專利名稱：偏振鏡的加工方法及其在偏振敏感的光傳感器和起偏顯像裝置上的應(yīng)用的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于偏振敏感的或偏振化的濾鏡的加工方法及其在 用于測量入射光偏振的偏振敏感的光傳感器上的應(yīng)用，還涉及用于 測量旋轉(zhuǎn)角和強(qiáng)電場或強(qiáng)磁場的偏振敏感的傳感器的設(shè)計方式以 及用于還原偏振信號或再現(xiàn)獨立信號的起偏顯像裝置和起偏顯像 裝置的設(shè)計方案。
背景技術(shù)：
偏振是光的一個重要特性，通常不能被人眼察覺。很多昆蟲早已 借助偏振散射光在天空中定向，而人類對偏振光的利用較晚。太陽鏡 能有針對性地抑制天空中的散射光。攝影師將可旋轉(zhuǎn)的偏振鏡置于目 標(biāo)前，用于抑制鏡片或其它表面上的反射。條紋攝像是質(zhì)量監(jiān)控中的 重要工具，其例如可以使玻璃瓶中的應(yīng)力變成可見。此外還已知，穿 過兩個線性偏振鏡的透射光取決于兩個偏振鏡的相對旋轉(zhuǎn)角一一根據(jù)馬呂斯定律(Malus-Gesetz),所述透射光的強(qiáng)度按照角度余弦的平方 變化。此定律可用于角度測量和顯示裝置中。目前，顯示技術(shù)可能是偏振的最重要的應(yīng)用領(lǐng)域。液晶顯示(LCD) 使用具有恒定偏振方向的大面積偏振鏡膜片，以通過在兩個這樣的偏 振鏡膜片之間的液晶體中的光學(xué)旋轉(zhuǎn)或重定向產(chǎn)生明與暗之間的交 替。目前偏振鏡膜片的大型工業(yè)化制造已不成問題。這種偏振鏡膜片 的工作原理是，在制造過程中，起微型天線作用的長鏈分子通過機(jī)械 處理(軋輥、展薄、研磨、外部電場或磁場)平行對齊。如果光的入出電流。光從而根據(jù)微型天線的特性被吸收或反射。與之相反，光在 橫向穿過時并沒有顯著的交替作用。偏振依賴性的前提是，微型天線的間距與光的波長相比足夠小。例如DE 696 01 621 T2對此類型的制 造方法進(jìn)行了描述，其中還描述了這種膜片的品質(zhì)和使用壽命，DE690 29 683 T2以及DE 689 27 986 T2也描述了偏振4竟的樣品加工，但是 沒有局部不同的定向。DE 41 14 229 Al描述了偏振鑄造膜片的高速大 型工業(yè)化制造法。DE 40 26 892 Al描述了其它類型的鑄造膜片。DBP 1 015 236描述了一種制造方法，在該方法中，偏振效應(yīng)能擴(kuò)展到遠(yuǎn)紅外 的波長。DE 199 33 843 B4涉及在使用非結(jié)構(gòu)化的偏振膜片的條件下 LCD顯示器的制造，此外還描述了電極材料的光刻結(jié)構(gòu)化。微小的偏振鏡的制造、特別是帶有適當(dāng)?shù)牟煌较虻钠窕瘏^(qū)域 的制造很困難。將偏振鏡膜片切成小塊并且如拼圖 一樣組合是不經(jīng)濟(jì) 的并且就調(diào)整公差而言不夠精確。此外，尚未成熟的納米技術(shù)分支學(xué) 科研究通常由碳或鐵制造光柵、納米管或納米線(T. P. HtUser等 "Self-assembled Iron Nanowires : Morphology, Electrical and Magnetic Properties",材料研究協(xié)會研討會議論文集，第877E巻， 2005 )，但是加工工藝不易掌握。在對如此形成的結(jié)構(gòu)進(jìn)行有針對性的 對齊時也會引發(fā)很多問題。根據(jù)目前的技術(shù)現(xiàn)狀，仍不能經(jīng)濟(jì)地實現(xiàn) 由具有適當(dāng)不同定向的偏振鏡構(gòu)成的微陣列的制造。DE 100 26 080 Al 描述了 一種通過有選擇地進(jìn)行后處理以使最初為大面積的、均勾的偏 振膜片局部喪失偏振功能的方法，還描述了一種由多個該類型的膜片 組成一個局部以不同方向偏振化的濾鏡的方法。除了軟墊以外，濾鏡 的重量也隨著每個附加的覆蓋層而增加，而且，很難在一個載體上精 確地校準(zhǔn)并固定這樣制成的膜片。同樣描述了通過偏振光的照射使原 料適當(dāng)聚合，但是在質(zhì)量上落后于通過機(jī)械處理制成的膜片。就旋轉(zhuǎn)角的測量而言，應(yīng)用和測量方法都多種多樣。最經(jīng)常出現(xiàn) 的問題是在旋轉(zhuǎn)部件上的角度測量，例如為了確定信號發(fā)生器(操縱 桿、踏板等)或伺服裝置的位置。伺服裝置300獲得額定值304,例如一個角度默認(rèn)值，該默認(rèn)值必 須自動轉(zhuǎn)換成機(jī)械位置(圖3 )。為此所述伺服裝置配有傳感器303和 適合于控制伺服電機(jī)301的控制電路302。典型的伺服裝置使用電位計 進(jìn)行測量。所述電位計與電動機(jī)或傳動裝置的軸機(jī)械式連接并且能夠測量例如旋轉(zhuǎn)角。傳統(tǒng)的電位計由導(dǎo)電的圓盤段組成，所述圓盤段由 石墨或?qū)щ娝芰现瞥刹⒃趦蓚€端部具有接口。機(jī)械式滑動觸頭與導(dǎo)電 的圓盤段點接觸并且從該點接觸截取電壓。因此，根據(jù)每個旋轉(zhuǎn)角分 別形成一個分壓比處于理想的0%至100%之間的分壓器，這表示用于定位信息的比較變量處在0% -100%之間。 一個常見的問題是機(jī)械磨損，因為滑動觸頭必需與表面接觸。此外需要將滑動觸頭無間隙地裝 配在軸上。該伺服裝置必需克服摩擦力，以使滑動觸頭運動，這對于 小型伺服裝置可能也是個問題。電位計也不適用于需要自由旋轉(zhuǎn)的應(yīng) 用場合。同樣常見的用于角度測量的解決方案使用一個與細(xì)縫光圏(分瓣光圈)404或編碼盤組合的叉式光電偶對400 (圖4a)。除了一般只測 量相對的位置變化的情況以外(絕對編碼的編碼盤是費事的并且也需 要較高的費用以獲得測量信號)，產(chǎn)生用于調(diào)節(jié)目的的數(shù)字信號不一定 有利。伺服裝置的定位精度通過光圏上的每轉(zhuǎn)分瓣數(shù)量確定。分瓣數(shù) 量的任意增加受到限制，因為校準(zhǔn)總是必需更精確，這使污染靈敏度 和損傷靈敏度明顯增加。為了克服這些限制，可以設(shè)置一個機(jī)械式傳 動裝置，或者必需增加分瓣光圏的周長。兩者都妨礙微型化和降低成 本。此外也存在感應(yīng)式和電容式位置傳感器411,它們例如通過計算在 齒輪-齒部410飛過時的電壓峰值進(jìn)行工作(圖4b)，因而基本上存在 相同的問題。在有限的角度范圍(目前僅幾十度)內(nèi)的模擬角度測量 也可以通過測量兩個不同的基準(zhǔn)位置502， 503到信號傳感器501的距 離來實現(xiàn)。因此，兩個電感式或電容式獲得的測量參數(shù)的比值可以提 供有關(guān)指示器500的位置的信號，該比值類似于電位計，但是沒有機(jī) 械式磨損和摩擦(圖5)。限制在小角度以及測量裝置的空間擴(kuò)展妨礙 微型化。在所有上述情況下還會出現(xiàn)其它困難。測量精度或傳感器功 能與機(jī)械公差有關(guān)。此外，上述測量原理不適用于特別高的旋轉(zhuǎn)速度。 立體圖像的再現(xiàn)是本發(fā)明的 一 個應(yīng)用領(lǐng)域，在該領(lǐng)域中存在不同 的相互竟?fàn)幍姆椒āＴ贒E 199 24 096 C2中，三種基色激光(R/G/B ) 和全息屏幕一起與正交濾鏡使用，以實現(xiàn)立體投影圖的與位置無關(guān)的 觀測。通過光路中的光學(xué)調(diào)制器和移相板實現(xiàn)不同偏振平面之間的交替。此處只能有限地實現(xiàn)微型化。在DE 195 10 671 Al中描述了一種LCD顯示器，其可通過每個^象 素形成正交偏振化方向的不同分量。在此使用一種雙LCD結(jié)構(gòu)，其中 第一結(jié)構(gòu)負(fù)責(zé)強(qiáng)度和顏色，第二結(jié)構(gòu)負(fù)責(zé)偏振光的重定向或者按比例 分解成正交分量。在所述解決方案中，機(jī)械問題、校準(zhǔn)問題和重量仍 一直很嚴(yán)重，而本發(fā)明相對于在此所描述的替代方式有明顯的改善， 尤其是既不會降低分辨率也不會減少幀率。但是所述效果不是通過局 部選擇性的偏振鏡實現(xiàn)，而是通過液晶的局部選擇性的操縱來實現(xiàn)。 