專利名稱：用于光的均勻化的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于光的均勻化的裝置，包括一第一圓柱形透鏡 組，通過它可透過待均勻化的光，其中該第一圓柱形透鏡組具有圓柱 軸線相互平行的凸面的和凹面的圓柱形透鏡，它們交替地并排設(shè)置， 還包括一第二圓柱形透鏡組，通過它可透過已通過第一圓柱形透鏡組 透過的光，其中該第二圓柱形透鏡組具有圓柱軸線相互平行的凸面的 和凹面的圓柱形透鏡，它們交替地并排設(shè)置，并且第二圓柱形透鏡組 的圓柱形透鏡的圓柱軸線平行于第一圓柱形透鏡組的圓柱形透鏡的圓
柱軸線定位。本發(fā)明還涉及一種按照權(quán)利要求16的前序部分所述的裝 置。
背景技術(shù)：
上述裝置中也應(yīng)該包括具有凹面的圓柱形透鏡的圓柱形透鏡組， 這些凹面的圓柱形透鏡明顯小于與其鄰接的凸面的圓柱形透鏡。例如 凹面的圓柱形透鏡可以僅僅是兩凸面的圓柱形透鏡之間的中間空隙中 的凹槽或近似平面的區(qū)域。上述型式的裝置是已知的。這樣的裝置例 如應(yīng)用于均勻化比較不均勻的光，例如其來自 一激發(fā)物激光或一激光 二極管棒。圖1簡(jiǎn)化示出這樣的均勻化裝置的工作原理。在圖中描繪 的裝置中第一圓柱形透鏡組l設(shè)置在一第一基片2上，而第二圓柱形 透鏡組3設(shè)置在一第二基片4上，其中基片2、 4彼此保持間距。向裝 置上入射的不均勻的光5由裝置這樣均勻化，即由圓柱形透鏡組l、 3 的各個(gè)圓柱形透鏡將光在由裝置射出的光場(chǎng)6的一角度區(qū)域上均勻地 分布。通過在第二基片4的后面設(shè)置的場(chǎng)透鏡可以將射出的光場(chǎng)6中 的均勻的角度分布轉(zhuǎn)變?yōu)橐还ぷ髌矫嬷械南鄳?yīng)的均勻的位置分布。
在開頭所述型式的裝置中，通常第二圓柱形透鏡組3的凸面的圓 柱形透鏡的焦距大致符合第 一與第二圓柱形透鏡組之間的間距。按這
種方式使第二圓柱形透鏡組的凸面的圓柱形透鏡在一工作平面內(nèi)映射
(abbilden ) —垂直于在第一圓柱形透鏡組的區(qū)域內(nèi)入射的不均勻的 光的傳播方向的平面。
圖2詳細(xì)示出，入射的不均勻的光如何透過第一圓柱形透鏡組1 的凸面的和凹面的圓柱形透鏡7、8和第二圓柱形透鏡組2的凸面的和 凹面的圓柱形透鏡9、 IO延伸。圖2中特別描繪一在左邊的圖區(qū)域和 一在右邊的圖區(qū)域內(nèi)延伸的分光束ll、 12。該待均勻化的光5的分光 束11、 12透過第一圓柱形透鏡組的兩凹面的圓柱形透鏡8。明顯的是， 通過凹面的圓柱形透鏡8的分光束11、 12大部分向第二圓柱形透鏡組 2的一凸面的圓柱形透鏡9折射。由該凸面的圓柱形透鏡9使映射的 分光束ll、 12在一這樣的角度下折射，即其在與一場(chǎng)透鏡疊加時(shí)在一 照明的區(qū)域的外面的側(cè)面區(qū)域內(nèi)進(jìn)入一工作平面內(nèi)。
這種情況簡(jiǎn)化說明于圖3中。圖3中描繪在一工作平面內(nèi)相對(duì)于 一位置坐標(biāo)或相對(duì)于一角坐標(biāo)的強(qiáng)度。圖3中描述的光分布具有一中 間的基本上均勻的區(qū)域13和兩端的過高部14,后者基本上通過上述 的分光束11、 12或通過其他的相應(yīng)的分光束引起，這些分光束透過第 一圓柱形透鏡組1的凹面的圓柱形透鏡8。對(duì)這樣的份額的說明可看 出在于，第一圓柱形透鏡組1的凹面的圓柱形透鏡8具有很小的半徑 并從而具有同樣很小的焦距。因此凹面的圓柱形透鏡8的可能的焦點(diǎn) 大致位于第一圓柱形透鏡組1的平面內(nèi)并且由第二圓柱形透鏡組2的 凸面的圓柱形透鏡9映射于工作平面內(nèi)。
