專利名稱：顯影滾筒及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種可適用于顯影裝置的顯影滾筒，所述顯影裝置用在以復(fù)印機(jī)和打印機(jī)為代表的電子照相圖像形成設(shè)備中，還涉及制造這種顯影滾筒的方法背景技術(shù)在以復(fù)印機(jī)和打印機(jī)為代表的電子照相圖像形成設(shè)備中，在對圖像載體的表面均勻加載電荷之后，借助于光的照射，通過電位的局部光衰減，形成原始圖像的靜電潛像，并將通過用調(diào)色劑對靜電潛像進(jìn)行顯影而形成的可見色調(diào)圖像轉(zhuǎn)印到紙上。在將色調(diào)圖像轉(zhuǎn)印到紙上之后，圖像載體表面上剩余的調(diào)色劑被清除，其中電荷也被去除，以準(zhǔn)備形成新的靜電潛像。
在作為上述圖像形成過程主要部分的顯影裝置中，作為對靜電潛像進(jìn)行顯影的典型方法，采用了下述方法其中將調(diào)色劑粘附到包括在顯影滾筒中的顯影套管表面，然后通過靜電力將調(diào)色劑從這個顯影套管表面轉(zhuǎn)移到圖像載體表面。包括這種顯影滾筒的顯影裝置的一個例子可以在專利文獻(xiàn)1中找到。
顯影裝置需要對圖像載體表面上形成的靜電潛像進(jìn)行顯影，而不會引起調(diào)色劑過剩、不足以及調(diào)色劑不均勻。因此，需要將調(diào)色劑均勻分布到包括在顯影滾筒中的顯影套管表面上，而不會引起任何調(diào)色劑過剩、不足以及調(diào)色劑不均勻。然而，重復(fù)使用顯影滾筒導(dǎo)致顯影套管表面逐漸磨損，從而不能均勻地將調(diào)色劑保持在該表面上，這會引起出現(xiàn)圖像錯誤的危險。作為解決這種問題的對策，在專利文獻(xiàn)1中描述了在包括在顯影裝置內(nèi)的顯影套管表面上進(jìn)行鍍鎳處理的方案，以提高顯影套管表面的耐磨損性。類似地，專利文獻(xiàn)2和專利文獻(xiàn)3分別給出了進(jìn)行防蝕鋁處理的例子和鍍鉻處理的例子，這兩種處理都是在顯影套管表面上進(jìn)行的，用以提高該表面的耐磨損性。
然而，盡管專利文獻(xiàn)1中所述的在包括在顯影裝置中的顯影套管表面上執(zhí)行鍍鎳處理的方案提供了很高的耐磨損性，但提出了這樣的考慮即調(diào)色劑電荷很容易逃逸。這使得很難將調(diào)色劑保持在顯影套管表面上，這必將導(dǎo)致轉(zhuǎn)移到圖像載體表面上的調(diào)色劑量減少，從而可能不能提供令人滿意的圖像濃度。
在顯影套管表面上執(zhí)行的、如專利文獻(xiàn)2中所述的在圓柱狀顯影載體(顯影套管)上執(zhí)行的防蝕鋁處理典型地提高了耐磨損性，并解決了專利文獻(xiàn)1中所述的鍍鎳處理中存在的調(diào)色劑電荷容易逃逸的問題，但是相反，存在這樣的強(qiáng)烈趨勢即調(diào)色劑電荷幾乎不能消散。這使得很難將調(diào)色劑從顯影套管表面轉(zhuǎn)移到圖像載體表面，從而可能出現(xiàn)虛幻顯示圖像(ghost image)的問題，即上一次顯影操作中形成的圖像圖案對下一次顯影操作產(chǎn)生不利的影響。另外，由于不能將調(diào)色劑從顯影套管表面移走，調(diào)色劑電荷量不斷增加，從而導(dǎo)致出現(xiàn)所謂“薄層擾動”的現(xiàn)象，即調(diào)色劑在顯影套管表面集中到一起。
