖示當設(shè)置在平板支撐45上時，具有成形頂面53和平整底面52的玻璃板51的彎曲效應(yīng)和參考表面44的引入，其中在這個實例中的參考面44是平整的。
當玻璃板51設(shè)置在平整支撐45上時，頂面53的形狀不變，底面52將隨著平整支撐45。因為位于圖1所述的曝光設(shè)備中時頂面不平，在頂面上形成的圖案(用點55圖示)必須擴大，至少在標尺12附近獲得正確的參考面。正好位于標尺12之間的部分玻璃板會變形。而且，標尺使玻璃板上的圖案變形，除非標尺12的形狀與參考面的形狀一致。
圖6a和圖6b圖示當設(shè)置在成形支撐62上時，具有平整頂面43和平整底面52的玻璃板61的平板彎曲效應(yīng)和參考表面44的引入，其中在這個實例中的參考面44是平整的。
當玻璃板61設(shè)置在成形支撐62上時，頂面43的形狀變化，底面52的形狀通常隨著成形支撐62。當位于圖1所示的曝光設(shè)備中時，因為頂面不平，在頂面形成的圖案(用點64圖示)必須擴大，以獲得正確的參考面。
圖4a-4b，5a-5b，6a-6b圖示極端的狀況，實際上，在玻璃板上寫入圖案的處理過程中所有三種變化都存在。
但是，因為來自底面、支撐面和污染物(參見圖8，9a和9b)所有誤差被消除或至少減小，總誤差小得多。
圖7a表示測量的參考玻璃板x-y坐標和利用依照本發(fā)明的計算校正函數(shù)補償?shù)南嗤瑓⒖疾ＡО鍃-y坐標。圖7b表示在參考玻璃板的表面繪出標記的x-y坐標的同時獲得的測量高度H(z校正數(shù)據(jù))。圖7c表示沒有補償?shù)臏y量和具有補償?shù)臏y量之間的差。
在這個實例中，玻璃板的尺寸為800×800mm，圖7a中每根虛線70之間的距離為50mm，在每根虛線70之間，兩個繪制圖表的偏差的刻度(scale)是500nm。灰線71對應(yīng)于在參考玻璃板上的x和y坐標的測量偏差?；趫D7b所示的測量高度H，黑線72對應(yīng)于利用z校正效應(yīng)、相同參考玻璃板的補償x和y坐標。與確定的參考面相比，最小高度為-20.705μm，最大高度為+16.664μm，高度H表示為函數(shù)73。在x和y方向的線之間的距離與圖7a中的相同，即，50mm，z方向的線之間的距離為2μm。
圖7c清楚地圖示圖7a中的兩個函數(shù)之間的偏差。當圖7b中的測量高度H與圖7c中的偏差比較時，容易看出高度變形與局部偏移量之間的關(guān)系。當高度變形為零時，如在位置74，局部偏移量d為零。當高度變形大時，如在位置75，局部偏移量d大。
從低H值到高H值的漸增對應(yīng)于具有“負”彎曲的玻璃板，如圖3所示，反之亦然。當在x和y方向的高度變形的變化最大時，計算的局部偏移量(即，灰線與黑線之間的差)最大。
圖8表示具有分別放在平板和支撐之間、高度為16μm和6μm的兩現(xiàn)有顆粒的玻璃板的三維測量80。利用柵格結(jié)構(gòu)進行測量，測量點之間的距離設(shè)定為50mm，平板的厚度為10mm。在z方向的刻度設(shè)定為2μm每分度(division)。大顆粒的存在造成圖9a所示的x和y方向測量偏差大于500nm。
圖9a表示圖8所示的測量的玻璃板x-y坐標，圖9b表示利用由圖8中測量的偏差高度測量所計算的校正函數(shù)補償?shù)南嗤ＡО鍃-y坐標。對于在玻璃板上形成的最終圖像，顆粒的影響將大大地減小，如圖9b所示。
雖然在本專利申請中玻璃板用作圖示的實例，權(quán)利要求的范圍不應(yīng)該限于玻璃制成的平板。