所述顯示器的操縱需要專門的計算步驟，其中將兩個獨立的圖像適當(dāng) 地疊加。對于左眼和右眼或?qū)τ诓煌挠^察者完全獨立的圖像內(nèi)容不 太可能不用偽像就能顯示，因為沒有獨立的像素可供使用?？梢韵氲?的是，靜止而可靠地操縱各個像素，從而形成具有不同的偏振化LCD 像素的矩陣。在這種情況下，所述顯示器近似于本發(fā)明的一種設(shè)計方 式。但是所述顯示器的有效分辨率降低。此外，并不知道第二 LCD層 能以何種精度使光旋轉(zhuǎn)，即，如何完全實現(xiàn)子圖的分離。發(fā)明內(nèi)容因此，本發(fā)明的目的是提供一種用于緊密分界的并且預(yù)定向的偏振 鏡的合適的加工方法以及描述建立在此基礎(chǔ)之上的應(yīng)用實例，所述應(yīng) 用迄今為止容易出現(xiàn)問題。以上所提出的和所述的目的按照本發(fā)明的第一方面是通過一種用 于具有期望的擴(kuò)展和定向的偏振敏感的濾鏡的加工方法來實現(xiàn)，其中， 通過光刻方法在至少一個加工平面和/或布線平面中產(chǎn)生光柵結(jié)構(gòu)，所 述光柵的幾何結(jié)構(gòu)和定向事先通過掩膜數(shù)據(jù)圖紙來確定，其中優(yōu)選的 是只使用在集成電路的設(shè)計中常見的結(jié)構(gòu)參數(shù)和加工步驟。能夠產(chǎn)生的最小結(jié)構(gòu)小于待偏振化的光的波長是重要前提。對 于紅外線而言應(yīng)為例如130nm工藝。在光刻制造過程中，將以CAD 方式顯示的結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到曝光掩膜上。在使用光敏漆或光致抗蝕劑對 晶片進(jìn)行涂層后，利用光掩膜防止漆的特定部位受到隨后的曝光光線的作用。接著有選擇地蝕刻掉所述漆的曝光的或未曝光的部位。 通過這種方式使其它加工步驟可以接觸到所期望的晶片部位。如果 要在一個金屬化平面中制造偏振鏡，則通常在涂覆光敏漆之前全表 面地在晶片上蒸鍍金屬。在將通過曝光掩膜限定的部位去漆和暴露 蝕刻之后，不再受漆所保護(hù)的部位中的金屬被蝕刻掉。如果隨后將剩余的漆去除，那么按照CAD數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)化的金屬噴鍍層被保留下來。 目前的工藝提供多個布線平面。但是通過數(shù)量級為100nm的結(jié)構(gòu)在 一個平面中只能達(dá)到很小的對比度。以上所提出的和所述的目的按照本發(fā)明的第二方面是通過一種用 于具有期望的擴(kuò)展和定向的偏振敏感的濾鏡的加工方法實現(xiàn)，其中， 在至少一個物理和/或化學(xué)參數(shù)如壓力、溫度或類似參數(shù)的作用下， 以相對于載體的特定角度在具有漆涂層的載體上涂覆具有預(yù)定偏 振方向的偏振物質(zhì)，其中例如通過曝光和蝕刻去除載體的特定部位 上的漆，并且當(dāng)載體上的偏振物質(zhì)硬化和/或冷卻后，通過蝕刻和/ 或拋光去除仍覆蓋在載體部位上的多余偏振材料和/或漆。在此，具有預(yù)定偏振方向的偏振物質(zhì)可以事先采用常見的制造 大面積偏振膜的方法來制造，例如采用用于L C D顯示器的制造方法。 例如通過機(jī)械處理如延展和軋輥使具有長鏈分子、納米管或納米線 的材料形成偏振特性，因為長鏈分子、納米管或納米絲平行對齊。 采用根據(jù)在此所述的方法進(jìn)行處理的材料最好具有粘滯的稠度或 者可以產(chǎn)生這種稠度，例如通過添加溶劑或在外力如壓力和/或熱 量的作用下。優(yōu)選的是將偏振物質(zhì)從堅固的轉(zhuǎn)移膜或軋輥轉(zhuǎn)移到載 體上。在此，以類似于通過光刻在單片集成電路上產(chǎn)生結(jié)構(gòu)的方式 確定待涂覆的部位。例如，借助優(yōu)選在光刻中已知的光^:漆和常見 的曝光和蝕刻工序制成的模型在專門的部位上設(shè)置槽，濾波材料被 壓入并且粘附在該槽中。在這個過程中，濾波材料的定向不發(fā)生改 變。通過特殊處理以使通過上述方式轉(zhuǎn)移的濾波材料硬化，即變得 持久。因為所述材料也處于以光敏漆覆蓋的部位，所以接著進(jìn)行化 學(xué)或機(jī)械式清潔，以去除并平整化帶有涂層的表面直到產(chǎn)生平坦 的、以光敏漆保護(hù)和以濾波材料覆蓋的部位的結(jié)構(gòu)。根據(jù)其它加工可以完全或部分地去除余留的光敏漆，以露出光敏漆下面的部位。以上所提出的和所述的目的按照本發(fā)明的第三方面是通過用于測 量光偏振的裝置得以實現(xiàn)，該裝置具有權(quán)利要求10所述的技術(shù)特 征，其中，至少一個感應(yīng)元件與一個偏振鏡被設(shè)置成作為結(jié)構(gòu)單元 相互作用的偏振敏感的傳感器，該傳感器的偏振面以給定的角度相 對于感應(yīng)元件的一條確定基準(zhǔn)軸調(diào)整，其中該基準(zhǔn)軸可以借助于在 所述裝置的外殼上作標(biāo)記而可識別。這在最簡單的情況下可以通過 將偏振膜粘接在感應(yīng)元件上實現(xiàn)，例如粘接在光二極管上，或者通過使用如權(quán)利要求1至9中任一項所述的方法或其它替代方式實 現(xiàn)。由偏振平面已知且精確對齊的偏振敏感傳感器構(gòu)成的結(jié)構(gòu)單元 是在許多應(yīng)用中使用偏振化的基礎(chǔ)，如同部分地在本發(fā)明的從屬權(quán) 利要求中描述的那樣。濾鏡的定向所需的知識以及傳感器和濾鏡的 精確對齊相互作用，使得結(jié)構(gòu)單元的應(yīng)用難度明顯降低，由于傳感 器外殼上的標(biāo)記，所述結(jié)構(gòu)單元不需要專用的光學(xué)工具。以上所提出的和所述的目的按照本發(fā)明的第四方面是通過具有權(quán) 利要求11的特征的用于測量光的偏振的裝置來實現(xiàn)，該裝置具有 至少一個感應(yīng)元件，其中在至少一個加工平面和/或布線平面中i殳 有通過感應(yīng)元件以光刻方法產(chǎn)生的光4冊結(jié)構(gòu)，該光^f冊的幾何結(jié)構(gòu)和 定向事先已經(jīng)通過掩膜數(shù)據(jù)的圖紙確定，使得偏振敏感的傳感器形 成結(jié)構(gòu)單元，其中最好只使用在設(shè)計集成電路時常見的結(jié)構(gòu)參數(shù)并 且使用制造集成電路時常見的加工步驟。使用常用于集成電路的制 造步驟并對所述步驟進(jìn)行限制，可以實現(xiàn)具有偏振敏感的光傳感器 的集成電路的制造，而不產(chǎn)生額外的消耗。在此，以與剩余的集成 電路同樣高的精度實現(xiàn)濾鏡相對于傳感器的生產(chǎn)和對準(zhǔn)。在此借助 于掩膜數(shù)據(jù)描述偏振鏡的結(jié)構(gòu)，所述掩膜數(shù)據(jù)也用于控制其余加 工?；镜那疤崾?，能夠加工的最小結(jié)構(gòu)小于待偏振化的波長。具 有平行條紋的濾鏡的光柵間距要明顯小于半波長?？梢酝ㄟ^光刻方 法在至少一個加工平面和/或布線平面產(chǎn)生具有適當(dāng)?shù)臄U(kuò)展和定向 的光柵結(jié)構(gòu)形式的濾鏡，其幾何結(jié)構(gòu)和定向事先已經(jīng)通過掩膜數(shù)據(jù) 圖紙確定，其中優(yōu)選的是只使用在設(shè)計集成電路時許可的結(jié)構(gòu)參數(shù)(所謂的設(shè)計準(zhǔn)則)。就目前常見的130nm或更小的結(jié)構(gòu)大小而言， 在紅外光范圍中能夠取得顯著的偏振效果。如果在130nm工藝中通 過單層濾鏡能夠達(dá)到約1: 3的對比度、例如對于1. 5pm的波長，則 串聯(lián)多個濾鏡層時，對比度以第一接近值按照傳遞函數(shù)的串聯(lián)進(jìn)行 乘方。因此在使用所有可以精細(xì)結(jié)構(gòu)化的聚合和金屬平面時，可以 在標(biāo)準(zhǔn)工藝中達(dá)到高的對比度，而無需任何附加的工藝步驟。除了 省去濾鏡膜片的單獨加工以外，通過這個方法還可以明顯增加單位 面積的傳感器數(shù)量，由此能夠在相同或更小的空間中獲得更多的信 息。尤其在選擇疊置的濾鏡平面的幾何形狀時或者在波長確定時， 可以有利地利用諧振效應(yīng)，以進(jìn)一步提高對比。