專利文獻(xiàn)3所述的在包括在顯影裝置的顯影滾筒內(nèi)的顯影套管表面上執(zhí)行鍍鉻處理在耐磨損性和調(diào)色劑電荷保持特性方面提供了良好的效果，但提出了這樣的考慮即鉻對環(huán)境的影響。在常規(guī)金屬電鍍中經(jīng)常使用的鉻(六價鉻)在歐盟國家被規(guī)定為對環(huán)境有害的物質(zhì)，因此其使用受到越來越多的限制。因此，目前電鍍工業(yè)領(lǐng)域的許多公司都已經(jīng)停止使用鉻。
JP-A-S58-132768[專利文獻(xiàn)2]JP-A-2003-35992[專利文獻(xiàn)3]JP-A-2001-235940發(fā)明內(nèi)容考慮到上述問題提出了本發(fā)明，本發(fā)明的一個目的是提供一種用于對圖像載體表面上形成的靜電潛像進(jìn)行顯影的顯影滾筒，該顯影滾筒能夠避免如虛幻顯示圖像和薄層擾動這樣的圖像錯誤，并通過使用包含在其中的具有改進(jìn)的調(diào)色劑電荷保持特性和改進(jìn)的耐磨損性的顯影套管提供了令人滿意的圖像濃度，同時對環(huán)境問題加以考慮。本發(fā)明的另一個目的是提供一種制造這種顯影滾筒的方法。
為了實現(xiàn)上述目的，在根據(jù)本發(fā)明的一個方面的顯影滾筒中，在顯影套管的一個基底上形成鍍鎳層，并在該鍍鎳層的表面上形成一個氧化鎳涂層。
根據(jù)這種設(shè)計，顯影套管的表面可以被鈍化。由氧化鎳涂層所形成的鈍化保護(hù)可以抑制由于鍍鎳處理而造成的顯影套管表面上調(diào)色劑電荷逃逸的趨勢。作為結(jié)果，與鍍鎳層所得到的耐磨損性一樣，通過氧化鎳涂層的作用，調(diào)色劑電荷保持特性也能夠保持在令人滿意的狀態(tài)。因此，顯影滾筒能夠避免如虛幻顯示圖像和薄層擾動這樣的圖像錯誤，同時也提供了令人滿意的圖像濃度，而不會使用任何對環(huán)境有害的物質(zhì)。
在上述設(shè)計的顯影滾筒中，顯影套管的基底由基于鋁的金屬材料構(gòu)成。
根據(jù)這種設(shè)計，很容易進(jìn)行加工。顯影套管的表面需要一定的粗糙度，以便于保持調(diào)色劑。用基于鋁的金屬材料形成顯影套管的基底可以簡單、精確地形成這種具有粗糙度的表面。因此，顯影套管表面上的調(diào)色劑變得很牢固，從而提高了顯影滾筒的顯影性能。
在根據(jù)本發(fā)明另一方面的顯影滾筒制造方法中，在制造顯影滾筒時，將顯影滾筒的一個基底上形成一個鍍鎳層，并在顯影套管的鍍鎳層表面上形成一個氧化鎳涂層。
根據(jù)這種設(shè)計，所制造出的顯影滾筒具有由鍍鎳層所提供的耐磨損性，以及由氧化鎳涂層所提供的令人滿意的調(diào)色劑電荷保持特性，而不會引起任何圖像錯誤。
在上述設(shè)計的顯影滾筒制造方法中，通過多次重復(fù)進(jìn)行氧化處理來形成氧化鎳涂層。
根據(jù)這種設(shè)計，可以通過選擇氧化處理的次數(shù)來任意調(diào)整氧化鎳涂層的厚度。因此，該方法允許形成具有保持適當(dāng)調(diào)色劑電荷保持特性所需厚度的氧化鎳涂層，并能夠制造出可以連續(xù)形成圖像而不會產(chǎn)生任何錯誤的顯影滾筒。
在上述設(shè)計的顯影滾筒制造方法中，通過先用一種弱酸來進(jìn)行氧化處理、然后用一種強(qiáng)酸來進(jìn)行氧化處理，從而形成氧化鎳涂層。