圖3中明顯的和對(duì)現(xiàn)有技術(shù)典型的過高部14對(duì)于一整系列應(yīng)用是 干擾的。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種開頭所述型式的裝置，其可以在一工 作平面內(nèi)產(chǎn)生均勻的光分布。
按照本發(fā)明這通過開頭所述型式的裝置達(dá)到，其具有權(quán)利要求1 或權(quán)利要求16所表明的特征。諸從屬權(quán)利要求涉及發(fā)明的優(yōu)選的進(jìn)一 步構(gòu)成。
按照權(quán)利要求1設(shè)定，第一圓柱形透鏡組的凹面的圓柱形透鏡在 各圓柱形透鏡并排設(shè)置的方向具有不同于第二圓柱形透鏡組的凹面的 圓柱形透鏡在各圓柱形透鏡并排設(shè)置的方向的造型。例如通過有目的 地改變第一和/或第二圓柱形透鏡組的凹面的圓柱形透鏡的伸展量和/
或曲率可以避免圖3中明顯的過高部。
在這方面可以例如設(shè)定，第二圓柱形透鏡組的凹面的圓柱形透鏡 在各圓柱形透鏡并排設(shè)置的方向大于、優(yōu)選顯著大于第一圓柱形透鏡 組的凹面的圓柱形透鏡。例如第二圓柱形透鏡組的凹面的圓柱形透鏡 在該方向可以至少約為第一圓柱形透鏡組的凹面的圓柱形透鏡的兩倍 大。通過第二圓柱形透鏡組的凹面的圓柱形透鏡的加大可以至少部分 地避免透過第一圓柱形透鏡組的凹面的圓柱形透鏡的分光束向第二圓 柱形透鏡組的凸面的圓柱形透鏡入射。但以此其使透過第 一 圓柱形透 鏡組的凹面的圓柱形透鏡的分光束不再由第二圓柱形透鏡組的凸面的 圓柱形透鏡折射或映射入工作平面內(nèi)的在側(cè)面的光場(chǎng)區(qū)域內(nèi)。因此消 除過高部。借此加大圖3中明顯均勻的區(qū)域13。特別是由于這一事實(shí)， 即已透過第一圓柱形透鏡組的凹面的圓柱形透鏡的分光束透過第二圓 柱形透鏡組的凹面的圓柱形透鏡，達(dá)到使這些分光束基本上在均勻化 的光場(chǎng)的全寬上分布于工作平面內(nèi)。按這種方式增大裝置的效率(在 均勻的區(qū)域內(nèi)的光量或總光量)。
還具有可能性，即第一圓柱形透鏡組的凸面的圓柱形透鏡在各圓 柱形透鏡并排設(shè)置的方向大于、特別是多倍大于第一圓柱形透鏡組的 凹面的圓柱形透鏡。特別是各凹面的圓柱形透鏡可以只構(gòu)成第一圓柱 形透鏡組的各凸面的圓柱形透鏡之間的凹槽或幾乎平面的區(qū)域。
如在現(xiàn)有技術(shù)中那樣，在本發(fā)明中也具有可能性，即第二圓柱形 透鏡組的凸面的圓柱形透鏡的焦距大致同第一圓柱形透鏡組與第二圓 柱形透鏡組之間的間距一樣大。按這種方式通過第二圓柱形透鏡組的 凸面的圓柱形透鏡達(dá)到第一圓柱形透鏡組的平面在工作平面內(nèi)的平面 的映射。
按照本發(fā)明的另一優(yōu)選的實(shí)施形式具有可能性，即第一圓柱形透 鏡組的凹面的圓柱形透鏡的焦距顯著大于第二圓柱形透鏡組的凸面的 圓柱形透鏡的焦距。按這種方式可以使第一圓柱形透鏡組的各凹面的 圓柱形透鏡的可能的焦點(diǎn)較遠(yuǎn)地離開第二圓柱形透鏡組的焦平面，從 而這些焦點(diǎn)并不聚焦地由第二圓柱形透鏡組的凸面的圓柱形透鏡映射 于工作平面內(nèi)。按這種方式因此即使在第二圓柱形透鏡組的較小的凹 面的圓柱形透鏡的情況下并從而即使在先前已透過第一圓柱形透鏡組 的凹面的圓柱形透鏡、透過第二圓柱形透鏡組的凸面的圓柱形透鏡的 分光束的情況下，也可以達(dá)到使在工作平面內(nèi)的側(cè)面的光分布區(qū)域內(nèi) 不引起過高部。