而且，圖案生成裝置當然包括對任何可重復(fù)誤差的校正函數(shù)，這些誤差例如是，為了制造TFT陣列在基板中存在的誤差，其中TFT陣列在制造基板的過程中插入基板，以及在如上所述的定位器或分檔器的制造過程中引入的可重復(fù)誤差。
當然，該方法可以轉(zhuǎn)化為計算機程序來實施，從而測量和計算每個測量點的局部偏移量。
如本發(fā)明背景技術(shù)所述，掩模的定位足夠精確是非常重要的，以減小在制造平板顯示器(諸如薄膜晶體管(TFT)顯示器，液晶顯示器(LCD)或等離子體顯示板(PDP))的過程中使用的掩模之間的差。通過使用用于形成圖案的校正方法，如上所述，可能通過放置幾層各自帶有圖案的掩模在彼此的上面構(gòu)成電路圖案。在制造過程中，有些層比另一層容易定位，圖案生成方法的使用將增加制造過程的產(chǎn)量。
權(quán)利要求
1.一種在用于曝光設(shè)備的表面寫入圖案的方法，包括以下步驟將具有一表面和一厚度(T)的物體設(shè)置在圖案生成裝置的工作臺上，將所述表面分成多個測量點，其中兩個相鄰測量點間隔距離(P)不超過預(yù)定最大距離，在每個測量點確定所述表面的梯度，計算每個測量點在x-y平面的二維局部偏移量(d)，所述二維局部偏移量(d)為所述梯度和物體厚度(T)的函數(shù)，和利用所述二維局部偏移量(d)校正在所述表面寫入的圖案。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述校正圖案的步驟包括以下步驟利用每個測量點所測量的二維局部偏移量(d)確定用于所述表面的校正函數(shù)，和用所述圖案生成裝置利用所述校正函數(shù)在所述表面上寫入圖案。
3.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述確定所述梯度的步驟包括在每個測量點測量所述表面的高度的變化。
4.如權(quán)利要求3所述的方法，其中所述測量所述表面的高度的變化的步驟包括以下步驟確定參考面，測量所述參考面和每個測量點的所述物體表面之間的高度(H)，從而計算在所述x-y平面的二維局部偏移量(d)，所述二維局部偏移量(d)為所測量高度(H)、與至少一個鄰近測量點中的每一個相距的距離(P)和所述物體的厚度(T)的函數(shù)。
5.如權(quán)利要求4所述的方法，其中利用以下公式計算所述局部偏移量(d)d＝(T*H)/(2*P)
6.如權(quán)利要求3所述的方法，其中所述測量點設(shè)置成沿x方向具有第一預(yù)定間隔和沿y方向具有第二預(yù)定間隔的柵格結(jié)構(gòu)。
7.如權(quán)利要求4所述的方法，其中所述參考表面和所述物體表面之間的高度(H)是由所述工作臺的不平整、和/或所述物體的一個或兩個表面的不平整、和/或位于所述工作臺和所述物體之間的不期望的物件引起的。
8.如權(quán)利要求7所述的方法，其中所述不期望的物件可以是夾帶的空氣或顆粒。
9.如權(quán)利要求1所述的方法，其中選擇所述物體的頂面帶有所述圖案。
10.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述校正函數(shù)在隨后的處理步驟中還補償來自所述曝光設(shè)備的預(yù)期變形。
11.一種用于測量表面物理特性的方法，包括以下步驟將具有一表面和一厚度(T)的物體設(shè)置在圖案生成裝置的工作臺上，將所述表面分成多個測量點，其中兩個相鄰測量點間隔距離(P)不超過預(yù)定最大距離，在每個測量點確定所述表面的梯度，計算每個測量點在x-y平面的二維局部偏移量(d)，所述二維局部偏移量(d)為所述梯度和物體厚度(T)的函數(shù)，和利用每個測量點的所計算的二維局部偏移量(d)，確定用于所述表面的校正函數(shù)。
