專利名稱：基板吸附裝置及基板貼合裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種具有吸附保持基板的工作臺(tái)的基板吸附裝置及基板貼合裝置，尤其是涉及用于防止因混入工作臺(tái)和基板之間的異物而產(chǎn)生不良狀況的措施。
背景技術(shù)：
一直以來(lái)，已知有相對(duì)平板狀的工作臺(tái)對(duì)作為處理對(duì)象的基板進(jìn)行吸附、保持的基板吸附裝置(例如參照專利文獻(xiàn)1及專利文獻(xiàn)2)。
圖12是概略表示基板吸附裝置100的主要部分的立體圖，圖13是概略表示由一對(duì)基板吸附裝置100相對(duì)配置而構(gòu)成的基板貼合裝置120的側(cè)視圖。
如圖12及圖13所示，基板吸附裝置100具有利用吸附面102吸附保持基板110的工作臺(tái)101。在工作臺(tái)101上形成有開(kāi)設(shè)在吸附面102上的多個(gè)吸附口103。吸附口103例如分別設(shè)置在工作臺(tái)101的四個(gè)角部上。另外，吸附口103通過(guò)排氣通路107與真空泵104連接。這樣，在工作臺(tái)101的吸附面102上承載有基板110的狀態(tài)下，驅(qū)動(dòng)真空泵104，可吸附保持上述基板110。
但是，若作為處理對(duì)象的基板110沒(méi)有可靠地固定在工作臺(tái)101上而產(chǎn)生移動(dòng)的話，則不能高精度地對(duì)該基板110進(jìn)行處理。因此，要求上述基板吸附裝置100能可靠地吸附保持基板110。
針對(duì)這種要求，在上述專利文獻(xiàn)1中，在連接吸附口103和真空泵104的排氣通路107上設(shè)置有壓力計(jì)118。并且，在壓力計(jì)118檢測(cè)出的排氣通路107內(nèi)的壓力比規(guī)定值大時(shí)，判斷為基板110沒(méi)有被可靠地吸附。
另外，在上述專利文獻(xiàn)2中雖省略圖示，但在工作臺(tái)的表面上形成多個(gè)吸附槽，且在各吸附槽的底部形成吸附口。并且，使各吸附槽內(nèi)以時(shí)間差順次產(chǎn)生真空力，從而抑制伴隨吸附產(chǎn)生的基板的翹曲，防止真空力的泄漏。
上述基板吸附裝置100例如也可作為使一對(duì)基板貼合來(lái)制造液晶顯示面板的基板貼合裝置120使用。液晶顯示面板一般包括設(shè)置有TFT等多個(gè)開(kāi)關(guān)元件的TFT基板、設(shè)置有濾色鏡等的對(duì)置基板、以及夾設(shè)在TFT基板和對(duì)置基板之間的液晶層。
如圖13所示，上述TFT基板及對(duì)置基板包括玻璃基板110、以及均勻地設(shè)置在玻璃基板110上的定向膜111。定向膜111用于規(guī)定上述液晶層的液晶分子的初始取向。
并且，在分別吸附玻璃基板110的狀態(tài)下，驅(qū)動(dòng)上述各基板吸附裝置100的工作臺(tái)101彼此間靠近地加壓，從而使TFT基板和對(duì)置基板貼合。此時(shí)，例如在TFT基板的定向膜111的表面上散布大量的襯墊112。襯墊112由球狀粒子構(gòu)成，用于使TFT基板和對(duì)置基板之間維持規(guī)定的間隔。
但是，若在上述工作臺(tái)101的吸附面102和玻璃基板110之間混入有廢物或金屬粒子等異物105，則如圖14中的側(cè)向剖視圖所示，由于該異物105而使玻璃基板110局部變形為凸面狀。結(jié)果是，玻璃基板110有可能被異物105損傷而造成產(chǎn)品不良。另外，若在夾著異物105的狀態(tài)下使上述TFT基板和對(duì)置基板貼合，則如圖15中的側(cè)視圖所示，會(huì)在夾著異物105的部分產(chǎn)生壓力集中，存在定向膜111和玻璃基板110自身產(chǎn)生損傷的問(wèn)題。
因此，已知有使與玻璃基板中央?yún)^(qū)域(即顯示區(qū)域)對(duì)應(yīng)的工作臺(tái)區(qū)域凹陷成凹狀的技術(shù)(例如參照專利文獻(xiàn)3)。即，如圖16中的側(cè)向剖視圖所示，在工作臺(tái)101的中央形成凹部101a。上述凹部101a的周?chē)鷺?gòu)成吸附面102，在該吸附面102上形成多個(gè)吸附口103。由此，如圖16所示，即使在凹部101a內(nèi)混入有異物105，也由于在凹部101a的底部和玻璃基板110之間存在規(guī)定的間隙，從而可避免異物105與玻璃基板110接觸。