特別具有可能性，即第一圓柱形透鏡組的凹面的圓柱形透鏡在各 圓柱形透鏡并排設(shè)置的方向具有大致同第一圓柱形透鏡組的凸面的圓 柱形透鏡在各圓柱形透鏡并排設(shè)置的方向的相同的伸展量。在一這樣 的設(shè)置中各凹面的圓柱形透鏡的焦點(diǎn)可以明顯地遠(yuǎn)離第一圓柱形透鏡 組的平面。
具有可能性，即裝置包括一個(gè)基片，在其上將第一圓柱形透鏡組 和第二圓柱形透鏡組設(shè)置在相互對(duì)置的側(cè)面上。于是該基片可以具有 一相應(yīng)的厚度，從而第一圓柱形透鏡組與第二圓柱形透鏡組的凸面的 圓柱形透鏡的焦距有間距地與其分離。
與此不同具有可能性，即裝置包括一第一基片和一不同于第一基 片、特別與第一基片保持間距的第二基片，其中第一圓柱形透鏡組設(shè) 置在第一基片上而第二圓柱形透鏡組設(shè)置在第二基片上。在一這樣的 裝置中于是可以匹配兩基片之間的間距，以使第 一和第二圓柱形透鏡 組之間的間距符合第二圓柱形透鏡組的凸面的圓柱形透鏡的焦距。
在一這樣的裝置中還具有可能性，即裝置包括一第三圓柱形透鏡 組，其設(shè)置在第一基片的對(duì)置于第一圓柱形透鏡組的側(cè)面上并且具有 圓柱軸線相互平行的、交替地并排設(shè)置的凸面的和凹面的圓柱形透鏡， 其中第一圓柱形透鏡組的圓柱形透鏡的圓柱軸線垂直于第三圓柱形透 鏡組的圓柱形透鏡的圓柱軸線設(shè)置。
與此不同或附加地可以設(shè)定，裝置還包括一第四圓柱形透鏡組，
其設(shè)置在第二基片的對(duì)置于第二圓柱形透鏡組的側(cè)面上并且具有圓柱 軸線相互平行的、交替地并排設(shè)置的凸面的和凹面的圓柱形透鏡，其 中第二圓柱形透鏡組的圓柱形透鏡的圓柱軸線垂直于第四圓柱形透鏡 組的圓柱形透鏡的圓柱軸線設(shè)置。通過第三和必要時(shí)第四圓柱形透鏡 組可以在一個(gè)方向?qū)崿F(xiàn)待均勻化的光的均勻化，該方向垂直于有助于 第一和第二圓柱形透鏡組均勻化的方向。為此第三和第四圓柱形透鏡 組可以按照第一和第二圓柱形透鏡組構(gòu)成、特別是關(guān)于第三和第四圓 柱形透鏡組的凹面的圓柱形透鏡的寬度。此外第三與第四圓柱形透鏡 組的間距也可以基本上符合第三圓柱形透鏡組的凸面的圓柱形透鏡的 焦距。
按照權(quán)利要求16可以設(shè)定，第一圓柱形反射鏡組的凹面的圓柱形 反射鏡在各圓柱形反射鏡并排設(shè)置的方向比第二圓柱形反射鏡組的凹 面的圓柱形反射鏡在各圓柱形反射鏡并排設(shè)置的方向具有不同的造
型、特別是不同的伸展量和/或不同的曲率。通過按照權(quán)利要求1至15 所述的圓柱形透鏡組的特性向圓柱形反射鏡組的這樣的轉(zhuǎn)送最后達(dá)到 相同的優(yōu)點(diǎn)。
特別具有可能性，即通過在權(quán)利要求2至15中對(duì)圓柱形透鏡組說 明的相應(yīng)的特征進(jìn)一步構(gòu)成按照權(quán)利要求16所述的裝置，因此特別可 以使第一圓柱形反射鏡組的各凹面的圓柱形反射鏡的焦點(diǎn)較遠(yuǎn)地離開 第一圓柱形反射鏡組的平面。此外第二圓柱形反射鏡組的凹面的圓柱
形反射鏡可以大于、特別是明顯大于第一圓柱形反射鏡組的凹面的圓 柱形反射鏡。還具有可能性，即第一圓柱形反射鏡組與第二圓柱形反 射鏡組的間距大致符合第二圓柱形反射鏡組的凸面的圓柱形反射鏡的 焦距。此外還可以設(shè)有第三和/或第四圓柱形反射鏡組，它們具有多個(gè) 圓柱形反射鏡，其圓柱軸線垂直于第一和第二圓柱形反射鏡組的圓柱 形反射鏡的圓柱軸線定位。


借助以下參照附圖的各優(yōu)選的實(shí)施例的描述，本發(fā)明的其他的特 征和優(yōu)點(diǎn)變得明顯。其中