12.如權(quán)利要求11所述的方法，其中所述確定梯度的步驟包括在每個測量點測量所述表面的高度的變化。
13.如權(quán)利要求12所述的方法，其中所述測量所述表面的高度的變化的步驟包括以下步驟確定參考面，測量所述參考面和每個測量點的所述物體表面之間的高度(H)，從而計算在所述x-y平面的二維局部偏移量(d)，所述二維局部偏移量(d)為所測量高度(H)、與至少一個鄰近測量點中的每一個相距的距離(P)和所述物體的厚度(T)的函數(shù)。
14.如權(quán)利要求11所述的方法，其中所述物體是參考物體，所述表面在每個測量點具有標記。
15.一種用于測量表面的物理特性的測量裝置，包括支撐具有一表面和一厚度(T)的物體的工作臺，所述表面分成多個測量點，其中兩個相鄰測量點間隔距離不超過預(yù)定最大距離，在每個測量點確定所述表面的梯度的裝置，計算每個測量點在x-y平面的作為梯度和物體厚度(T)的函數(shù)的二維局部偏移量(d)的裝置，和利用每個測量點的所測量的二維局部偏移量(d)確定用于所述表面的校正函數(shù)的裝置。
16.如權(quán)利要求15所述的測量裝置，其中所述確定梯度的裝置包括在每個測量點測量所述表面的高度的變化的裝置。
17.如權(quán)利要求16所述的測量裝置，其中所述測量所述表面的高度的變化的裝置包括確定參考面的裝置，測量所述參考面和每個測量點的所述物體的表面之間的高度(H)的裝置，從而計算在所述x-y平面的二維局部偏移量(d)，所述二維局部偏移量(d)為所測量高度(H)、與至少一個鄰近測量點中的每一個相距的距離(P)和所述物體的厚度(T)的函數(shù)。
18.如權(quán)利要求15所述的測量裝置，其中所述物體是參考物體，所述表面在每個測量點具有標記。
19.如權(quán)利要求15所述的測量裝置，其中在所述物體上的測量點設(shè)置成沿x方向具有第一預(yù)定間隔和沿y方向具有第二預(yù)定間隔的柵格圖案。
20.如權(quán)利要求15所述的測量裝置，其中在所述物體上的測量點任意設(shè)置。
21.一種用于在物體表面上寫入圖案的圖案生成裝置，包括支撐具有一表面和一厚度(T)的物體的工作臺，所述表面分成多個測量點，其中兩個相鄰測量點間隔距離不超過預(yù)定最大距離，在每個測量點確定所述表面的梯度的裝置，計算每個測量點在x-y平面的作為梯度和物體厚度(T)的函數(shù)的二維局部偏移量(d)的裝置，和利用所述二維局部偏移量(d)校正在所述表面寫入的圖案的裝置。
22.如權(quán)利要求21所述的圖案生成裝置，其中所述校正圖案的裝置包括利用每個測量點的所測量的二維局部偏移量(d)確定用于所述表面的校正函數(shù)的裝置，和用所述圖案生成裝置利用所述校正函數(shù)在所述表面上寫入圖案的裝置。
23.如權(quán)利要求21所述的圖案生成裝置，其中所述確定梯度的裝置包括在每個測量點測量所述表面的高度的變化的裝置。
24.如權(quán)利要求23所述的圖案生成裝置，其中所述測量所述表面的高度的變化的裝置包括確定參考面的裝置，測量所述參考面和每個測量點的所述物體的表面之間的高度(H)的裝置，從而計算在所述x-y平面的二維局部偏移量(d)，所述二維局部偏移量(d)為所測量高度(H)、與至少一個鄰近測量點中的每一個相距的距離(P)和所述物體的厚度(T)的函數(shù)。