根據(jù)這種設(shè)計，適當(dāng)厚度的氧化鎳涂層可以用一種強(qiáng)酸來形成，但并非直接使用這種可能會損壞鍍鎳層表面的強(qiáng)酸。因此這比用一種弱酸來重復(fù)進(jìn)行氧化處理需要更少的勞動和事件，從而得到了更高的操作效率。
在上述設(shè)計的顯影滾筒制造方法中，通過將在其基底表面上形成有鍍鎳層的顯影套管浸入到一種酸的水溶液中來形成氧化鎳涂層。
根據(jù)這種設(shè)計，與使用加熱爐的高溫氧化處理方法相比，可以避免由于熱膨脹而引起的尺寸精度偏差。因此，這種方法能夠制造出具有很高的尺寸精度、并能夠?qū)@影套管表面上的調(diào)色劑保持在適當(dāng)狀態(tài)的顯影滾筒。


圖1是包含有根據(jù)本發(fā)明的第一個實施例的顯影滾筒的顯影裝置的局部垂直立剖圖；圖2是圖1所示顯影滾筒的透視示意圖；圖3是圖1所示顯影套管的放大的局部垂直立剖面；圖4是顯示了考慮到顯影套管的基底材料及其表面處理方法，對如圖像濃度、加工性能等特性做出的分析的表格；圖5是顯示了在顯影套管表面上形成氧化鎳涂層時所執(zhí)行的氧化處理次數(shù)對于保持圖像濃度的持久性的影響的圖示；以及圖6是顯示了在顯影套管表面上形成氧化鎳涂層時使用的酸的種類對于直到形成預(yù)定厚度的涂層之前所執(zhí)行的氧化處理次數(shù)的影響的圖示。
具體實施例方式
下面參考圖1至圖6描述了本發(fā)明的實施例。
首先，參考圖1至圖3，描述了根據(jù)本發(fā)明的第一個實施例的顯影滾筒的結(jié)構(gòu)。圖1是包含該顯影滾筒的顯影裝置的局部垂直立剖圖。圖2是顯影滾筒的透視示意圖。圖3是顯影套筒的放大的局部垂直立剖圖。
如圖1所示，圖像形成設(shè)備的顯影裝置1具有一個顯影劑容器2。顯影劑容器2如此形成在圖像形成設(shè)備中垂直于紙張傳送方向的紙張寬度方向上(即向圖1的紙面上看去的深度方向上)拉長，而其縱向方向水平放置。顯影劑容器2的內(nèi)部通過在顯影劑容器2的縱向方向上延伸的分隔壁3分割成左、右兩部分模塊，如圖1所示。右側(cè)的模塊對應(yīng)于調(diào)色劑貯存腔體4，而左側(cè)的模塊對應(yīng)于顯影腔體5。
顯影劑容器2貯存著一種磁性調(diào)色劑的單一成份磁性顯影劑作為顯影劑。作為顯影劑的這種調(diào)色劑從調(diào)色劑貯存腔體4被輸送到顯影腔體5。為了實現(xiàn)這一過程，在分隔壁3的兩端提供了未示出的開口，在開口處使調(diào)色劑貯存腔體4和顯影腔體相互連通。在調(diào)色劑貯存腔體4中提供了一個用于攪拌調(diào)色劑的拌合螺旋6，在顯影腔體5中提供了一個用于輸送調(diào)色劑的輸送螺旋7，這兩者的軸水平放置。
顯影腔體5包括一個位于光電導(dǎo)體鼓100附近的開口8。在開口8中，設(shè)置了作為顯影劑載體的顯影滾筒20。顯影滾筒20的一側(cè)暴露在顯影腔體5的內(nèi)部，而其另一側(cè)暴露在顯影腔體5的外部，從而面向作為圖像載體的光電導(dǎo)體鼓100。顯影滾筒20和光電導(dǎo)體鼓100彼此位置靠近，或者相互接觸。顯影滾筒20通過未示出的驅(qū)動裝置逆時針轉(zhuǎn)動。在從顯影滾筒20暴露在顯影腔體5內(nèi)部的部分開始的轉(zhuǎn)動方向上的下行方向一側(cè)，即在圖1中的顯影滾筒20上方，提供了一個調(diào)節(jié)板9，該調(diào)節(jié)板以一定間隙10設(shè)置，所述間隙10具有在調(diào)節(jié)板較低一端與顯影滾筒20表面之間所提供的預(yù)定寬度。