圖1 簡(jiǎn)化示出一用于光的均勻化的裝置的工作原理；
圖2 —按照現(xiàn)有技術(shù)用于均勻化的裝置的簡(jiǎn)化側(cè)視圖3 —在一工作平面內(nèi)的光分布的簡(jiǎn)化視圖，其通過一按圖2
用于均勻化的裝置產(chǎn)生；
圖4 筒化示出一本發(fā)明的裝置的第一實(shí)施形式的一部分； 圖5 簡(jiǎn)化示出一本發(fā)明的裝置的第二實(shí)施形式的一部分。
具體實(shí)施例方式
圖4和圖5中為了說明標(biāo)出直角坐標(biāo)系。
圖4中明顯的本發(fā)明的裝置的第一實(shí)施形式包括一第一基片15 和一第二基片16。第一基片15在其射入面上具有一第一圓柱形透鏡 組17，反之射出面構(gòu)成平面的。與此不同也具有可能性，即射出面同 樣設(shè)有一圓柱形透鏡組，其例如交叉于第一圓柱形透鏡組17定位。第 一圓柱形透鏡組17具有凸面的圓柱形透鏡18和凹面的圓柱形透鏡 19,它們交替地并排設(shè)置。在圖4描繪的實(shí)施例中只示出兩個(gè)凹面的 圓柱形透鏡19和一個(gè)凸面的圓柱形透鏡18。但更確切地說應(yīng)該可以 在X方向并排設(shè)置大量的凸面的和凹面的圓柱形透鏡18、 19。凹面的 圓柱形透鏡19在X方向、亦即在各圓柱形透鏡18、 19并排設(shè)置的方 向比凸面的圓柱形透鏡18明顯較小地伸展。
第二基片16在其射入面上，亦即在其面向第一基片15的側(cè)面上 具有一第二圓柱形透鏡組20,包括凸面的圓柱形透鏡21和凹面的圓 柱形透鏡22。凸面的和凹面的圓柱形透鏡21、 22在X方向交替地并 排設(shè)置，其中在這里同樣可以在基片16的射入面上設(shè)置大量的凸面的 和凹面的圓柱形透鏡21、 22。圖4中還明顯的是，第一圓柱形透鏡組 17的圓柱形透鏡18、 19的圓柱軸線和第二圓柱形透鏡組20的凸面的 和凹面的圓柱形透鏡21、 22的圓柱軸線均在Y方向、亦即在垂直于 圓柱形透鏡18、 19、 21、 22并排設(shè)置的X方向的方向定位。第二基 片16的射出面同樣構(gòu)成平面的?；蛘叩诙?6的射出面同樣也可 以設(shè)有另一圓柱形透鏡組，其中圓柱形透鏡的圓柱軸線可以垂直于第 二圓柱形透鏡組20的圓柱形透鏡21、 22的圓柱軸線定位。
圖4中明顯的是，第二圓柱形透鏡組20的凹面的圓柱形透鏡22 在X方向、亦即在圓柱形透鏡18、 19、 21、 22并排設(shè)置的方向，明 顯地大于第一圓柱形透鏡組17的凹面的圓柱形透鏡19。特別是第二 圓柱形透鏡組20的凹面的圓柱形透鏡22在該實(shí)施例中大致為第 一 圓 柱形透鏡組17的凹面的圓柱形透鏡19的兩倍寬。
圖4中還標(biāo)出待均勻化的光25的分光束23、 24，其透過第一圓 柱形透鏡組17的凹面的圓柱形透鏡19。不同于按現(xiàn)有技術(shù)的分光束 11、 12 (見圖2)，分光束23、 24不透過或只一不重要的分量透過第 二圓柱形透鏡組20的凸面的圓柱形透鏡21，而通過第二圓柱形透鏡 組的加寬的凹面的圓柱形透鏡22。按這種方式由第二圓柱形透鏡組20 的凹面的圓柱形透鏡22將分光束23、 24折射成使其在工作平面內(nèi)在 一寬的區(qū)域上、特別是在均勻化的光場(chǎng)的全寬上分布。按這種方式避 免按現(xiàn)有技術(shù)圖3中明顯的側(cè)面的過高部14。