專利文獻(xiàn)1日本專利特開(kāi)平11-288957號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2日本專利特開(kāi)平9-80404號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)3日本專利特開(kāi)平10-268325號(hào)公報(bào)發(fā)明的公開(kāi)發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題但是，在上述專利文獻(xiàn)3的基板吸附裝置中，若想針對(duì)大小不同的多個(gè)基板都能分別可靠地吸附，則必須根據(jù)各基板的大小改變凹部的大小。結(jié)果是，需要對(duì)應(yīng)每一基板大小更換工作臺(tái)，存在裝置成本上升、且工作臺(tái)的更換費(fèi)事的問(wèn)題。
該問(wèn)題對(duì)于以近年來(lái)面板尺寸擴(kuò)大、變化增大的液晶顯示面板為保持對(duì)象的基板吸附裝置來(lái)說(shuō)尤其顯著。
另外，在上述專利文獻(xiàn)3中，當(dāng)混入比凹部深度大的異物時(shí)，因?yàn)楫愇锱c基板接觸，故也存在不能起到任何效果的問(wèn)題。
鑒于上述問(wèn)題，本發(fā)明的目的在于提供一種能以低成本且容易的構(gòu)成檢測(cè)出致使基板損傷的異物的混入從而將基板的損傷防患于未然的吸附保持基板的基板吸附裝置以及具有該基板吸附裝置的基板貼合裝置。
用于解決技術(shù)問(wèn)題的技術(shù)方案為了實(shí)現(xiàn)上述目的，在本發(fā)明中，設(shè)置有在工作臺(tái)的吸附面和工作臺(tái)的側(cè)面都開(kāi)放的多個(gè)泄漏槽。
具體而言，本發(fā)明的基板吸附裝置，包括具有用于保持基板的吸附面的工作臺(tái)；設(shè)置在所述工作臺(tái)的吸附面上的多個(gè)吸附口；以及通過(guò)排氣通路與所述吸附口連接的減壓?jiǎn)卧?，并且，包括檢測(cè)所述排氣通路的壓力的壓力檢測(cè)單元，在所述工作臺(tái)的除設(shè)置所述吸附口的位置以外的區(qū)域形成有在所述工作臺(tái)的吸附面和該工作臺(tái)的側(cè)面都開(kāi)放的多個(gè)泄漏槽。
也可在所述排氣通路上與所述多個(gè)吸附口對(duì)應(yīng)地設(shè)置所述壓力檢測(cè)單元。
也可在所述排氣通路上與所述多個(gè)吸附口對(duì)應(yīng)地設(shè)置所述壓力檢測(cè)單元、以及根據(jù)該壓力檢測(cè)單元檢測(cè)出的壓力狀態(tài)對(duì)所述吸附口進(jìn)行開(kāi)閉的開(kāi)閉機(jī)構(gòu)。
所述開(kāi)閉機(jī)構(gòu)最好構(gòu)成為在所述壓力檢測(cè)單元沒(méi)有檢測(cè)出真空狀態(tài)時(shí)將設(shè)置有該開(kāi)閉機(jī)構(gòu)的所述吸附口關(guān)閉。
所述多個(gè)泄漏槽最好以格子狀形成在工作臺(tái)的吸附面上。
所述吸附口最好配置在由形成為格子狀的多個(gè)泄漏槽圍住的各區(qū)域的中央位置。
所述多個(gè)泄漏槽也能以條紋狀形成在工作臺(tái)的吸附面上。
另外，本發(fā)明的基板貼合裝置，具有兩個(gè)上述基板吸附裝置，所述基板吸附裝置以工作臺(tái)的吸附面彼此相對(duì)的形態(tài)配置，所述各工作臺(tái)在分別吸附保持基板的狀態(tài)下互相接近從而使所述各基板彼此間貼合。
(作用)下面對(duì)本發(fā)明的作用進(jìn)行說(shuō)明。
在由基板吸附裝置吸附保持基板時(shí)，首先將基板承載在工作臺(tái)的吸附面上。然后，驅(qū)動(dòng)減壓?jiǎn)卧瑢⒒搴臀矫嬷g的空氣從吸附口通過(guò)排氣通路排出。即，使基板和吸附面之間產(chǎn)生真空力。由此，基板吸附裝置將基板吸附保持在工作臺(tái)上的規(guī)定位置上。