如圖1和圖2所示，顯影滾筒20包括顯影套管30，對應(yīng)于其表面處吸附有調(diào)色劑，以及設(shè)置在顯影套管30內(nèi)的磁體21和軸部分22。如圖3所示，顯影套管30具有一個由基于鋁的金屬材料構(gòu)成的基底31。顯影套管30的基底31的表面受到噴砂處理或類似處理，以提供適當(dāng)程度的粗糙度，從而便于調(diào)色劑的保持。在這種基底31的表面上，形成了一個厚度為2至10μm的非電解的鍍鎳層32。此外，在鍍鎳層32的表面上，形成了一個氧化鎳涂層33。
作為這種顯影滾筒20的制造方法，顯影套管30上氧化鎳涂層的形成是通過將其浸入到一種酸的水溶液中，如20％的硝酸溶液中來實現(xiàn)的，上述浸入處理只執(zhí)行一次，浸入幾十秒鐘。
在以上述方式構(gòu)造的顯影裝置1中，與顯影滾筒20的轉(zhuǎn)動相關(guān)聯(lián)，通過磁場的作用從顯影腔體5吸引到顯影滾筒20表面的調(diào)色劑到達(dá)位于調(diào)節(jié)板9較低一端的間隙10。在這個區(qū)域處，在間隙10的控制下，調(diào)色劑在顯影滾筒20的表面上形成具有預(yù)定寬度的薄層。然后，在顯影滾筒20和光電導(dǎo)體鼓100彼此相對的位置處，調(diào)色劑轉(zhuǎn)移到光電導(dǎo)體鼓100上，從而形成了靜電潛像。所消耗的調(diào)色劑的量從一個未示出的調(diào)色劑供應(yīng)容器重新填充到調(diào)色劑貯存腔體4中。
接下來，參考圖4給出了考慮到包括在顯影滾筒20內(nèi)的顯影套管30的基底31的材料及其表面處理方法，對如圖像濃度、加工性能等特性所做出的分析。圖4中的表格顯示了考慮到顯影套管30的基底31的材料及其表面處理方法，對如圖像濃度、加工性能等特性所做出的分析。
如圖4所示，顯影套管30的基底31的材料包括SUS(不銹鋼)和基于鋁的金屬材料。對于基于鋁的金屬材料，對五種類型的表面處理進(jìn)行分析無表面處理，鍍Ni(鎳)處理，鍍Cr(鉻)處理，耐蝕鋁處理，以及鍍Ni處理與氧化涂層處理的結(jié)合。所要分析的特性包括五項圖像濃度，虛幻顯示(圖像)，薄層擾動，加工性能，以及環(huán)境因素。
首先，描述了考慮到如上所述的顯影套管30的基底31的圖像形成，對以上特性做出的分析。對于圖像濃度，在紙張上印制的圖像的濃度用GretagMacbeth公司所生產(chǎn)的反射顯像密度計RD-918來測量，當(dāng)測量值為1.2或更高時，該圖像濃度被判定為可接受的，當(dāng)測量值為1.2或更低時，該圖像濃度被判定為不可接受。根據(jù)圖4，當(dāng)基底31的材料為SUS時，或者當(dāng)基底31的材料為經(jīng)過鍍鉻處理、耐蝕鋁處理、或與氧化涂層處理相結(jié)合的鍍鎳處理的基于鋁的金屬材料時，所得到的結(jié)果是很好的。另一方面，當(dāng)基底31的材料為基于鋁的金屬材料時，對于未經(jīng)過表面處理或只經(jīng)過鍍鎳處理的情況而言，所得到的結(jié)果是很差的。這表明在這些顯影套管31上調(diào)色劑電荷很容易逃逸。
對于虛幻顯示和薄層擾動，在基底31由基于鋁的金屬材料構(gòu)成、且經(jīng)過耐蝕鋁處理的情況下，所得到的結(jié)果很差。這表明耐蝕鋁處理使得調(diào)節(jié)劑電荷很難消散。