以上所提出的和所述的目的按照本發(fā)明的第五方面是通過具有權(quán) 利要求22所述的特征的裝置實現(xiàn)，其中為了產(chǎn)生偏振光，至少一 個光發(fā)射體與一個偏振鏡被設(shè)置成作為結(jié)構(gòu)單元共同作用的偏振 光發(fā)射體，該光發(fā)射體的偏振面以給定的角度相對于光發(fā)射體的確 定基準(zhǔn)軸對準(zhǔn)，其中借助于裝置外殼上的標(biāo)記可以識別該基準(zhǔn)軸。 對于這種結(jié)構(gòu)單元在使用中得到類似于按照權(quán)利要求10所述裝置 的優(yōu)點，例如精確對準(zhǔn)的偏振光的產(chǎn)生無需專用的光學(xué)工具。以上所提出的和所述的目的按照本發(fā)明的第六方面是通過具有權(quán) 利要求23所述的特征的裝置得以實現(xiàn)，其中為了產(chǎn)生偏振的光信 號、尤其是圖像信號而設(shè)有至少多個光發(fā)射體，它們周期地配有給 定定向不同的偏振鏡，其中不同定向的偏振鏡優(yōu)選位于 一 個平面里 面。為此建議按照本發(fā)明的如權(quán)利要求1至9所述的加工方法來實 現(xiàn)。由偏振光發(fā)射體組組成的周期結(jié)構(gòu)是有利的，其偏振面對應(yīng)于 互補(bǔ)的偏振敏感的圖像傳感器。在這種情況下可以再現(xiàn)具有偏振信 息的圖像。以上所提出的和所述的目的按照本發(fā)明的第七方面是通過具有權(quán) 利要求25所述的特征的裝置得以實現(xiàn)，其中優(yōu)選用于再現(xiàn)立體圖 像的投影裝置，其特征在于，投影儀將兩個半幅圖像照射到一個投 影面上，該投影面配有具有空間偏振方向不同的偏振鏡，其中最好 交^辜地^吏用兩個相互正交的偏纟展面。上述按照本發(fā)明的主題的優(yōu)選設(shè)計方案是從屬權(quán)利要求的主題 并且將在下面詳細(xì)描述。按照本發(fā)明的如權(quán)利要求1所述的用于加工偏振鏡的方法的一 種優(yōu)選設(shè)計方案，鐵磁材料被用于于光刻結(jié)構(gòu)化。透入深度O隨磁導(dǎo)率^減小，從而較薄的層可以用于吸收入射 光。如果光相對于法向的入射角度很大，則較薄的濾鏡很有利。按照本發(fā)明方法的另 一 種優(yōu)選設(shè)計方案對用于偏振的導(dǎo)體電路 進(jìn)行梳形布線。在此，位于導(dǎo)線之間的電介質(zhì)通過施加高壓張緊并 由此影響折射率。通過這種方案能夠電氣地影響濾鏡的特性。按照本發(fā)明方法的另 一 種優(yōu)選設(shè)計方案對用于偏振的導(dǎo)體電路 這樣布線，使得它們可以流過熱流，以影響折射率。通過這種方案 能夠電氣地影響濾鏡的特性。按照本發(fā)明的用于加工偏振鏡的如權(quán)利要求5或6所述方法的 另一種優(yōu)選設(shè)計方案，為了加工偏振物質(zhì)而將直徑大于要被濾波的 波長的透入深度的納米線嵌入到電介質(zhì)中，其中對于納米線最好使 用鐵磁材料如鐵。按照本發(fā)明的方法的另 一 種優(yōu)選設(shè)計方案，使用具有低折射率 的材料作為濾鏡的導(dǎo)電偏振結(jié)構(gòu)之間的電介質(zhì)，從而該電介質(zhì)被改 變成具有更低介電常數(shù)的介電材料，以在給定偏振結(jié)構(gòu)的給定波長 和幾何形狀時改善偏振特性或者用于加大必需的最小結(jié)構(gòu)尺寸。在 這點上，起泡或多孔的物質(zhì)尤其適合于作為電介質(zhì)材料。適合的原 料例如是玻璃(Si02, s;4)或者苯環(huán)丁烯(BCB，CA, sr-2. 5 ),其 中，所述孔最好充滿空氣。按照本發(fā)明的方法的另 一種優(yōu)選設(shè)計方案，在加工后通過選擇 性地蝕刻去除偏振鏡的部分電介質(zhì)，以產(chǎn)生具有最小介電常數(shù)的擴(kuò) 展部位。優(yōu)選對由此產(chǎn)生的空穴的尺寸進(jìn)行設(shè)計，使得偏振結(jié)構(gòu)由 保留的周圍的電介質(zhì)支承。因此，優(yōu)選的是垂直于偏振結(jié)構(gòu)對條形 擴(kuò)展的溝進(jìn)行蝕刻，其中所述溝的寬度可以大于待濾波的光的波 長。由偏振結(jié)構(gòu)實現(xiàn)的空穴最好充滿空氣。按照本發(fā)明的如權(quán)利要求5所述的用于加工偏振鏡的方法的另一種優(yōu)選設(shè)計方案，以偏振物質(zhì)的相對于載體的不同方向在載體的 不同部位上逐次使用本方法，其中最好以薄漆層保護(hù)事先已經(jīng)制成 的偏振部位，該漆層可以在加工結(jié)束時去除。由此產(chǎn)生已知的和不 同定向的精確分界部位，所述部位位于同一平面中并由此可以具有 與光傳感器或光發(fā)射體盡可能小的間距。與另 一種為了實現(xiàn)相同效 果使用多個具有無效部位的濾鏡層的方法相比，通過本設(shè)計方案能 得到重量和成本方面的優(yōu)點。按照本發(fā)明的用于測量光偏振的裝置的 一 種優(yōu)選設(shè)計方案具有 至少一個感應(yīng)元件，其中在至少一個加工平面和/或布線平面中具 有通過感應(yīng)元件以光刻方法產(chǎn)生的這樣的光柵結(jié)構(gòu)，該光柵的幾何 結(jié)構(gòu)和定向事先通過掩膜數(shù)據(jù)圖紙確定，使得偏振敏感的傳感器構(gòu) 成結(jié)構(gòu)單元，其中最好只使用在設(shè)計集成電路時常見的結(jié)構(gòu)參數(shù)并 且使用加工集成電路時常見的加工步驟。按照本發(fā)明的用于測量光偏振的裝置的 一 種優(yōu)選設(shè)計方案具有 至少兩個具有不同的偏振面方向的感應(yīng)元件，其中至少 一個按照上 述權(quán)利要求中任 一 項所述構(gòu)成，其中設(shè)有從偏振敏感的傳感器信號 獲得關(guān)于入射光偏振的結(jié)論的裝置。該裝置例如可以通過兩個傳感 器信號的比例構(gòu)成與信號的明亮度無關(guān)地確定入射偏振光的偏振面。方向偏離45?；蚋〉钠衩媸怯欣?，因為在線性化要求較 低時，可以無需對由于馬呂斯定律形成的非線性的傳感器特性進(jìn)行 線性化就能實現(xiàn)所述比例構(gòu)成。按照本發(fā)明的用于測量偏振光的裝置的另 一種優(yōu)選設(shè)計方案， 這樣設(shè)置多個偏振敏感的傳感器并在其各自的偏振方向中這樣使此以適宜的方式首先產(chǎn)生光傳感器的一個有規(guī)則的結(jié)構(gòu)，如同對于 圖像傳感器所常見的那樣。在以后的加工步驟中，對于所有要實現(xiàn) 偏振敏感的感應(yīng)元件以確定的周期定向加入偏振4竟。優(yōu)選例如具有 2 x 2傳感器和每次旋轉(zhuǎn)45。的濾鏡的周期單元。例如在質(zhì)量監(jiān)控中 可以找到這種傳感器的應(yīng)用，在質(zhì)量監(jiān)控中通過這種裝置擴(kuò)展的條 紋攝影能夠報告關(guān)于應(yīng)力的強(qiáng)度和類型。按照本發(fā)明的用于測量偏振光的裝置的另 一種優(yōu)選設(shè)計方案具 有至少一個彩色濾鏡。該設(shè)計方案對于規(guī)則結(jié)構(gòu)的適用于接收圖像 的光傳感器是特別有利的，因為進(jìn)一步提高了圖像的信息容量。除 了實現(xiàn)具有獨立的色彩和偏振敏感的光傳感器以外，還能夠使每個 光敏元件組合使用兩種濾鏡類型。適合的設(shè)計方案是，這樣選擇濾 鏡結(jié)構(gòu)，使得在除非偏振光之外的應(yīng)用場合，所接收到的信號與傳 統(tǒng)的彩色圖像傳感器的信號沒有差別。通常的圖像傳感器方案是拜爾布圖方案(Bayer-Layout )，其中， 一個彩色像素由2 x 2光元件 組成的陣列構(gòu)成并且具有用于例如紅色、綠色、綠色和藍(lán)色的彩色 濾鏡。如果每四個像素以2x2陣列的形式組成一個超級像素，其中 優(yōu)選使每個彩色像素在超級像素內(nèi)部具有相對于鄰近彩色像素偏 離45。的偏振鏡方向，對于非偏振光而言，傳感器的特性和分辨率 與傳統(tǒng)的彩色傳感器相比沒有改變，僅僅是入射光量減少為大約一 半。在完全偏振光的情況下有效分辨率減小到25% ,因為每個彩色 像素優(yōu)選只控制正確的偏振面的光。