當(dāng)在基板和吸附面之間混入有異物時(shí)，吸附在吸附面上的基板因上述異物而局部變形成凸面狀。即，在異物周?chē)幕搴臀矫嬷g產(chǎn)生規(guī)定的間隙。因?yàn)樵谏鲜鲩g隙中吸附口和泄漏槽連通，因此間隙內(nèi)的空氣從吸附口排出，且從泄漏槽導(dǎo)入。結(jié)果是，在混入有異物時(shí)，由壓力檢測(cè)單元檢測(cè)出的排氣通路內(nèi)的壓力比沒(méi)有混入異物時(shí)大。即，可根據(jù)壓力檢測(cè)單元檢測(cè)出的壓力大小來(lái)判別成為問(wèn)題的異物是否混入在基板和吸附面之間。
另外，在現(xiàn)有基板吸附裝置中，如圖14所示，即使混入有異物，基板也因彈性變形將吸附口氣密性蓋住，故即使設(shè)置壓力檢測(cè)單元，由壓力檢測(cè)單元檢測(cè)出的壓力也為一定值而與基板和吸附面之間有無(wú)異物無(wú)關(guān)，從而不能利用壓力檢測(cè)單元檢測(cè)出異物的混入。
因?yàn)閷?duì)應(yīng)排氣通路的各吸附口地設(shè)置壓力檢測(cè)單元，可檢測(cè)出從各吸附口排出的排氣壓力，故在異物混入在基板和吸附面之間時(shí)，可確定該異物的位置。
另外，由于將開(kāi)閉機(jī)構(gòu)與上述壓力檢測(cè)單元一起對(duì)應(yīng)排氣通路的各吸附口地設(shè)置，故可根據(jù)壓力狀態(tài)對(duì)各吸附口進(jìn)行開(kāi)閉。尤其是在利用開(kāi)閉機(jī)構(gòu)將壓力檢測(cè)單元沒(méi)有檢測(cè)出真空狀態(tài)的吸附口關(guān)閉時(shí)，該吸附口的泄漏停止。結(jié)果是，可利用檢測(cè)出真空狀態(tài)的其他吸附口可靠地保持基板。
再者，由于將泄漏槽形成為格子狀或條紋狀，故可在吸附面上均等地檢測(cè)出異物的混入。
在利用基板貼合裝置貼合基板時(shí)，在各基板吸附裝置的工作臺(tái)的吸附面承載基板的狀態(tài)下驅(qū)動(dòng)減壓?jiǎn)卧?，分別吸附保持基板。在吸附保持基板的狀態(tài)下，使各工作臺(tái)彼此靠近并加壓。由此，能在基板和吸附面之間沒(méi)有混入異物的狀態(tài)下使各基板彼此間貼合。
發(fā)明效果采用本發(fā)明的基板吸附裝置，可根據(jù)壓力檢測(cè)單元檢測(cè)出的壓力大小檢測(cè)出在基板和吸附面之間導(dǎo)致基板損傷的異物的混入，因此，能以低成本且容易的構(gòu)成將基板的損傷防患于未然。
另外，采用本發(fā)明的基板貼合裝置，能在基板和吸附面之間沒(méi)有混入異物的狀態(tài)下使各基板彼此間貼合。


圖1是示意性表示實(shí)施例1的基板吸附裝置的主要部分的立體圖。
圖2是表示實(shí)施例1的基板吸附裝置的側(cè)向截面的剖視圖。
圖3是示意性表示實(shí)施例1的基板吸附裝置及基板貼合裝置的側(cè)視圖。
圖4是示意性表示實(shí)施例2的基板吸附裝置的主要部分的立體圖。
圖5是表示實(shí)施例3的基板吸附裝置的側(cè)向截面的剖視圖。
圖6是表示實(shí)施例4的基板吸附裝置的側(cè)向截面的剖視圖。
圖7是示意性表示實(shí)施例5的密封分配器的立體圖。
圖8是與光路一起表示實(shí)施例6的曝光裝置的說(shuō)明圖。
圖9是表示實(shí)施例7的分?jǐn)嘌b置的側(cè)視圖。
圖10是示意性表示實(shí)施例8的網(wǎng)狀除塵器的立體圖。
圖11是示意性表示實(shí)施例9的涂敷裝置的說(shuō)明圖。
圖12是示意性表示現(xiàn)有的基板吸附裝置的主要部分的立體圖。
圖13是表示現(xiàn)有的基板吸附裝置及基板貼合裝置的側(cè)視圖。
圖14是表示現(xiàn)有的基板吸附裝置的混入有異物的狀態(tài)的側(cè)向剖視圖。
圖15是表示在混入有異物的狀態(tài)下使基板相互貼合的現(xiàn)有基板貼合裝置的側(cè)視圖。
圖16是表示具有形成有凹部的工作臺(tái)的現(xiàn)有基板吸附裝置的側(cè)向剖視圖。
具體實(shí)施例方式
下面參照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。但是，本發(fā)明并不局限于下述實(shí)施例。
實(shí)施例1圖1～圖3表示本發(fā)明的基板吸附裝置1及基板貼合裝置2的實(shí)施例。圖1是示意性表示基板吸附裝置1的立體圖。圖2是示意性表示基板吸附裝置的剖視圖。圖3是示意性表示基板貼合裝置2的側(cè)視圖。
基板貼合裝置2例如是通過(guò)貼合一對(duì)基板20來(lái)制造液晶顯示面板的裝置，如圖3所示，由兩個(gè)基板吸附裝置1構(gòu)成。