對于加工性能，采用基于鋁的金屬材料比采用不銹鋼所得到的結(jié)果更令人滿意。對于環(huán)境因素，如上所述，考慮到鉻對環(huán)境所產(chǎn)生的影響，已經(jīng)確定了不應(yīng)再采用鍍鉻處理。
因此，經(jīng)過綜合考慮，采用本發(fā)明所述的顯影滾筒20得到了令人滿意的分析結(jié)果，其顯影套管30的基底31由基于鋁的金屬材料構(gòu)成，在該基底31的表面上形成了一個鍍鎳層，在鍍鎳層的表面上形成了一個氧化鎳涂層。
如上所述，在顯影滾筒20中，在顯影套管30的基底31的表面上，形成了鍍鎳層32，然后在鍍鎳層32的表面上，形成了氧化鎳涂層33。這允許對顯影套管30的表面進(jìn)行鈍化。通過氧化鎳涂層33的鈍化保護(hù)，可以抑制顯影套管30表面由于鍍鎳處理而導(dǎo)致的調(diào)色劑電荷逃逸的趨勢。作為結(jié)果，與鍍鎳層32所具有的耐磨損性一樣，通過氧化鎳涂層33的作用，調(diào)色劑電荷保持特性可以保持在適當(dāng)?shù)臓顟B(tài)。因此，得到了能夠避免如虛幻顯示圖像和薄層擾動等圖像錯誤的顯影滾筒20，并提供了令人滿意的圖像濃度，而沒有使用任何對環(huán)境有害的物質(zhì)。
在以如上所述方式構(gòu)造的顯影滾筒20中，顯影套管30的基底31由基于鋁的金屬材料構(gòu)成，因此可以很容易地用機(jī)械來加工。顯影套管30表面需要一定的粗糙度，以便于調(diào)色劑的保持。用基于鋁的金屬材料來形成顯影套管30的基底31能夠容易、精確地形成這種具有粗糙度的表面。因此，顯影套管30的表面上的調(diào)色劑變得很牢固，從而提高了顯影滾筒20所實現(xiàn)的顯影性能。
然后，在制造顯影滾筒20時，在顯影套管30的基底31的表面上形成鍍鎳層32，在顯影套管30的鍍鎳層32的表面上形成氧化鎳涂層33。因此，這樣制造出的顯影滾筒20具有由鍍鎳層32所提供的耐磨損性，以及由氧化鎳涂層33所提供的適當(dāng)?shù)恼{(diào)色劑電荷保持特性，而不會引起圖像錯誤。
此外，在制造上述結(jié)構(gòu)的顯影滾筒20的方法中，通過將在基底31表面上具有鍍鎳層32的顯影套管30浸入到一種酸的水溶液中來實現(xiàn)氧化鎳涂層33的形成。因此，與使用加熱爐的高溫氧化處理相比，由于熱膨脹而導(dǎo)致的尺寸精度偏差可得以避免。因此，這樣制造出的顯影滾筒20具有很高的尺寸精度，并且能夠?qū)@影套管30表面上的調(diào)色劑以適當(dāng)?shù)臓顟B(tài)保持。
接下來，參考圖5描述了根據(jù)本發(fā)明的第二個實施例的顯影滾筒。圖5中的示意圖示出了在顯影套管表面上形成氧化鎳涂層時所執(zhí)行的氧化處理次數(shù)對于保持圖像濃度的持久性的影響。該實施例的基本結(jié)構(gòu)與第一個實施例相同，因此對該結(jié)構(gòu)的說明和附圖中的表示被省略。
根據(jù)第二個實施例的顯影滾筒20與第一個實施例的不同之處在于在顯影套管30的基底31的表面上形成氧化鎳涂層33的方法不同。在第二個實施例中，氧化鎳涂層33是通過重復(fù)10次氧化處理而形成的，即在一種作為弱酸的20％硝酸水溶液中浸入幾十秒鐘。
如圖5所示，保持圖像濃度的持久性是用為形成氧化鎳涂層33而執(zhí)行的氧化處理的不同次數(shù)來分析的。圖5中的橫軸表示在紙張上所印制的次數(shù)，最大達(dá)到50000次。圖5中的縱軸表示用上述反射顯像密度計RD-918所測得的圖像濃度的值，越向上濃度越高。(帶有圓點(diǎn)的)虛線代表本實施例，而(帶有三角形的)點(diǎn)劃線作為與本實施例相比較的例子，代表重復(fù)兩次氧化處理的情況。