在接著的圖像處理中可以使每 個超級像素的所有彩色像素的信息相加形成一 個替換像素，以獲得 與非偏振敏感的圖像傳感器拍攝的圖像相同的圖像。但是在對總和 進(jìn)行適當(dāng)加權(quán)時，對于每個超級像素可以決定，以偏振光的何等強(qiáng) 度和沿著哪個定向顯示或者抑制。如果攝影場景例如具有許多不同 的反射，場景中的光在不同的定向上偏振，攝影師按照現(xiàn)有技術(shù)借 助于一個可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置在物體前面的偏振鏡僅能去掉一個反射。由 常見的照相機(jī)已經(jīng)拍攝的圖像可能不再適合進(jìn)一步的處理，因為根 本不含有關(guān)于偏振狀態(tài)的信息?，F(xiàn)在通過按照本發(fā)明的裝置，攝影 師可以事后有針對性地去掉兩個反射，但是攝影師也可以有針對性 地加強(qiáng)反射。這在該裝置的所述優(yōu)選設(shè)計方案中還能夠以色彩選擇 的方式實現(xiàn)。除了藝術(shù)方面以外，這種傳感器也適用于監(jiān)控攝像裝 置，例如在交通監(jiān)控中用于消除反射。因為每個獨立的光傳感器含 有個性化的與位置相關(guān)的信息，就以后的顯示而言，可以實現(xiàn)傳感 器數(shù)據(jù)的更熟練的操作如相加成一個替換像素，從而在理想的情況 下圖像分辨率在那些出現(xiàn)強(qiáng)烈偏振和/或有針對性操作的部位中僅有局部且感覺不到的減小。按照本發(fā)明的用于測量偏振光的裝置的另 一種優(yōu)選設(shè)計方案,與偏振敏感的傳感器之間的旋轉(zhuǎn)角。使用偏振光能夠無需費事調(diào)整 就能無接觸和無作用力地測量角度。尤其優(yōu)選使用如權(quán)利要求10和22的特征所述的偏振光發(fā)射體和偏振敏感的接收器的結(jié)構(gòu)單元， 因為省去用于調(diào)整濾鏡的專用光學(xué)工具。按照本發(fā)明的用于測量偏振光的裝置的另 一種優(yōu)選設(shè)計方案。 在至少一個偏振敏感的傳感器與至少一個光發(fā)射體之間具有一個 可旋轉(zhuǎn)的偏振鏡。這個裝置與具有分瓣光圈的叉式光電偶對的結(jié)構(gòu) 類似，其中偏振鏡代替分瓣光圏。就小尺寸而言，通過分瓣光圏只能 實現(xiàn)低的分辨率，因為尺寸變得更小導(dǎo)致分瓣的調(diào)整要求增加并且由 于污物或損傷引起的失效可能性也增加。在使用偏振鏡時不存在這些 問題。按照本發(fā)明的用于測量偏振光的裝置的另 一 種優(yōu)選設(shè)計方案， 使光發(fā)射體、可旋轉(zhuǎn)的偏振鏡和反射的介質(zhì)相互間這樣相對設(shè)置，旋轉(zhuǎn)的偏振鏡并且可以由至少 一 個偏振敏感的傳感器獲得。在這種 設(shè)計方案中可以使發(fā)射體和傳感器共同設(shè)置在一個平面里面，也可 以共同組合，從而獲得比叉式光電偶對更緊湊和更輕的結(jié)構(gòu)形式。 偏振鏡和反射介質(zhì)(如紙或無光金屬)的結(jié)構(gòu)允許在那些不能進(jìn)行 透光測量的情況下測量旋轉(zhuǎn)角。因此可以將這種結(jié)構(gòu)安置在齒輪或 者甚至軸上。由此明顯減少裝置的尺寸和重量，由于離心力更小也 可以在非常高的旋轉(zhuǎn)速度時使用。按照本發(fā)明的用于測量偏振光的裝置的另 一種優(yōu)選設(shè)計方案， 使所述偏振敏感的傳感器與用于控制執(zhí)行機(jī)構(gòu)和用于測量信號和 理論值的比較的裝置一起相互作用地設(shè)置，尤其是集成。尤其在按 照權(quán)利要求17所述的裝置中能夠在使尺寸最小的同時實現(xiàn)具有最 少加工和調(diào)整費用的伺服裝置。如果直接在伺服電機(jī)的電機(jī)軸上實 現(xiàn)角度測量，則使伺服裝置的尺寸實際減小到電機(jī)的尺寸。步進(jìn)電機(jī)或超聲波電機(jī)特別適用于小的調(diào)整角步驟。按照本發(fā)明的用于測量偏振光的裝置的另 一 種優(yōu)選設(shè)計方案具 有用于電子標(biāo)定的裝置和/或用于存儲標(biāo)定數(shù)據(jù)的存儲器。這些數(shù) 據(jù)可以提高該裝置的可靠性和精度，尤其是當(dāng)要考慮非理想特性的 時候。除了馬呂斯定律以外，濾鏡的不完全偏振或泄漏流也屬于非 理想特性。按照本發(fā)明的用于測量偏振光的裝置的另 一 種優(yōu)選設(shè)計方案具 有用于自動標(biāo)定的裝置。由此可以在首次調(diào)試以后或者在兩次運行 之間的間隔中獲得和/或執(zhí)行標(biāo)定數(shù)據(jù)。如果伺服-給定值例如在 足夠大的角度上變化，則保證，至少一個偏振敏感的傳感器在其間 提供一個最小測量值，它與不同的非理想特性對應(yīng)。由此可以避免昂貴和費事的手動調(diào)整。按照本發(fā)明的用于測量偏振光的裝置的另 一種優(yōu)選設(shè)計方案， 具有至少一個偏振敏感的傳感器、 一種透明的介質(zhì)和一個偏振的光 發(fā)射體，其中該發(fā)射體的偏振光在穿過透明的(最好適合利用法拉 第效應(yīng)或克爾效應(yīng))介質(zhì)時被偏振敏感的傳感器獲得。這種裝置適 用于測量強(qiáng)的靜態(tài)和動態(tài)的磁場或電場并且僅僅需要形狀確定的 透明介質(zhì)，而在待測量的場中無需電或磁的部件。因此與霍耳探測 器或者測量線圏相比具有許多優(yōu)勢，尤其在快速變化的場中。按照本發(fā)明的用于產(chǎn)生偏振光裝置的 一 種優(yōu)選設(shè)計方案，設(shè)有為了通過如權(quán)利要求22或23所述的裝置觀察立體圖像和/或兩個 獨立圖像的措施，不同的觀察者和/或同 一觀察者的兩只眼睛通過 使用最好可旋轉(zhuǎn)的偏振鏡只看到所述圖像的 一部分。因此例如可以 使用 一 個具有兩個可旋轉(zhuǎn)的偏振鏡的眼鏡，只將偏振方向正確的信 息輸送到眼睛。通過這種方式能夠使觀察者的兩個眼睛觀察一個場 景，該場景從不同的視角拍攝，從而產(chǎn)生立體感。也可以顯示不同 的信息，所述信息被分開地感覺到。同樣可以想到的是，當(dāng)不同的 觀察者注視同 一裝置的時候，他們感受到不同的信息。


下面借助于實施例詳細(xì)描述本發(fā)明，為此參閱附圖。附圖中圖la示出按照現(xiàn)有技術(shù)和按照本發(fā)明的用于對金屬化平面進(jìn)行結(jié) 構(gòu)化的工藝步驟的順序，圖lb以俯視圖示出按照本發(fā)明的具有光學(xué)偏振作用的加工平面的 的實例性結(jié)構(gòu)化，圖lc以橫截面示出按照本發(fā)明的具有光學(xué)偏振作用的加工平面的 實例性結(jié)構(gòu)化，圖ld示出實現(xiàn)具有空穴的偏振鏡的實例，圖2a示出按照本發(fā)明的用于將偏振鏡膜片轉(zhuǎn)移到載體上的實例， 圖2b，c示出按照本發(fā)明的用于將偏振鏡轉(zhuǎn)移或微結(jié)構(gòu)化到載體上 的工藝步驟，圖3示出按照現(xiàn)有技術(shù)的伺服裝置，圖4a示出具有按照現(xiàn)有技術(shù)的分瓣光圏或具有按照本發(fā)明的偏振 鏡的叉式光電偶對，圖4b示出通過按照現(xiàn)有技術(shù)的齒輪測量角度，圖5示出按照現(xiàn)有技術(shù)的感應(yīng)或電容地相對測量，圖6示出按照本發(fā)明的單個傳感器信號的信號曲線，圖7示出按照本發(fā)明的通過反射偏振鏡的角度測量，圖8示出按照本發(fā)明的用于測量強(qiáng)場的裝置，圖9a示出按照本發(fā)明的具有偏振鏡矩陣的圖像傳感器，圖9b示出按照本發(fā)明的具有偏振鏡矩陣的彩色圖像傳感器，圖10示出按照本發(fā)明的具有偏振鏡矩陣的圖像投影儀。
具體實施方式