如圖3所示，液晶顯示面板包括設(shè)置有TFT等多個(gè)開(kāi)關(guān)元件的TFT基板20a、設(shè)置有濾色鏡等的對(duì)置基板20b、以及夾設(shè)在TFT基板20a和對(duì)置基板20b之間的液晶層(省略圖示)。在TFT基板20a及對(duì)置基板20b的表面上均勻地形成定向膜21。定向膜21用于規(guī)定上述液晶層的液晶分子的初始取向。另外，在TFT基板20a或?qū)χ没?0b的定向膜21上散布設(shè)置有大量的襯墊22。襯墊22由球狀粒子構(gòu)成，用于使TFT基板20a和對(duì)置基板20b之間維持規(guī)定的間隔。
構(gòu)成上述TFT基板20a和對(duì)置基板20b的玻璃基板的厚度例如在0.6mm以上且在1.1mm以下，大小例如為680mm×880mm。
如圖1及圖2所示，基板吸附裝置1包括具有用于保持上述TFT基板20a或?qū)χ没?0b的基板20的吸附面12的工作臺(tái)11；設(shè)置在上述工作臺(tái)11的吸附面12上的多個(gè)吸附口13；以及通過(guò)排氣通路17與上述吸附口13連接的作為減壓?jiǎn)卧恼婵毡?4。并且，通過(guò)驅(qū)動(dòng)真空泵14，可將基板20吸附保持在工作臺(tái)11的吸附面12上。
上述工作臺(tái)11例如由鋁等的具有規(guī)定厚度的板材構(gòu)成。最好對(duì)工作臺(tái)11的吸附面12實(shí)施鋁陽(yáng)極化處理。工作臺(tái)11的表面例如形成為1000mm×1000mm的大小。另外，如省略一部分的圖3所示，在工作臺(tái)11的背面?zhèn)?即與吸附面12相反的一側(cè))設(shè)置有使工作臺(tái)升降的氣缸等升降機(jī)構(gòu)25。
吸附面12由將基板20以平板狀態(tài)吸附保持的平面構(gòu)成。如圖1所示，上述吸附口13開(kāi)設(shè)在吸附面12上，且在吸附面12上配置成矩陣狀。
如圖2所示，排氣通路17形成在工作臺(tái)11的內(nèi)部及外部，連接上述吸附口13和真空泵14。即，排氣通路17從各吸附口13向工作臺(tái)11的內(nèi)部延伸，且匯合成一個(gè)排氣通路17后，將其前端連接在真空泵14的吸入口(省略圖示)上。
在排氣通路17上設(shè)置有檢測(cè)該排氣通路17的內(nèi)部壓力的作為壓力檢測(cè)單元的壓力傳感器18。如圖2所示，壓力傳感器18與各吸附口13對(duì)應(yīng)地設(shè)置。這樣，可分別單獨(dú)檢測(cè)從各吸附口13排出的空氣的壓力。
并且，在上述工作臺(tái)11的吸附面12上以格子狀形成有多個(gè)泄漏槽30。如圖2所示，泄漏槽30形成在除設(shè)置有吸附口13的位置以外的區(qū)域，在工作臺(tái)11的吸附面12和工作臺(tái)11的側(cè)面都向外部開(kāi)放。即，在基板20承載在吸附面12上的狀態(tài)下，泄漏槽30的內(nèi)部與工作臺(tái)11的外部連通，成為大氣開(kāi)放狀態(tài)。泄漏槽30例如形成為槽深和槽寬分別為2mm、間距為100mm。
另一方面，上述吸附口13的直徑例如形成為20mm，配置在由格子狀的多個(gè)泄漏槽30圍住的各區(qū)域的中央位置上。即，各吸附口13的配置間距與上述泄漏槽30相同例如為100mm。
如圖3所示，基板貼合裝置2由以工作臺(tái)11的吸附面12彼此相對(duì)的形態(tài)進(jìn)行配置的一對(duì)上述基板吸附裝置1構(gòu)成。并且，通過(guò)使上述各工作臺(tái)11在分別吸附保持基板20的狀態(tài)下互相靠近，從而使上述各基板20彼此間貼合。
(裝置的動(dòng)作)下面對(duì)基板吸附裝置1及基板貼合裝置2的動(dòng)作進(jìn)行說(shuō)明。
在使基板20由基板吸附裝置1吸附保持時(shí)，首先將基板20承載在工作臺(tái)11的吸附面12上。然后，驅(qū)動(dòng)真空泵14，將基板20和吸附面12之間的空氣從各吸附口13通過(guò)排氣通路17排出。即，使基板20和吸附面12之間產(chǎn)生真空力。由此，基板吸附裝置1將基板20吸附保持在工作臺(tái)11上的規(guī)定位置上。此時(shí)，利用壓力傳感器18對(duì)成為真空的排氣通路17的內(nèi)部壓力進(jìn)行檢測(cè)，確認(rèn)其在規(guī)定值以下。