根據(jù)圖5，當(dāng)為形成氧化鎳涂層33而執(zhí)行的氧化處理次數(shù)為10次時，即使在50000次印刷之后也幾乎看不到任何圖像濃度的改變，仍保持在令人滿意的濃度。然而，當(dāng)氧化處理的次數(shù)為兩次時，在大約15000次印刷之后圖像濃度開始發(fā)生惡化，在40000次印刷之后，其數(shù)值降到第一個實施例中作為參照值的1.2以下。
這樣，在制造上述結(jié)構(gòu)的顯影滾筒20的方法中，通過重復(fù)多次氧化處理在顯影套管30上形成氧化鎳涂層33。因此，可以通過選擇氧化處理的次數(shù)對氧化鎳涂層33的厚度進(jìn)行任意的調(diào)節(jié)。這從而使形成的氧化鎳涂層33具有保持適當(dāng)調(diào)色劑電荷保持特性所需的厚度，并可制造出能夠連續(xù)形成圖像而不會造成任何錯誤的顯影滾筒20。
接下來，參考圖6來描述根據(jù)本發(fā)明的第三個實施例的顯影滾筒。圖6中的示意圖示出了在顯影套管表面上形成氧化鎳涂層時使用的酸的種類對于直到形成預(yù)定厚度的涂層之前所執(zhí)行的氧化處理次數(shù)的影響。該實施例的基本結(jié)構(gòu)與第一個實施例相同，因此對該結(jié)構(gòu)的說明和附圖中的表示被省略。
根據(jù)第三個實施例的顯影滾筒20與第一和第二個實施例的不同之處在于氧化鎳涂層33在顯影套管30的基底31表面上的形成方法。在第三個實施例中，通過先用20％的硝酸溶液作為弱酸進(jìn)行氧化處理、再用70％的硝酸溶液作為強(qiáng)酸進(jìn)行氧化處理，來實現(xiàn)氧化鎳涂層33的形成。需要注意的是每個氧化處理過程都是通過將顯影套管30浸入到硝酸溶液中幾十秒鐘來實現(xiàn)的。
如圖6所示，直到形成預(yù)定厚度的涂層之前所執(zhí)行的氧化處理次數(shù)利用形成氧化鎳涂層33時所使用的酸的種類來進(jìn)行分析。圖6中的橫軸表示在形成氧化鎳涂層33時所執(zhí)行的氧化處理次數(shù)。圖6中的縱軸表示氧化鎳涂層33的厚度。在分析圖6所示的實施例時，假定氧化鎳涂層33的參考厚度是4.0μm，執(zhí)行多次氧化處理過程，直到形成具有該厚度的涂層。在這一實施例中，只有第一次氧化處理是用作為弱酸的20％的硝酸溶液來進(jìn)行，而第二次和后續(xù)的氧化處理都是用作為強(qiáng)酸的70％硝酸溶液來重復(fù)進(jìn)行，所得到的結(jié)果用(帶有方塊的)實線來表示。(帶有圓點(diǎn)的)虛線作為與該實施例進(jìn)行比較的例子，表示僅用20％的硝酸溶液重復(fù)進(jìn)行氧化處理的情況。
根據(jù)圖6，在形成氧化鎳涂層33時所使用的酸的種類首先是一種弱酸，然后是一種強(qiáng)酸，在第五次氧化處理時達(dá)到了4.0μm的參考涂層厚度。但是，當(dāng)只用弱酸重復(fù)進(jìn)行氧化處理時，在第八次氧化處理時才能首次達(dá)到上述參考厚度。
這樣，在制造如上所述結(jié)構(gòu)的顯影滾筒20的方法中，通過用作為弱酸的20％的硝酸溶液來進(jìn)行第一次氧化處理、然后再用作為強(qiáng)酸的70％的硝酸溶液進(jìn)行氧化處理，來形成氧化鎳涂層33。因此，可以用強(qiáng)酸來形成具有適當(dāng)厚度的氧化鎳涂層33，但不是直接使用可能對鍍鎳層32表面造成損害的強(qiáng)酸。因此這比用弱酸來重復(fù)執(zhí)行氧化處理需要更少的勞動和事件，從而得到了更高的操作效率。