實例1:在限于集成電路的加工步驟的情況下，借助光刻來加 工結(jié)構(gòu)化的偏振鏡具有適當(dāng)定向的納米結(jié)構(gòu)的加工一直存在問題，而所述問題在 微電子中早已解決。所述結(jié)構(gòu)顯示在CAD系統(tǒng)中，通常以放大的比 例復(fù)制到曝光掩膜上并且借助光刻工藝從曝光掩膜轉(zhuǎn)移到載體或晶片上(圖la)。在此，通常首先用光敏漆3覆蓋晶片1，接著透 過曝光掩膜4曝光該晶片，從而使晶片的特定的部分在接下來的化 學(xué)過程中發(fā)生反應(yīng)，例如可以通過溶劑6進(jìn)行外露蝕刻。隨后可以 使用蝕刻溶劑7實施另一蝕刻工序，以例如對一個事先加工好的非 常平坦的金屬化件2進(jìn)行結(jié)構(gòu)化，或者實施擴(kuò)散或移植工序。在這 種情況下，剩余的光敏漆結(jié)構(gòu)3可防止特定部位被處理。長期以來， 與光的波長相比，在微電子技術(shù)中能經(jīng)濟(jì)地生產(chǎn)的最小結(jié)構(gòu)尺寸還 不夠小到能生產(chǎn)出光學(xué)有效的濾鏡。最近這一情況有所變化。傳統(tǒng) 的130nm或更精細(xì)的加工工藝能夠制造偏振鏡，而無需對加工工藝 進(jìn)行改變。為此通過光敏傳感器在多晶硅柵(Gate-Polysilizium) 或者金屬平面上產(chǎn)生平行的導(dǎo)體電路。為了提高對比度，建議疊加 使用多個加工面，例如由聚合物層、金屬層l、金屬層2，...，直到 金屬層N構(gòu)成的層序。由于目前的先進(jìn)工藝具有兩個聚合物面和八 個金屬化面，因此能夠串聯(lián)至10個濾鏡。就確定的波長而言，即 使單個濾鏡的對比度僅為3，但是4個串聯(lián)的濾鏡的分辨率在理想 情況下已達(dá)到34 = 81。然而，出于經(jīng)濟(jì)性的考慮，目前主要用于通 常波長為950nm和1. 5,的紅外光，因為最小結(jié)構(gòu)尺寸的每次減少 都以昂貴的掩膜和曝光工藝為代價。特別有利的是無需任何其它開 銷就能通過傳統(tǒng)的加工工藝實現(xiàn)可實用的光學(xué)濾鏡。在0.13liin或為較高的掩膜成本可以通過由于較小芯片面積所導(dǎo)致的較小單件 成本進(jìn)行補(bǔ)償。就長波光而言，這樣實現(xiàn)的濾鏡有實用性的缺點， 但是優(yōu)點是不存在常見于偏振鏡膜片的化學(xué)或熱穩(wěn)定性的問題。因 此能夠?qū)⑦\行條件擴(kuò)展到非常低和非常高的溫度。圖la示意性示 出了按照現(xiàn)有技術(shù)對單層濾鏡進(jìn)行加工的步驟順序，所述步驟也可 不加改變地用于濾鏡的結(jié)構(gòu)化。加工的工藝細(xì)節(jié)在此并不重要，因 此使用正和負(fù)工藝都可以，可以使用倫琴射線代替光來曝光，可以 使用電子或離子射線光刻，在特定情況下可完全消除光掩膜并且通 過定向的射線將結(jié)構(gòu)寫入漆層中。在此優(yōu)選的是光刻，因為其很常 用且成本低。圖lb以俯視圖(簡化且不成比例)示出一個單層的傳感器結(jié)構(gòu)。其中，所述傳感器100的特征在于其部位101和傳感器 部位102,所述部位101優(yōu)選由金屬覆蓋，工作電3各可以位于所述 部位101之下，傳感器部位102具有用于使光發(fā)生偏振的特殊結(jié)構(gòu)。 其中，部位102的陰影代表所制成結(jié)構(gòu)的定向。圖lc示出了部位 102的簡化橫截面，其中描繪了作為光傳感器的pn二極管105。除 覆蓋層109外，還補(bǔ)充描繪了不透光壁106，所述壁106可以例如 由軌條(Vias)或觸點制成，并且當(dāng)光傾斜入射時抑制對鄰近傳感 器的影響。布線面107和108在這里用于接通pn二極管105，而在 多晶硅層102上實現(xiàn)偏振鏡，所述多晶硅層102通常構(gòu)成MOS三極 管的控制極。應(yīng)當(dāng)指出，絕緣的光學(xué)濾鏡和金屬的光學(xué)濾鏡的工作 原理不同。多晶硅層可以使用這兩種方法進(jìn)行處理。本發(fā)明方法的 核心完全在于，加工所用的數(shù)據(jù)對光學(xué)濾鏡進(jìn)行了描述，例如為了 實現(xiàn)線性的偏振鏡或其它光學(xué)濾鏡，長的平行條紋應(yīng)具有盡可能小的寬度和盡可能小的相互間距。在介電常數(shù)進(jìn)一步減少的過程中，偏振特性得到明顯的改善。 因此，最好的電介質(zhì)是空氣(sr= 1 )。集成電路的典型加工工藝具 有 一 個用于鈍化孔的掩膜，通過所述掩膜去除焊接點上的覆蓋氧化 物。由于在上層中的鈍化厚度和較高的公差，可達(dá)到的蝕刻深度通 常非常大，如果該蝕刻過程沒有受到金屬的阻擋，蝕刻深度一直向 下達(dá)到中間或下面的布線面。此外，上述特性也用于在集成電路的 外緣上形成額定擊穿點。圖ld示出了此類型的濾鏡的剖面圖，所 述濾鏡具有四個上下疊置的濾鏡平面102。尤其是中間的布線平面 因為遠(yuǎn)離電介質(zhì)而受益，該中間的布線平面通常不能像最下面的布 線平面那樣細(xì)密地結(jié)構(gòu)化。如果使用玻璃作為電介質(zhì)111，那么用 于偏振化的極限波長將降低兩倍。通過使用標(biāo)準(zhǔn)的鈍化蝕刻來產(chǎn)生 空穴112，同樣能消除加工中的附加成本。實例2:在使用輔助加工步驟時，通過光刻的裝置加工結(jié)構(gòu)化 的偏振鏡，所述輔助加工步驟類似于用于制造集成電路的加工步驟為了能將適用于較短波長的光的偏振鏡用在例如整個可見光范 圍中，通過其它手段來實現(xiàn)比通過實例1中的手段實現(xiàn)更加經(jīng)濟(jì)。因為掌握了具有適當(dāng)特性的偏振鏡膜片的大型工業(yè)化制造，所以能 夠采用此類型的膜片與光刻法的組合，以產(chǎn)生微型結(jié)構(gòu)化的偏振 鏡。對于必需的偏振鏡膜片可以使用完全不同的加工工藝。除了常 見的聚合物以外，還建議使用鑲嵌在樹脂中的納米管或納米線。此 類型的濾鏡的加工通過類似的方法進(jìn)行，通過所述方法能制造例如用于LCD顯示器的大面積濾鏡。也就是說，通過外力例如電場或磁場的影響或者通過研磨或展薄，將長鏈分子、納米管或納米絲平行 于力方向定向，從而得出定向方向。因此，所述分子或小管或小棒 保持其定向，并可被嵌入到能使所述分子機(jī)械穩(wěn)定的載體物質(zhì)中。如果將此類型具有偏振效應(yīng)的可硬化的物質(zhì)206施加到軋輥203或 載體膜片207上，那么此后就能在其它外力例如壓力204和/或溫 度205的作用下將所述物質(zhì)轉(zhuǎn)移到載體、晶片或傳感器200上(圖 2a )。通過光刻工藝可以有選#^也露出用于覆層的各個感應(yīng)區(qū)。就通過光刻對偏振鏡進(jìn)行結(jié)構(gòu)化而言，存在兩種基本的替代方式 第一種替代方式類似于集成電路的金屬化表面的結(jié)構(gòu)化，因此， 該方法對應(yīng)于圖la，只是鋁或銅布置2被偏振鏡布置代替。在事先 通過偏振物質(zhì)對載體全表面覆層以后，接著有選擇地蝕刻掉所述偏 振物質(zhì)。為了在后續(xù)步驟中在鏡上獲得不同的偏振方向，最好將先 前蝕刻外露的部位用非偏振物質(zhì)填滿并接著進(jìn)行表面平整化，以獲 得一個完好基底，用于可得到偏振物質(zhì)的不同定向的后續(xù)涂層工 藝。在這種情況下會形成一個層序，其厚度為單層厚度的數(shù)倍，其 中具有不同定向的濾鏡部位與載體或傳感器的間距不同，這會是有 缺陷的。此外，最大透光量由于填充物質(zhì)而減小。也可以是一種相反的做法。其中，首先通過光刻漆201產(chǎn)生一 個具有間隙的矩陣，接著將濾鏡物質(zhì)206壓入到所述間隙中。在所 述物質(zhì)硬化后，可以將多余的材料通過拋光工藝(CMP)和/或蝕刻 工藝去掉(圖2b)。圖中象征性地通過磨具203去除材料。在此， 并不一定要使磨具203與有待磨掉的材料202和201直接接觸，同 樣優(yōu)選的是使用傳遞力的流體，如有必要可使用蝕刻性液體。接著 通過薄的覆蓋層208對這樣制成的載體或傳感器進(jìn)行保護(hù)(圖2c)。通過多次暴露蝕刻其余的受到漆的保護(hù)的區(qū)域并且以不同的角度 重復(fù)上述涂層工藝就能逐漸產(chǎn)生 一 個具有不同排列的選擇性的偏振鏡的鏡結(jié)構(gòu)，對應(yīng)于圖lb。在這些工藝步驟后在表面上設(shè)置持久的保護(hù)層。當(dāng)要實現(xiàn)具有不同定向的多個鏡時，這種與集成電路制 造略有不同的工藝具有特別的優(yōu)點，因為所有鏡部位位于同一平面 中并且總體厚度只相當(dāng)于單個鏡面的厚度。因為無需填充材料，所 以也沒有額外的光損失，此外也減輕了重量。