但是，作為異物15的金屬或玻璃等的粒子有時(shí)會(huì)在前面工序中附著在基板20上，從而進(jìn)入上述基板20和吸附面12之間。若異物15混入在基板20和吸附面12之間，則如圖2所示，吸附在吸附面12上的上述基板20因上述異物15而局部變形成凸面狀。
在沒(méi)有泄漏槽30的現(xiàn)有基板貼合裝置2中，若異物15的大小在0.5mm以上，則在進(jìn)行基板20彼此間的貼合時(shí)，在各基板20間產(chǎn)生壓力集中，存在定向膜21損傷的問(wèn)題，而且基板20自身也有因異物15而引起損傷的可能。
與此相對(duì)，在本實(shí)施例中，當(dāng)具有規(guī)定彈性的玻璃基板20的厚度在0.6mm以上且在1.1mm以下時(shí)，因?yàn)樾孤┎?0及吸附口13的間距為100mm，故可相對(duì)在0.5mm以上的異物15周?chē)a(chǎn)生的基板20和吸附面12的間隙35，使吸附口13和泄漏槽30雙方連通。
結(jié)果是，間隙35內(nèi)的空氣從吸附口13排出，且從泄漏槽30導(dǎo)入，因此，在混入有異物15時(shí)，由壓力傳感器18檢測(cè)出的排氣通路17內(nèi)的壓力比沒(méi)有混入異物15時(shí)大。這樣，根據(jù)壓力傳感器18檢測(cè)出的壓力大小可檢測(cè)出有無(wú)異物15。
當(dāng)檢測(cè)出異物15時(shí)，在基板20彼此實(shí)際貼合之前對(duì)基板20進(jìn)行清掃除去異物15。
然后，使作為基板20的TFT基板20a及對(duì)置基板20b在沒(méi)有混入異物15的狀態(tài)下分別吸附保持在一對(duì)基板吸附裝置1的各工作臺(tái)11上，利用升降機(jī)構(gòu)25使各工作臺(tái)11彼此間相互靠近。并且，對(duì)上述TFT基板20a及對(duì)置基板20b加壓使其貼合。然后，在TFT基板20a和對(duì)置基板20b的間隙(元件間隙)中封入液晶材料，從而制造液晶顯示面板。
(實(shí)施例1的效果)即，在會(huì)導(dǎo)致定向膜21和基板20自身受到損傷的異物15進(jìn)入基板20和吸附面12之間時(shí)，異物15周?chē)a(chǎn)生的基板20和吸附面12的間隙35的大小由異物15的大小和基板20的厚度的關(guān)系來(lái)決定。在本實(shí)施例中，考慮到這些關(guān)系后確定泄漏槽30的間距等，從而可相對(duì)上述間隙35使吸附口13和泄漏槽30雙方連通。
因此，在上述異物15混入在基板20和吸附面12之間時(shí)，相對(duì)上述間隙35的內(nèi)部，從吸附口13排出空氣，且從泄漏槽30導(dǎo)入空氣，從而可使排氣通路17內(nèi)的壓力比沒(méi)有混入異物15時(shí)大。結(jié)果是，通過(guò)利用壓力傳感器18檢測(cè)排氣通路17內(nèi)的壓力即可判別出有無(wú)異物15混入。
再者，因?yàn)樵诠ぷ髋_(tái)11上均等地形成有泄漏槽30，故對(duì)于大小不同的多個(gè)基板可分別可靠地予以吸附保持，且可檢測(cè)出有無(wú)異物混入。即，不需對(duì)應(yīng)基板大小地更換工作臺(tái)，可降低裝置成本，且不需要更換工作臺(tái)的工序。即，能在不受基板大小限制的情況下以低成本且容易的構(gòu)成預(yù)先防止因上述異物15混入引起的基板20等的損傷。
因?yàn)閷?duì)應(yīng)各吸附口13地設(shè)置壓力傳感器18，可檢測(cè)出從各吸附口13排出的排氣壓力，故可確定混入在基板20和吸附面12之間的異物15的位置。
再者，因?yàn)閷⑿孤┎?0形成為格子狀，故可在吸附面12上均等地檢測(cè)出異物15的混入。
另外，將上述基板吸附裝置1應(yīng)用在基板貼合裝置2上，能在基板20和吸附面12之間沒(méi)有混入異物15的狀態(tài)下使各基板20彼此間貼合，故可提高作為產(chǎn)品的液晶顯示面板的品質(zhì)。
實(shí)施例2圖4表示本發(fā)明的基板吸附裝置1及基板貼合裝置2的實(shí)施例2。在以下的各實(shí)施例中，對(duì)于與圖1～圖3相同的部分標(biāo)記相同符號(hào)，省略其詳細(xì)說(shuō)明。
圖4是表示實(shí)施例2的工作臺(tái)11的立體圖。本實(shí)施例的基板吸附裝置1及基板貼合裝置2的特征在于泄漏槽30以條紋狀形成在工作臺(tái)11的吸附面上。