圖5中明顯的本發(fā)明的裝置的第二實(shí)施形式也包括一第一基片26 和一第二基片27。第一基片26在其射入面上具有一第一圓柱形透鏡 組28，包括凸面的圓柱形透鏡29和凹面的圓柱形透鏡30。第二基片 27在其射入面上，亦即在其面向第一基片26的側(cè)面上具有一第二圓 柱形透鏡組31 ，包括凸面的圓柱形透鏡32和凹面的圓柱形透鏡33。 在兩基片26、 27中不僅可以交替地并排設(shè)置描繪數(shù)量的圓柱形透鏡 29、 30、 32、 33，而且可以交替地并排設(shè)置大量的圓柱形透鏡29、 30、 32、 33。
不同于按圖4的實(shí)施例，在按圖5的實(shí)施例中，第一圓柱形透鏡 組28的凹面的圓柱形透鏡30在X方向，亦即在圓柱形透鏡29、 30 交替地并排設(shè)置的方向具有大致同第一圓柱形透鏡組28的凸面的圓 柱形透鏡29相同的寬度或相同的伸展量。與此不同第二圓柱形透鏡組 31的凹面的圓柱形透鏡33明顯小于第二圓柱形透鏡組31的凸面的圓 柱形透鏡32。
由于第一圓柱形透鏡組28的基本上相同寬度的凹面的和凸面的 圓柱形透鏡30、 29,第一圓柱形透鏡組28的凹面的圓柱形透鏡30的
焦距f化是較大的，亦即在待均勻化的光的傳播方向z特別約為凸面 的圓柱形透鏡29的高度或伸展量的兩倍大。圖5中為了說明還標(biāo)出第 二圓柱形透鏡組31的凸面的圓柱形透鏡32的焦距f2v。由圖5可看出， 凸面的圓柱形透鏡32的該焦距f2v大致符合第 一 圓柱形透鏡組28與第 二圓柱形透鏡組31之間的間距。由于第一圓柱形透鏡組28的凹面的 圓柱形透鏡30的較大的焦距flk,圖5中示意表示的凹面的圓柱形透 鏡30的可能的焦點(diǎn)并不由第二圓柱形透鏡組31的凸面的圓柱形透鏡 32映射于工作平面內(nèi)。這在圖5通過示例性標(biāo)出的分光束35、 36、 37 來說明。
不僅在按圖4的實(shí)施形式中而且在按圖5的實(shí)施形式中在待均勻 化的光的傳播方向第一圓柱形透鏡組17、 18的凸面的圓柱形透鏡18、 29的頂點(diǎn)垂線與第二圓柱形透鏡組20、 31的凸面的圓柱形透鏡21、 32的頂點(diǎn)垂線對(duì)準(zhǔn)。此外第一圓柱形透鏡組17、 28的凹面的圓柱形 透鏡19、 30的頂點(diǎn)垂線也與第二圓柱形透鏡組20、 31的凹面的圓柱 形透鏡22、 33的頂點(diǎn)垂線對(duì)準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.用于光的均勻化的裝置，包括第一圓柱形透鏡組(17，28)，通過它可透過待均勻化的光(25)，其中第一圓柱形透鏡組(17，28)具有圓柱軸線相互平行的、交替地并排設(shè)置的凸面的和凹面的圓柱形透鏡(18，19，29，30)；第二圓柱形透鏡組(20，31)，通過它可透過已通過第一圓柱形透鏡組(17，28)透過的光，其中第二圓柱形透鏡組(20，31)具有圓柱軸線相互平行的、交替地并排設(shè)置的凸面的和凹面的圓柱形透鏡(21，22，32，33)，并且第二圓柱形透鏡組(20，31)的圓柱形透鏡(21，22，32，33)的圓柱軸線平行于第一圓柱形透鏡組(17，28)的圓柱形透鏡(18，19，29，30)的圓柱軸線定位；其特征在于，第一圓柱形透鏡組(17，28)的凹面的圓柱形透鏡(19，30)在圓柱形透鏡(18，19，29，30)并排設(shè)置的方向(X)上的造型不同于第二圓柱形透鏡組(20，31)的凹面的圓柱形透鏡(22，33)在圓柱形透鏡(21，22，32，33)并排設(shè)置的方向(X)上的造型。
2. 按照權(quán)利要求l所述的裝置，其特征在于，第一圓柱形透鏡組 (17， 28)的凹面的圓柱形透鏡(19， 30)在圓柱形透鏡(18， 19,29， 30)并排設(shè)置的方向(X)具有不同于第二圓柱形透鏡組(20, 31)的凹面的圓柱形透鏡(22, 33)在圓柱形透鏡(21， 22， 32， 33) 并排設(shè)置的方向(X)的伸展量和/或曲率。