因為在所述方法中光 刻掩膜與濾波材料或載體之間不必接觸，所以所述掩膜不產(chǎn)生機(jī)械 磨損。這也是相對于微米或納米沖壓技術(shù)的一個優(yōu)點，所述沖壓技 術(shù)也同樣可以用于偏振鏡的結(jié)構(gòu)化。此外，沖壓掩膜的制造并不屬 于集成電路的已知方法，這使其在經(jīng)濟(jì)上沒有無吸引力。在制造偏振鏡之前或之后，也可以進(jìn)行常見于CCD或CMOS圖像 傳感器的加工步驟，例如涂覆彩色鏡。優(yōu)選在制成鏡之后制造微型 透鏡，因為微型透鏡沒有平坦的基底。所述附加的層可以同時用于 保護(hù)相對敏感的偏振鏡?？蓛?yōu)選在真空中進(jìn)行，以避免夾雜空氣。表面200的預(yù)處理可能是 必要的，以改善濾鏡物質(zhì)206在表面200上的粘附。這些問題與所 使用的材料及其特性有關(guān)。實例3:用于角度測量的偏振敏感的傳感器在旋轉(zhuǎn)的部件上的角度測量經(jīng)常出現(xiàn)問題，例如為了確定信號 發(fā)生器(控制桿、踏板等)或伺服裝置的位置。如開頭所述，隨著 微型化以及測量速度的提高，常見的測量方法在分辨率或調(diào)整誤差 方面受到限制。通過利用光的偏振化測量角度可以避免許多問題。通過傳統(tǒng)的措施例如可以在旋轉(zhuǎn)的測量偏振鏡后面設(shè)置 一 個光 傳感器，通過偏振方向的定向未知的偏振光照射并且對于不同的旋 轉(zhuǎn)角接收測得的信號，所述信號按照馬呂斯定律變化。如果所述信 號為最大值，那么測量偏振鏡的定向與入射光的偏振方向一致。這 是一個機(jī)械上龐大的并且相對費事的解決方案。此外其前提是，待 測量的信號在測量期間是不變的。作為一種替代方式，使用多個帶有固定放置的偏振鏡(例如粘接的偏振鏡膜)的光傳感器。每個傳感器的偏振鏡方向例如可以以90°或45。步幅實現(xiàn)。更簡化的可能是，將已知偏振方向的、相同的偏振傳感器作為結(jié)構(gòu)單元使用并且 將所述傳感器設(shè)置在不同的方位上。通過分析所有傳感器的信號可 以獲得入射光的成份。但是現(xiàn)在的問題是，由兩個或多個獨立傳感 器組成的總傳感器的光學(xué)有效面積大于單個機(jī)械式操縱的傳感器 的光學(xué)有效面積。這意味著，在整個傳感器面上的測量信號必需均 勻。通過將單個傳感器和偏振鏡組合成一個在結(jié)構(gòu)上類似于圖lb 的集成傳感器，能夠在單個傳感器的面積上同時容納所有獲得的偏 振面的尺寸。因此這種集成的傳感器在輸入信號的變化速度方面不 受限制。各個傳感器信號的分析可以優(yōu)選組合在傳感器上，由此可以為 使用者提供一個易于處理的測量結(jié)果。在此不僅可以提供模擬信號 而且可以提供數(shù)字信號。下面詳細(xì)描述角度測量的問題。在第一設(shè)計方案(圖4a)中，角度測量的結(jié)構(gòu)類似于叉式光電 偶對400和分瓣光圏404。改良的叉式光電偶對400在一個側(cè)面上 具有光源402、例如一個發(fā)光二極管(LED)。偏振敏感的傳感器401 位于光電偶對400的另一側(cè)面上，該傳感器最好具有4個帶有以45。 錯置的偏振鏡的部位。但是現(xiàn)在代替分瓣光圏或編碼光圈在發(fā)射器 402與接收器401之間放置一個可旋轉(zhuǎn)支承的未結(jié)構(gòu)化的偏振鏡膜 405 。因為所述膜的偏振方向與位置無關(guān)，所以既不需要精確地調(diào) 整，污物也不會直接導(dǎo)致誤差。污物僅僅減少信號的亮度和對比度。在偏振鏡膜片以360。旋轉(zhuǎn)的過程中，四個傳感器A、 B、 C、 D 所產(chǎn)生的信號曲線如圖6所示。在此，傳感器A、 B、 C、 D對應(yīng)于 圖lb中的部位102。其中，每個單個傳感器的信號遵循馬呂斯定律。 就金屬的濾鏡而言，在光入射時通過偏振化定向沿著濾鏡條紋的方 向?qū)?cp= 0°)進(jìn)行吸收或反射，因此傳感器信號I為最小值Imin。 當(dāng)偏離90°時，傳感器得到最大信號Ira 。非理想的濾鏡或者未偏振化的散射光使上述曲線向上偏移，即產(chǎn)生一個偏移量。在減去所述 偏移量后，通過相鄰傳感器之間的比例關(guān)系獲得角度信息，因此絕 對亮度并不重要。通過將各個信號相關(guān)聯(lián)，可以在180。的范圍內(nèi)得 到明確的位置信息。通過將至少一個明/暗區(qū)與至少一個光電偶對組合在一起，可以使測量范圍順利地擴(kuò)展到360°?？梢韵氲皆S多用 于將測量范圍擴(kuò)展到360。的其它替代方式。為此優(yōu)選例如通過特定 部位的黑化對偏振鏡膜片進(jìn)一 步結(jié)構(gòu)化。在另一設(shè)計方案中，可以繼續(xù)減少所需的濾鏡面積，此外可以 將光源702和傳感器703組裝在一個平面中，即同一載體704上。 這就使布置結(jié)構(gòu)可以最小化，從而具有最小化帶來的所有好處。如 圖7所示， 一個設(shè)置在濾鏡膜片700后面的散射片701 (例如白紙 或者傳動齒輪的消光表面)使光源702發(fā)出的光沿不同的方向反射。 可以這樣布置發(fā)射器和接收器，使得沒有偏振鏡表面的反射光705 到達(dá)傳感器7 03，而是只有穿過濾鏡700的信號進(jìn)入到傳感器。濾 鏡700表面的反射將減少可達(dá)到的對比度。所述散射片701是否與 濾鏡700 —起旋轉(zhuǎn)、相互獨立地旋轉(zhuǎn)或者不旋轉(zhuǎn)是不重要的。具有反射的偏振鏡的角度傳感器的設(shè)計方案允許將濾鏡700直 接裝配在電機(jī)軸或傳動軸上。由此可以實現(xiàn)最小的飛輪質(zhì)量。特別 優(yōu)選的是也可將用于理論值_實際值比較和用于控制執(zhí)行裝置的 伺服電路集成到傳感器芯片中。在此無需特別的調(diào)整需要就能實現(xiàn) 感應(yīng)單元在測量位置、例如電4幾軸上的裝配。在使用樣么型電機(jī)時可 以使傳感器例如安置在傳動裝置內(nèi)部。對于步進(jìn)電機(jī)或者超聲波電 機(jī)目前可以完全不用傳動裝置，在這種情況下一個完整的伺服裝置 幾乎不大于電機(jī)本身。在此與數(shù)字測量方法不同，角度傳感器(如 有可能)與伺服電路一起極小化至幾立方毫米不會導(dǎo)致分辨率的降 低，換而言之可應(yīng)用在極其高的轉(zhuǎn)速的場合。同樣可以想到發(fā)射器 702和傳感器703的單片式集成。為了傳感器的標(biāo)定， 一方面可以將所有感應(yīng)區(qū)A、 B、 C、 D的強(qiáng) 度相加，以獲得有關(guān)入射光總量的報告，但是也可以使用一個非偏 振的輔助傳感器。有助于測量散射光或者偏振系數(shù)的是獲取并存儲旋轉(zhuǎn)期間的最小信號。除了從車間校準(zhǔn)以外，也可以在初次投入運 行或者以后在維護(hù)周期中自動地進(jìn)行校準(zhǔn)，其中所述傳感器的功能 不會由于所述周期而受到不利影響。所測得的值優(yōu)選存儲在傳感器上的非易失的存儲器(例如EEPROM或閃存)中，從而所述值在重 新接通存儲器以后可直接使用。另一種優(yōu)選的設(shè)計方案是，傳感器 的基準(zhǔn)點可以電子地操縱和存儲，因為所測得角度的費事的機(jī)械式 標(biāo)定能以這種方式通過電子標(biāo)定替換。 實例4:強(qiáng)場的測量如圖8所示，具有例如按照圖lb的濾鏡結(jié)構(gòu)的偏振敏感的傳感 器也可以利用法拉第效應(yīng)來測量強(qiáng)磁場或者按照克爾效應(yīng)來測量 強(qiáng)電場。如果線性偏振光803通過暴露在強(qiáng)場804下的介質(zhì)801傳 導(dǎo)，則光的偏振面根據(jù)場和材料而旋轉(zhuǎn)。此時在角度傳感器802中 能獲得所述旋轉(zhuǎn)。優(yōu)選使用線性偏振的激光作為光源800。這種布置特別有利的是，沒有任何導(dǎo)電或鐵磁的物體暴露在所 述場中，即所述場的影響最小。因為系統(tǒng)在實際上能做出無慣性反 應(yīng)，所以也能檢測出非?？斓乃沧?，例如在沖擊放電時出現(xiàn)的瞬變。 這與許多其它檢測方法相比是一個優(yōu)點，例如感應(yīng)線圈或者帶有葉輪的靜電式測試儀(Elektrostaten)。