25.如權(quán)利要求24所述的圖案形成裝置，其中利用以下公式計算所述局部偏移量(d)d＝(T*H)/(2*P)
26.如權(quán)利要求21所述的圖案生成裝置，其中在所述物體上的測量點設(shè)置成沿x方向具有第一預(yù)定間隔和沿y方向具有第二預(yù)定間隔的柵格圖案。
27.如權(quán)利要求21所述的圖案生成裝置，其中在所述物體上的測量點任意設(shè)置。
28.如權(quán)利要求24所述的圖案生成裝置，其中所述參考表面和所述物體之間的高度(H)是由所述工作臺的不平整、和/或所述物體的一個或兩個表面的不平整、和/或位于所述工作臺和所述物體之間的不期望的物件引起的。
29.如權(quán)利要求28所述的圖案生成裝置，其中所述不期望物件可以是夾帶的空氣或顆粒。
30.如權(quán)利要求21所述的圖案生成裝置，其中所述物體的頂面帶有圖案。
31.如權(quán)利要求21所述的圖案生成裝置，其所述裝置具有計算還在隨后的處理步驟中補償來自曝光設(shè)備的預(yù)期變形的校正函數(shù)的裝置。
32.如權(quán)利要求21所述的圖案生成裝置，其中所述物體用于曝光設(shè)備。
33.如權(quán)利要求32所述的圖案生成裝置，其中所述物體是玻璃板，當利用所述曝光設(shè)備在半導(dǎo)體材料上寫入圖案時，在將使用的所述玻璃板上形成圖案。
34.如權(quán)利要求21所述的圖案生成設(shè)備，其中所述物體是半導(dǎo)體材料，在所述半導(dǎo)體材料的表面上直接形成圖案。
35.一種用于進行下列步驟的計算機程序確定在厚度(T)的物體的表面上限定的每個測量點的所述表面的梯度，計算每個測量點在x-y平面的二維局部偏移量(d)，所述二維局部偏移量(d)為所述梯度和物體厚度(T)的函數(shù)，利用每個測量點的所計算的二維局部偏移量(d)，確定用于所述表面的校正函數(shù)，或校正在所述表面寫入的圖案。
36.一種用于承載如權(quán)利要求35的計算機程序的計算機程序產(chǎn)品。
37.用于制造平板顯示器的至少一個具有圖案的掩模的應(yīng)用，該圖案用權(quán)利要求1-14任一項所限定的方法形成。
38.如權(quán)利要求37所述的應(yīng)用，其中所述平板顯示器是以下組里的任一個薄膜晶體管(TFT)顯示器，液晶顯示器(LCD)或等離子體顯示板(PDP)。
39.如權(quán)利要求37或38所述的應(yīng)用，其中幾個掩模配合在一起，以提供不同系統(tǒng)的所述平板顯示器的制造，所述掩模具有用權(quán)利要求1-14任一項所限定的方法形成的圖案。
全文摘要
本發(fā)明涉及在用于曝光設(shè)備的表面寫入圖案的方法，包括以下步驟將具有一表面和一厚度(T)的物體設(shè)置在圖案生成裝置的工作臺上；將表面分成多個測量點，其中兩個相鄰測量點間隔距離(P)不超過預(yù)定最大距離；在每個測量點確定所述表面的梯度，計算每個測量點在x－y平面的二維局部偏移量(d)，所述二維局部偏移量(d)為梯度和物體的厚度(T)的函數(shù)；和利用二維局部偏移量(d)校正在所述表面寫入的圖案。本發(fā)明還涉及圖案生成裝置，以及用于測量物體表面的物理特性的方法和裝置。
文檔編號G03F7/20GK1871128SQ200480031019
公開日2006年11月29日 申請日期2004年9月3日 優(yōu)先權(quán)日2003年10月27日
發(fā)明者拉爾斯·斯蒂布勒特, 彼得·?？瞬?申請人:麥克羅尼克激光系統(tǒng)公司