3. 按照權(quán)利要求1或2之一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，第一圓 柱形透鏡組(17， 28)的凹面的圓柱形透鏡(19, 30)的頂點(diǎn)垂線在 待均勻化的光(25 )的傳播方向(Z)基本上與第二圓柱形透鏡組(20， 31)的凹面的圓柱形透鏡(22， 33)的頂點(diǎn)垂線對(duì)準(zhǔn)。
4. 按照權(quán)利要求1至3之一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，第一和 /或第二圓柱形透鏡組(17， 20， 28， 31)的圓柱形透鏡(18, 19, 21， 22, 29， 30， 32， 33)的圓柱軸線與圓柱形透鏡(18， 19, 21， 22, 29， 30， 32， 33)并排設(shè)置的方向(X)垂直地定位。
5. 按照權(quán)利要求1至4之一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，第二圓 柱形透鏡組(20)的凹面的圓柱形透鏡(22)在圓柱形透鏡(18, 19， 21， 22)并排設(shè)置的方向(X)大于、優(yōu)選顯著大于第一圓柱形透鏡 組(17)的凹面的圓柱形透鏡(19)。
6. 按照權(quán)利要求1至5之一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，第一圓 柱形透鏡組(17)的凸面的圓柱形透鏡(18)在圓柱形透鏡(18, 19， 21， 22)并排設(shè)置的方向(X)大于、特別是多倍大于第一圓柱形透 鏡組(17)的凹面的圓柱形透鏡(19)。
7. 按照權(quán)利要求1至6之一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，第二圓 柱形透鏡組(20， 31)的凸面的圓柱形透鏡(21， 32)的焦距(f2v) 大致同第一圓柱形透鏡組(17, 28)與第二圓柱形透鏡組(20， 31) 之間的間距一樣大。
8. 按照權(quán)利要求1至7之一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，第一圓 柱形透鏡組(28)的凹面的圓柱形透鏡(30)的焦距(flk)大于第一 圓柱形透鏡組(28)的凸面的圓柱形透鏡(29)在待均勻化的光(25) 的傳播方向(Z)上的伸展量。
9. 按照權(quán)利要求8所述的裝置，其特征在于，第一圓柱形透鏡組 (28)的凹面的圓柱形透鏡(30)的焦距(flk)至少為第一圓柱形透鏡組的凸面的圓柱形透鏡(29)在待均勻化的光的傳播方向(Z)上 的伸展量的兩倍大。
10. 按照權(quán)利要求8或9之一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，第一 圓柱形透鏡組(28)的凹面的圓柱形透鏡(30)在圓柱形透鏡(29, 30)并排設(shè)置的方向(X)上的伸展量大致與第一圓柱形透鏡組(28) 的凸面的圓柱形透鏡(29)在圓柱形透鏡(29， 30)并排設(shè)置的方向(X)上的伸展量相同。
11. 按照權(quán)利要求1至IO之一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，第一 圓柱形透鏡組(28)的凹面的圓柱形透鏡(30)的焦距(flk)大于第 二圓柱形透鏡組(31)的凹面的圓柱形透鏡(33)的焦距。