即，在工作臺(tái)11上等間隔地平行并列設(shè)置多個(gè)泄漏槽30。在相鄰泄漏槽30之間沿泄漏槽30等間隔地配置多個(gè)吸附口13。各吸附口13分別形成在泄漏槽30間的中央位置上。這樣，即使以條紋狀形成泄漏槽30也可得到與上述實(shí)施例1相同的效果。
實(shí)施例3圖5表示本發(fā)明的基板吸附裝置1及基板貼合裝置2的實(shí)施例3。本實(shí)施例在上述實(shí)施例1中追加了作為開(kāi)閉機(jī)構(gòu)的閥門(mén)19。
即，如圖5所示，在排氣通路17上對(duì)應(yīng)多個(gè)吸附口13地設(shè)置有壓力傳感器18、以及根據(jù)該壓力傳感器18檢測(cè)出的壓力狀態(tài)對(duì)吸附口13進(jìn)行開(kāi)閉的閥門(mén)19。并且，上述閥門(mén)19在壓力傳感器18沒(méi)有檢測(cè)出真空狀態(tài)時(shí)，將設(shè)置有該閥門(mén)19的吸附口13關(guān)閉。
在使基板20由基板吸附裝置1吸附保持時(shí)，與上述實(shí)施例1相同，將基板20承載在工作臺(tái)11的吸附面12上，將基板20和吸附面12之間的空氣從各吸附口13通過(guò)排氣通路17排出。
此時(shí)，若異物15混入在基板20和吸附面12之間，則如圖5所示，吸附在吸附面12上的上述基板20因上述異物15而局部變形成凸面狀。
結(jié)果是，在工作臺(tái)11上的沒(méi)有異物15的區(qū)域，吸附口13由玻璃基板30蓋住，從而在與該吸附口13連接的排氣通路17內(nèi)，由壓力傳感器18檢測(cè)出真空狀態(tài)。
另一方面，在工作臺(tái)11上的存在異物15的區(qū)域，相對(duì)在異物15周?chē)a(chǎn)生的基板20和吸附面12的間隙35，使吸附口13和泄漏槽30雙方連通。由此，在連接在與間隙35連通的吸附口13上的排氣通路17內(nèi)，檢測(cè)出比較大的壓力，不能檢測(cè)出真空狀態(tài)。此時(shí)，驅(qū)動(dòng)閥門(mén)19將與上述間隙35連通的吸附口13關(guān)閉。
因此，采用本實(shí)施例，即使在異物15混入在工作臺(tái)11和玻璃基板30之間時(shí)，也可根據(jù)壓力傳感器18的檢測(cè)值檢測(cè)出異物的混入，而且，能在空氣不從泄漏槽30泄漏的狀態(tài)下可靠地吸附保持玻璃基板30。
實(shí)施例4圖6表示本發(fā)明的基板吸附裝置1及基板貼合裝置2的實(shí)施例4。在上述實(shí)施例1中，對(duì)應(yīng)各吸附口13地設(shè)置了壓力傳感器18，但在本實(shí)施例中僅設(shè)置一個(gè)壓力傳感器18。
即，如圖6的剖視圖所示，壓力傳感器18設(shè)置在排氣通路17的匯合部分上，對(duì)從各吸附口13排出并向真空泵14內(nèi)導(dǎo)入的空氣的壓力進(jìn)行檢測(cè)。
這樣，由于從泄漏槽30導(dǎo)入空氣從而排氣通路17的匯合部分的壓力變大，故可由上述壓力傳感器18判別出有無(wú)異物15混入。另外，減少壓力傳感器18的數(shù)量可降低裝置成本。
實(shí)施例5圖7表示本發(fā)明的基板吸附裝置1的實(shí)施例5。圖7是示意性表示密封分配器40的立體圖。
密封分配器40包括用于吸附保持基板20的基板吸附裝置1、以及吐出粘接劑的缸體41，利用該缸體41在基板20上的規(guī)定位置上涂敷粘接劑。上述缸體41的前端和基板20表面的間隔保持在數(shù)μm左右。另一方面，基板吸附裝置1的工作臺(tái)11構(gòu)成為可在二維方向上移動(dòng)。
在上述密封分配器40中，要求粘接劑在基板20上有高的描畫(huà)精度。但是，當(dāng)在基板20和工作臺(tái)11的吸附面之間混入有異物時(shí)，由于缸體41前端的噴嘴和基板20表面的間隔發(fā)生變化，故會(huì)產(chǎn)生粘接劑的涂敷不良。
對(duì)此，在本實(shí)施例中，通過(guò)將本發(fā)明的基板吸附裝置1應(yīng)用在密封分配器40上，從而能在基板20和工作臺(tái)11的吸附面之間沒(méi)有混入異物的情況下吸附保持基板20，因此可防止上述粘接劑的涂敷不良。
實(shí)施例6圖8表示本發(fā)明的基板吸附裝置1的實(shí)施例6。圖8是示意性表示曝光裝置50的說(shuō)明圖。