上面已經(jīng)描述了本發(fā)明的實施例，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不限于這些實施例。因此，本發(fā)明可以通過多種改進(jìn)來體現(xiàn)，而不會背離本發(fā)明的主旨。
例如，在本發(fā)明的實施例中，為形成氧化鎳層33而使用了硝酸溶液，但酸的水溶液并不限于此，也可以采用不同的酸溶液，如硫酸、草酸等酸溶液。其中使用20％的硝酸溶液作為弱酸，而使用70％的硝酸溶液作為強(qiáng)酸。但是，弱酸與強(qiáng)酸之間的比率(百分比)并不限于此，也可以采用其他的比率。此外，在形成氧化鎳涂層33時所執(zhí)行的氧化處理次數(shù)并不限于實施例中所述，也可以執(zhí)行不同次數(shù)的氧化處理。
本發(fā)明適用于包括顯影套管的所有類型的顯影滾筒。
權(quán)利要求
1.一種顯影滾筒，其中在一個顯影套管的基底表面上形成一個鍍鎳層，并且其中在鍍鎳層的表面上形成一個氧化鎳涂層。
2.如權(quán)利要求1所述的顯影滾筒，其中所述顯影套管的基底由基于鋁的金屬材料構(gòu)成。
3.一種顯影滾筒制造方法，其中在制造顯影滾筒時，在一個顯影套管的基底表面上形成一個鍍鎳層，并在顯影套管的鍍鎳層表面上形成一個氧化鎳涂層。
4.如權(quán)利要求3所述的顯影滾筒制造方法，其中通過重復(fù)執(zhí)行多次氧化處理來形成所述氧化鎳涂層。
5.如權(quán)利要求4所述的顯影滾筒制造方法，其中通過先用一種弱酸來進(jìn)行氧化處理、再用一種強(qiáng)酸來進(jìn)行氧化處理，形成所述氧化鎳涂層。
6.如權(quán)利要求3所述的顯影滾筒制造方法，其中通過將在其基底表面上形成有鍍鎳層的顯影套管浸入到一種酸的水溶液中來形成所述氧化鎳涂層。
7.如權(quán)利要求4所述的顯影滾筒制造方法，其中通過將在其基底表面上形成有鍍鎳層的顯影套管浸入到一種酸的水溶液中來形成所述氧化鎳涂層。
8.如權(quán)利要求5所述的顯影滾筒制造方法，其中通過將在其基底表面上形成有鍍鎳層的顯影套管浸入到一種酸的水溶液中來形成所述氧化鎳涂層。
全文摘要
一個包含在顯影裝置(1)中的顯影滾筒(20)與一個光電導(dǎo)體鼓(100)彼此位置靠近，或者相互接觸。吸附在顯影滾筒(20)表面上的調(diào)色劑通過靜電力轉(zhuǎn)移到光電導(dǎo)體鼓(100)上，從而形成靜電潛像。顯影滾筒(20)在其表面上具有一個顯影套管(30)。在顯影套管(30)的一個基底(31)的表面上，形成一個非電解的鍍鎳層(32)。此外，在鍍鎳層(32)的表面上，形成一個氧化鎳涂層(33)。氧化鎳涂層(33)對顯影套管(30)的表面起到鈍化作用，從而抑制了由于鍍鎳處理而導(dǎo)致的調(diào)色劑電荷逃逸的趨勢，因此能夠?qū)⒄{(diào)色劑電荷保持特性保持在適當(dāng)?shù)臓顟B(tài)。
文檔編號G03G15/08GK1825215SQ20061005144
公開日2006年8月30日 申請日期2006年2月24日 優(yōu)先權(quán)日2005年2月25日
發(fā)明者林昌毅, 植村聰 申請人:京瓷美達(dá)株式會社