12. 按照權(quán)利要求1至11之一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，該裝 置包括一個(gè)基片，在該基片上在相互對(duì)置的側(cè)面上設(shè)置第一圓柱形透 鏡組和第二圓柱形透鏡組。
13. 按照權(quán)利要求1至11之一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，該裝 置包括一第一基片(15, 26)和一不同于第一基片、特別是與第一基 片(15， 26)保持間距的第二基片(16， 27)，其中第一圓柱形透鏡組(17, 28)設(shè)置在第一基片(15， 26)上，而第二圓柱形透鏡組(20， 31)設(shè)置在第二基片(16， 27)上。
14. 按照權(quán)利要求13所述的裝置，其特征在于，該裝置還包括一 第三圓柱形透鏡組，其設(shè)置在第一基片(15， 26)的對(duì)置于第一圓柱 形透鏡組(17， 28)的側(cè)面上并且具有圓柱軸線相互平行的、交替地 并排設(shè)置的凸面的和凹面的圓柱形透鏡，其中第一圓柱形透鏡組(17， 28)的圓柱形透鏡(18， 19， 29， 30)的圓柱軸線垂直于第三圓柱形 透鏡組的圓柱形透鏡的圓柱軸線設(shè)置。
15. 按照權(quán)利要求13或14之一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，該 裝置還包括一第四圓柱形透鏡組，其設(shè)置在第二基片(16， 27)的對(duì) 置于第二圓柱形透鏡組(20， 31)的側(cè)面上并且具有圓柱軸線相互平 行的、交替地并排設(shè)置的凸面的和凹面的圓柱形透鏡，其中第二圓柱 形透鏡組(20， 31)的圓柱形透鏡(21， 22, 32， 33)的圓柱軸線垂 直于第四圓柱形透鏡組的圓柱形透鏡的圓柱軸線設(shè)置。
16. 用于光的均勻化的裝置，包括第一圓柱形反射鏡組，在其上可以反射待均勻化的光，其中第一 圓柱形反射鏡組具有圓柱軸線相互平行的、交替地并排設(shè)置的凸面的 和凹面的圓柱形反射鏡； 第二圓柱形反射鏡組，由其可以反射由第一圓柱形反射鏡組反射 的光，其中第二圓柱形反射鏡組具有圓柱軸線相互平行的、交替地并 排設(shè)置的凸面的和凹面的圓柱形反射鏡，并且第二圓柱形反射鏡組的 圓柱形反射鏡的圓柱軸線平行于第一圓柱形反射鏡組的圓柱形反射鏡的圓柱軸線設(shè)置；其特征在于，第一圓柱形反射鏡組的凹面的圓柱形反射鏡在各圓 柱形反射鏡并排設(shè)置的方向上與第二圓柱形反射鏡組的凹面的圓柱形 反射鏡在各圓柱形反射鏡并排設(shè)置的方向上相比具有不同的造型、特 別是不同的伸展量和/或不同的曲率。
全文摘要
用于光的均勻化的裝置，包括至少兩個(gè)在待均勻化的光(25)的傳播方向接連設(shè)置的圓柱形透鏡組(17，20)，它們分別具有交替地并排設(shè)置的凸面的和凹面的圓柱形透鏡(18，19，21，22)，其圓柱軸線相互平行定位。在圓柱形透鏡(18，19，21，22)并排設(shè)置的方向(X)上第一圓柱形透鏡組(17)的凹面的圓柱形透鏡(19)與第二圓柱形透鏡組(20)的凹面的圓柱形透鏡(22)相比具有不同的造型、特別是不同的伸展量或曲率。
文檔編號(hào)G02B27/09GK101099103SQ200580046084
公開日2008年1月2日 申請(qǐng)日期2005年1月7日 優(yōu)先權(quán)日2005年1月7日
發(fā)明者H·甘澤, M·波得洛夫, W·希爾 申請(qǐng)人:翰茲-利索茲切科專利管理有限公司及兩合公司