使用小型化的光學(xué)角度傳感 器802降低了通過激光射線測量微小的橫截面的難度，也能夠?qū)崿F(xiàn) 尤其是空間強(qiáng)烈界定的場的測量。實例5:拍攝具有偏振信息的圖像當(dāng)集成度更高時，也可形成由與偏振化相關(guān)的光傳感器組成的 專用結(jié)構(gòu)或者規(guī)則陣列。因而可以想到的是，制造一種類似于彩色 圖像傳感器的等效物，該等效物在不同的方向、優(yōu)選在至少兩個正 交方向(0。和90。)或者更好是在四個方向(0°， 45°, 90°, 135°) 上具有代替彩色濾鏡(例如在所謂拜耳-標(biāo)準(zhǔn)(Bayer-Format)中 的正方形GRBG矩陣)的偏振鏡(圖9a )。在此，整個傳感器900含 有像素組901,該像素組901由具有分別定向的偏振鏡902的光敏 檢測器組成。在這種情況下，借助這種傳感器的條紋攝影不僅可以 證實應(yīng)力的產(chǎn)生，而且可以更好地寺艮告應(yīng)力的強(qiáng)度和形式。在此佳_用兩個正交的偏振鏡定向可以確定偏振光的偏振方向，但是不能可 靠地區(qū)分對角定向的入射光與非偏振光，因為在這些情況下透過所 述兩個濾鏡的光量相同。使用四個不同的偏振定向得到關(guān)于入射光 偏振程度的額外啟示。這 一 點例如可以用于從測量信號中選出散射光。在借助傳統(tǒng)的CCD或CMOS圖像傳感器時，用于實現(xiàn)圖像傳感器 和用于分析由此獲得的圖像的費用很少?？梢暂p易地將圖像顯示在 常見的灰度監(jiān)視器上，但是沒有可識別的偏振信息。所述偏振信息 在一個常見的彩色監(jiān)視器上顯示為偽彩色信息?？梢韵氲降膽?yīng)用多 種多樣。這種傳感器獲得的圖像可以通過圖像處理進(jìn)行操作，使得 所述圖像如同是通過傳統(tǒng)的具有偏振鏡的圖像傳感器以任意定向 拍攝的。此外，可以使根據(jù)位置例如有針對性且逐漸地抑制或增強(qiáng) 反射。例如通過交通監(jiān)控攝像機(jī)自動拍攝的照片可以在事后處理， 也可以自動處理，使得即使在玻璃上存在不利的反射情況下也可以 識別例如人。將偏振鏡陣列與彩色鏡陣列組合在 一 個圖像傳感器上 同樣能實現(xiàn)這種具有彩色圖像的功能。當(dāng)彩色矩陣相對于傳統(tǒng)的圖 像傳感器沒有變化時，通過將偏振鏡涂覆到相鄰的彩色像素光電元 件上可以得到極大的靈活性。圖9b以通常的拜耳標(biāo)準(zhǔn)示出了一個 傳感器的應(yīng)用。在此，傳感器905具有彩色敏感的光傳感器906, 其中，分別為一個完整的彩色像素配屬一個偏振鏡，所述偏振鏡的 定向周期性地變化。就拜耳標(biāo)準(zhǔn)而言，設(shè)置有雙倍的綠敏傳感器， 以特別好地測量人眼特別敏感的范圍中的亮度信息。因此也可以想 到一種結(jié)構(gòu)，其中，例如所述兩個綠敏傳感器中的一個沒有偏振鏡 并因此具有更高的總的光敏性?？梢韵氲皆S多不同的變化。不同濾 鏡(偏振鏡或彩色鏡)的制造順序通常并不重要。在非偏振光的情 況下，這種傳感器得到的圖像與傳統(tǒng)彩色傳感器得到的圖像沒有差 別。而在非偏振光的情況下尤其圖像的分辨率會降低。但是在全偏 振入射光的情況下會失去部分空間分辨率，因為沒有光入射到位于 濾鏡下面的傳感器上。因此，就具有兩個正交濾鏡的布置而言，分 辨率的損失最多為50%,當(dāng)使用四個定向濾鏡時，最壞的情況下分辨率的損失為25%。與傳統(tǒng)的偏振無關(guān)的圖像傳感器相比，由于各 個不適當(dāng)?shù)钠穹较虻牡觯瑢?dǎo)致光敏度降低大約2倍。 實例6:再現(xiàn)具有偏振信息的信號或圖像如示例4清楚所述，就特定應(yīng)用而言，使用偏振光的光源很有 意義。為了測量角度，也可以使用偏振光源與傳感器之間的直接角 度測量代替帶有旋轉(zhuǎn)偏振鏡的非偏振光源。通過這種方法可以例如 離開很長距離獲得角度。由光源和偏振鏡組成的結(jié)構(gòu)單元對于這種 應(yīng)用是適宜的。此外，可以使發(fā)光器材陣列或監(jiān)視器配有偏振鏡陣列，以逼真 地再現(xiàn)例如通過偏振敏感的攝像機(jī)拍攝的圖像。為此優(yōu)選的是，使 監(jiān)視器和攝像機(jī)具有近似的濾鏡結(jié)構(gòu)，至少具有相同的角度分辨 率。在這種情況下無需用于信號處理的特別的中間步驟。更廣泛的 應(yīng)用領(lǐng)域是用于產(chǎn)生立體圖像。立體圖像的實現(xiàn)經(jīng)常利用彩色眼 鏡，例如具有用于左眼的紅色濾鏡和用于右眼的綠色濾鏡的彩色眼 鏡。監(jiān)視器以相應(yīng)的色彩發(fā)出來自兩個視角的單色場景圖。在此， 左眼看到第一色彩的圖像，右眼看到第二色彩的圖像。這些圖像在 大腦中組成一個空間的總體印象。優(yōu)點是，這個方法通過各個監(jiān)視 器都能正常工作并且與位置和視線無關(guān)。但是缺陷是，不能實現(xiàn)正 確的色彩再現(xiàn)。色彩再現(xiàn)問題可以通過百葉窗式眼鏡 (Shutterbrille )解決。監(jiān)視器交替地示出兩種彩色圖l象，百葉 窗式眼鏡(LCD顯示器，為每只眼睛帶有一個元件)與監(jiān)視器同步 地每次使一個眼睛變黑。在此缺陷是用于眼鏡的費用，尤其是必需 供電和正確的同步化。此外有效圖像再現(xiàn)率降低到一半。另外這個 時間錯置的視圖在圖像運動時易使觀察者疲勞。另一種實現(xiàn)方式使用專門制成的監(jiān)視器，其中，微棱鏡或微透 鏡以均勻的間距安置在監(jiān)視器上。所述棱鏡或透鏡起到使偶數(shù)或奇 數(shù)列的光偏轉(zhuǎn)到左眼或右眼?，F(xiàn)在為了觀察無需眼鏡，但是只能為 觀察者提供一個狹窄的視野，在側(cè)面觀察時該方法不能正常工作。 這一方法的圖像再現(xiàn)頻率能保持恒定，而圖像分辨率下降到一半。在此所提出的用于偏振鏡陣列的制造方法實現(xiàn)了立體顯示器的替代設(shè)計方式，其中所產(chǎn)生的光交替地以90。錯位的方向、例如垂 直或水平地偏振化。這一點可以實現(xiàn)行或列。嵌入式結(jié)構(gòu)給出了另 一種優(yōu)選設(shè)計方案，因為此時眼睛不再這樣容易感覺到產(chǎn)生圖像的 結(jié)構(gòu)(與孔掩膜和條紋掩膜的圖像質(zhì)量相比)。為了觀察需要一副眼鏡，該眼鏡使每個眼睛具有一個帶有正確對準(zhǔn)各自半幅圖像的偏 振鏡。無需對眼鏡供電或者與監(jiān)視器同步化。此外觀察者可以在室 內(nèi)自由運動。只有當(dāng)頭部強(qiáng)烈側(cè)向傾斜時才會導(dǎo)致圖像失真。在這 種方法中圖像再現(xiàn)頻率保持相同，分辨率為使用兩個正交偏振鏡定 向時的一半。如果取下眼鏡，仍然可以通過監(jiān)視器觀察到具有原始 分辨率的二維圖像，人眼感覺不到不同的偏振。LED監(jiān)視器。當(dāng)各個選擇性的濾鏡相對于平面鏡偏轉(zhuǎn)+ 45?；?45° 時，已經(jīng)固有地配有偏振鏡并因此產(chǎn)生偏振光的LCD顯示器可以在 相互正交的定向上配有附加偏振鏡。因為與使用百葉窗式眼鏡時類似，左圖像與右圖像的分離幾乎 是理想的，因此提供了其它各種應(yīng)用。所述兩個半幅圖像不必一定 屬于同一物體的立體圖像，所述兩個半幅圖像可以完全無關(guān)。因此 例如一個半幅圖像可以再現(xiàn)一個影片，而另一半幅圖像示出一個消 息文字。因此觀察者可以同時感覺到兩個不同的場景，觀察者可以 關(guān)注于一個場景上，但是也立即對另一場景中的突發(fā)事件做出反 應(yīng)。這一點就像圖旁圖畫面代替了已知的圖中圖畫面。如果偏振鏡眼鏡配有分級式可旋轉(zhuǎn)的鏡，則得到其它有益的方 法。除了立體圖像(和一個顛倒的立體圖像)以外，現(xiàn)在可以通過 兩個眼睛跟隨背景1或者跟隨背景2。由此可以同時從兩個完全不 同的視角示出一幅場景，并且每個觀察者可以自由決定，他想看到 哪個透視圖。在優(yōu)選使用耳機(jī)時，配有多個接收器的電視或者監(jiān)視 器可以同時再現(xiàn)兩部完全不同的影片。在娛樂和計算機(jī)領(lǐng)域以及在 媒體技術(shù)中存在許多應(yīng)用可能性。如果監(jiān)視器與按照示例5的攝像機(jī)類似地配有四個濾鏡，只要 分別與眼鏡成對角的偏振像素能再現(xiàn)由正確定向的像素組成的混合信息，則在顯示立體信號時不再損失50%分辨率或圖像亮度。