曝光裝置50用于例如通過(guò)光刻方式等在基板20上形成層疊圖案。本實(shí)施例的曝光裝置50是接近方式的曝光裝置，包括作為光源的超高壓水銀燈51、用于使該超高壓水銀燈51的光成為平行光的光學(xué)系統(tǒng)55、以及用于吸附保持基板20的基板吸附裝置1。
上述光學(xué)系統(tǒng)55例如包括反射超高壓水銀燈51的光的分色鏡56、使由分色鏡56反射的光折射的蠅眼透鏡57、以及對(duì)透過(guò)蠅眼透鏡57的光進(jìn)行反射使其成為平行光的凹面鏡58。
并且，在將基板20吸附在基板吸附裝置1的工作臺(tái)11上的狀態(tài)下，對(duì)上述基板20隔著掩膜53照射光。由此，在上述基板20上形成規(guī)定的防護(hù)層圖案。
為了正確地進(jìn)行圖案形成，要求上述曝光裝置50具有高的曝光精度。但是，當(dāng)在基板20和工作臺(tái)11的吸附面之間混入有異物時(shí)，由于基板20的表面撓曲，故會(huì)導(dǎo)致曝光不均勻。結(jié)果是，存在不能高精度地進(jìn)行圖案形成的問(wèn)題。
對(duì)此，在本實(shí)施例中，通過(guò)將本發(fā)明的基板吸附裝置1應(yīng)用在曝光裝置50上，從而能在基板20和工作臺(tái)11的吸附面之間沒(méi)有混入異物的情況下吸附保持基板20，因此可防止曝光不均，實(shí)現(xiàn)圖案形成的高精度化。
另外，本發(fā)明的基板吸附裝置1也可應(yīng)用在其他的鏡面投影方式和步進(jìn)曝光方式的曝光裝置上。
實(shí)施例7圖9表示本發(fā)明的基板吸附裝置1的實(shí)施例7。圖9是示意性表示分?jǐn)嘌b置60的說(shuō)明圖。
分?jǐn)嘌b置60構(gòu)成為將液晶顯示面板等基板20分?jǐn)喑梢?guī)定大小，且輸送分?jǐn)嗪蟮幕?0。分?jǐn)嘌b置60包括吸附保持基板的基板吸附裝置1、以及將由基板吸附裝置1保持的基板分?jǐn)嗟姆謹(jǐn)鄼C(jī)構(gòu)61。
這樣，通過(guò)將本發(fā)明的基板吸附裝置1應(yīng)用在分?jǐn)嘌b置60上，從而能在基板20和工作臺(tái)11的吸附面之間沒(méi)有混入異物的情況下吸附保持基板20，因此可防止伴隨分?jǐn)嗉拜斔彤a(chǎn)生的基板20的損傷。另外，在基板20為液晶顯示面板時(shí)，可防止定向膜的損傷。
實(shí)施例8圖10表示本發(fā)明的基板吸附裝置1的實(shí)施例8。圖10是示意性表示網(wǎng)狀除塵器70的說(shuō)明圖。
網(wǎng)狀除塵器70包括工作臺(tái)11可沿規(guī)定方向水平移動(dòng)的基板吸附裝置1、以及固定保持在規(guī)定位置的除塵器噴嘴部71。并且，通過(guò)一邊使除塵器噴嘴部71動(dòng)作一邊使吸附保持基板20的工作臺(tái)11水平移動(dòng)，可對(duì)基板20的表面進(jìn)行清理。
因?yàn)樯鲜龀龎m器噴嘴部71與基板20的間隔比較小，故若在基板20和工作臺(tái)11的吸附面之間混入有異物，則上述除塵器噴嘴部71有可能與因異物而變形成凸?fàn)畹幕?0接觸。結(jié)果是，存在導(dǎo)致基板20損傷的問(wèn)題。
對(duì)此，在本實(shí)施例中，通過(guò)將本發(fā)明的基板吸附裝置1應(yīng)用在網(wǎng)狀除塵器70上，從而能在基板20和工作臺(tái)11的吸附面之間沒(méi)有混入異物的情況下吸附保持基板20，因此可防止基板20與除塵器噴嘴部71接觸，基板20不會(huì)損傷。
實(shí)施例9圖11表示本發(fā)明的基板吸附裝置1的實(shí)施例9。圖11是示意性表示涂敷裝置80的說(shuō)明圖。
涂敷裝置80包括具有基板吸附裝置1的裝置本體81、以及用于向基板20上供給涂敷材料82的毛細(xì)作用噴嘴83。并且，將基板20吸附保持在基板吸附裝置1的工作臺(tái)11上，且從毛細(xì)作用噴嘴83向基板上供給規(guī)定量的涂敷材料82。然后，利用省略圖示的涂布機(jī)使涂敷材料82均勻地分布在基板20上。
這樣，通過(guò)將本發(fā)明的基板吸附裝置1應(yīng)用在涂敷裝置80上，從而能在基板20和工作臺(tái)11的吸附面之間沒(méi)有混入異物的情況下吸附保持基板20，因此可防止涂布機(jī)的涂布不均。
尤其是在直接使用涂布形成的防護(hù)層的液晶顯示裝置的彩色防護(hù)層和層間有機(jī)絕緣膜中，由于涂布不均與顯示品質(zhì)下降有很大關(guān)系，因此，通過(guò)像本實(shí)施例這樣應(yīng)用基板吸附裝置1，可防止涂布不均，較好地提高顯示品質(zhì)。
其他實(shí)施例本發(fā)明的基板吸附裝置1除上述各實(shí)施例以外，還可應(yīng)用在偏光板貼付裝置等上。即，在偏光板貼付裝置中，由于在貼付偏光板時(shí)對(duì)基板施壓，因此，若在基板和保持基板的工作臺(tái)之間混入有異物，則存在導(dǎo)致偏光板和基板自身?yè)p傷的問(wèn)題。對(duì)此，將本發(fā)明的基板吸附裝置1應(yīng)用在偏光板貼付裝置上，從而與上述各實(shí)施例相同，可防止異物的混入，因此可防止偏光板和基板自身的損傷。
另外，泄漏槽30的形狀不限定為格子狀和條紋狀，只要是能在吸附保持基板的狀態(tài)下與外部成為大氣開(kāi)放狀態(tài)的形狀即可。
產(chǎn)業(yè)上的可利用性如上所述，本發(fā)明對(duì)具有吸附保持基板的工作臺(tái)的基板吸附裝置及基板貼合裝置來(lái)說(shuō)有益，尤其適合以低成本且容易的構(gòu)成將基板的損傷防患于未然。
權(quán)利要求
1.一種基板吸附裝置，包括具有用于保持基板的吸附面的工作臺(tái)；設(shè)置在所述工作臺(tái)的吸附面上的多個(gè)吸附口；以及通過(guò)排氣通路與所述吸附口連接的減壓?jiǎn)卧?，其特征在于，包括檢測(cè)所述排氣通路的壓力的壓力檢測(cè)單元，在所述工作臺(tái)的除設(shè)置所述吸附口的位置以外的區(qū)域形成有在所述工作臺(tái)的吸附面和該工作臺(tái)的側(cè)面都開(kāi)放的多個(gè)泄漏槽。
2.如權(quán)利要求1所述的基板吸附裝置，其特征在于，在所述排氣通路上與所述多個(gè)吸附口中的每個(gè)吸附口對(duì)應(yīng)地設(shè)有所述壓力檢測(cè)單元。
3.如權(quán)利要求1所述的基板吸附裝置，其特征在于，在所述排氣通路上與所述多個(gè)吸附口中的每個(gè)吸附口對(duì)應(yīng)地設(shè)有所述壓力檢測(cè)單元、以及根據(jù)該壓力檢測(cè)單元檢測(cè)出的壓力狀態(tài)對(duì)所述吸附口進(jìn)行開(kāi)閉的開(kāi)閉機(jī)構(gòu)。
4.如權(quán)利要求3所述的基板吸附裝置，其特征在于，所述開(kāi)閉機(jī)構(gòu)構(gòu)成為在所述壓力檢測(cè)單元沒(méi)有檢測(cè)出真空狀態(tài)時(shí)將設(shè)置有該開(kāi)閉機(jī)構(gòu)的所述吸附口關(guān)閉。
5.如權(quán)利要求1所述的基板吸附裝置，其特征在于，所述多個(gè)泄漏槽以格子狀形成在工作臺(tái)的吸附面上。
6.如權(quán)利要求5所述的基板吸附裝置，其特征在于，所述吸附口配置在由形成為格子狀的多個(gè)泄漏槽圍住的各區(qū)域的中央位置。
7.如權(quán)利要求1所述的基板吸附裝置，其特征在于，所述多個(gè)泄漏槽以條紋狀形成在工作臺(tái)的吸附面上。
8.一種基板貼合裝置，其特征在于，具有兩個(gè)權(quán)利要求1所述的基板吸附裝置，所述基板吸附裝置以工作臺(tái)的吸附面彼此相對(duì)的形態(tài)配置，所述各工作臺(tái)在分別吸附保持基板的狀態(tài)下互相接近從而使所述各基板彼此間貼合。
全文摘要
本發(fā)明能以低成本且容易的構(gòu)成檢測(cè)出致使基板(20)損傷的異物(15)的混入，從而將基板(20)的損傷防患于未然?；逦窖b置(1)包括具有用于保持基板(20)的吸附面(12)的工作臺(tái)(11)；設(shè)置在工作臺(tái)(11)的吸附面(12)上的多個(gè)吸附口(13)；以及通過(guò)排氣通路(17)與吸附口(13)連接的真空泵(14)。并且，包括檢測(cè)排氣通路(17)內(nèi)的壓力的壓力傳感器(18)，在工作臺(tái)(11)的除設(shè)置吸附口(13)的位置以外的區(qū)域形成有在工作臺(tái)(11)的吸附面(12)和工作臺(tái)(11)的側(cè)面都開(kāi)放的多個(gè)泄漏槽(30)。
文檔編號(hào)G02F1/1333GK1910745SQ20058000219
公開(kāi)日2007年2月7日 申請(qǐng)日期2005年1月13日 優(yōu)先權(quán)日2004年1月16日
發(fā)明者三宅秀知 申請(qǐng)人:夏普株式會(huì)社