但是這需要在顯示前專門處理立體半幅圖像。同樣可以類似地應(yīng)用于投影儀。在此偏振鏡不必一定位于光源 與觀察者之間，取而代之可以使光通過帶有偏振面的交變定向的偏 振鏡陣列投影到銀幕上。光在反射后重新穿過同 一濾鏡元件并且到 達(dá)觀察者，該觀察者配戴有一個具有相應(yīng)定向的偏振鏡的眼鏡。在 此，投影儀或圖像分辨率必需與銀幕相協(xié)調(diào)，由此使屬于特定半幅 圖像的各個像素在銀幕的適當(dāng)部位上出現(xiàn)。與偏振鏡陣列集成到投 影儀中不同，在銀幕前面的濾鏡可以實現(xiàn)更高的亮度，而不會由于 吸收光而引起熱問題。實例7:立體圖像的投影圖像發(fā)生器和偏振鏡的結(jié)構(gòu)單元不適用于將圖像投影到大的表 面上，因為偏振鏡由于吸收不適合的偏振光而被加熱。因此有意義 的是，加大偏振鏡的表面。最大尺寸可以使濾鏡直接占據(jù)在投影面 或#>幕前面。在這種情況下，投影面或銀幕是否包括光的偏振面也不重要， 因為反射光在到觀察者的路徑上重新穿過濾鏡。在圖10中示出該 結(jié)構(gòu)。 一個投影儀1002將一個圖像投影到磨砂玻璃片1000上，其 中光事先穿過偏振鏡矩陣1001。優(yōu)選在偏振鏡矩陣中使用相互正交 交替偏振的濾鏡區(qū)域，其中每個區(qū)域幾乎對應(yīng)于一個圖像點。投影 儀必需將所有屬于特定立體半幅圖像的圖像信息通過濾鏡的適配 偏振部位進(jìn)行投影。當(dāng)觀察者1003通過具有適當(dāng)偏振的濾鏡1004 的眼鏡看到投影面1000時，觀察者可以感覺到一個空間圖像，其 中，觀察者相對于投影面的位置是不重要的。但是投影儀和銀幕在 分辨率上必需相互協(xié)調(diào)。因此為了產(chǎn)生兩個半幅圖像可以優(yōu)選使用 數(shù)字投影儀，其圖像以像素方式定義，其中對于每個像素在投影面 上存在一個適合的偏振區(qū)域。尤其在使用模擬投影儀時使用兩個孔 眼光圈很有意義，所述兩個孔眼光圈分別使各個投影儀的信號只通 過投影面的相應(yīng)部位，并且反射或吸收應(yīng)當(dāng)投影到非相應(yīng)的部位上 的分量。
權(quán)利要求
1.一種用于加工偏振敏感的具有期望的擴(kuò)展和定向的濾鏡的方法，其特征在于，通過光刻方法在至少一個加工平面和/或布線平面中產(chǎn)生光柵結(jié)構(gòu)，該光柵結(jié)構(gòu)的幾何結(jié)構(gòu)和定向事先通過掩膜數(shù)據(jù)圖紙確定，其中優(yōu)選只使用在設(shè)計集成電路時常見的結(jié)構(gòu)參數(shù)和加工步驟。
2. 如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，將鐵磁材料用于光 刻結(jié)構(gòu)化。
3. 如權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，用于偏振的導(dǎo) 體電路梳形地布線。
4. 如上述權(quán)利要求中任一項所述的方法，其特征在于，用于偏 振的導(dǎo)體電路的布線使所述導(dǎo)線能夠通流熱流。
5. —種用于加工偏振敏感的具有期望的擴(kuò)展和定向的濾鏡的方 法，其特征在于，在至少一個物理和/或化學(xué)影響參數(shù)如壓力、溫度 或類似參數(shù)的影響下，以相對于載體的給定角度在一個覆漆的載體上 涂覆偏振方向給定的偏振物質(zhì)，其中載體的特定部位例如通過曝光和 蝕刻去漆，并且在載體上的偏振物質(zhì)硬化和/或冷卻后通過蝕刻和/ 或拋光去除仍被覆蓋部位的多余偏振材料和/或漆。
6. 如權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，以偏振物質(zhì)相對于漆層保護(hù)事先已經(jīng)制成的偏振部位，所述漆層能夠在加工結(jié)束時去除。
7. 如權(quán)利要求5或6所述的方法，其特征在于，為了制造偏振 物質(zhì)將直徑大于待濾波波長的透入深度的納米線嵌入介質(zhì)中，其中納 米線優(yōu)選使用鐵磁材料。
8. 如上述權(quán)利要求中任一項所述的方法，其特征在于，使用具 有低折射率的材料作為濾鏡的導(dǎo)電偏振結(jié)構(gòu)之間的電介質(zhì)，所述材料 被改變成具有更低介電常數(shù)的介電材料。
9. 如上述權(quán)利要求中任一項所述的方法，其特征在于，在制造后通過選擇性蝕刻去除偏振鏡的部分電介質(zhì)。
10. —種通過至少一個感應(yīng)元件測量光偏振的裝置，其特征在于， 該感應(yīng)元件與一個偏振鏡作為結(jié)構(gòu)單元共同作用地設(shè)置成一個偏振 敏感的傳感器，該傳感器的偏振面以給定的角度相對于感應(yīng)元件的確 定基準(zhǔn)軸調(diào)整，其中借助于標(biāo)記在所述裝置的外殼上使基準(zhǔn)軸可識 別。
11. 一種通過至少一個感應(yīng)元件測量光偏振的裝置，其特征在于， 在至少一個力口工平面和/或布線平面中具有通過感應(yīng)元件以光刻方法 產(chǎn)生的光柵結(jié)構(gòu)，該光柵的幾何結(jié)構(gòu)和定向事先已經(jīng)通過掩膜數(shù)據(jù)圖 紙確定，使偏振敏感的傳感器構(gòu)成結(jié)構(gòu)單元，其中優(yōu)選只使用在設(shè)計 集成電路時常見的結(jié)構(gòu)參數(shù)并且使用加工集成電路時常見的加工步 驟。
12. —種通過至少兩個偏振敏感的傳感器測量光偏振的裝置，其 中所述至少兩個傳感器具有不同的偏振面方向，其中所述傳感器中的 至少一個如上述權(quán)利要求中任一項所述形成，其特征在于，具有從偏
13. 優(yōu)選通過如權(quán)利要求1至9中任一項所述方法制成的裝置， 具有多個偏振敏感的傳感器，其特征在于，設(shè)置偏振敏感的傳感器并 使其定向，使它們適合于拍攝具有關(guān)于入射光偏振信息的圖像。
14. 一種裝置，優(yōu)選通過如權(quán)利要求1至9中任一項所述方法制成，其特征在于，具有至少一個彩色濾鏡。
15. —種裝置，優(yōu)選通過如權(quán)利要求1至9中任一項所述方法制 成，其特征在于，具有一個偏振的光發(fā)射體，其中借助于由該光發(fā)射旋轉(zhuǎn)角。
16. —種裝置，優(yōu)選通過如權(quán)利要求1至9中任一項所述方法制成，其特征在于，在光發(fā)射體與偏振敏感的傳感器之間具有一個光發(fā) 射體和 一 個可旋轉(zhuǎn)的偏振鏡。
17. —種裝置，優(yōu)選通過如權(quán)利要求1至9中任一項所述方法制成，其特征在于，使一個光發(fā)射體、 一個可旋轉(zhuǎn)的偏振鏡和一個反射 的介質(zhì)相互間相對設(shè)置，使得由發(fā)射體發(fā)出的光能夠在反射介質(zhì)上反 射，所述光通過反射能夠進(jìn)入旋轉(zhuǎn)的偏振鏡并且由至少 一 個偏振敏感 的傳感器獲得。
18. —種裝置，優(yōu)選通過如權(quán)利要求1至9中任一項所述方法制 成，其特征在于，所述偏振敏感的傳感器與用于控制執(zhí)行機(jī)構(gòu)的和用 于對測量信號與理論值進(jìn)行比較的裝置一起相互作用地設(shè)置、尤其是 集成。
19. 一種裝置，優(yōu)選通過如權(quán)利要求1至9中任一項所述方法制 成，其特征在于，具有用于電子標(biāo)定的裝置和/或用于存儲標(biāo)定數(shù)據(jù) 的存儲器。
20. —種裝置，優(yōu)選通過如權(quán)利要求1至9中任一項所述方法制 成，其特征在于，具有用于自動標(biāo)定的裝置。
21. 如權(quán)利要求10至14中任一項所述的裝置，優(yōu)選通過如權(quán)利 要求1至9中任一項所述方法制成，其特征在于，具有透明的介質(zhì)和 偏振的光發(fā)射體，其中該發(fā)射體的偏振光在穿過透明的、最好適合利 用法拉第效應(yīng)或克爾效應(yīng)的介質(zhì)后由偏振敏感的傳感器獲得。
22. 用于產(chǎn)生偏振光的裝置，具有至少一個光發(fā)射體，其特征在 于，至少一個光發(fā)射體與一個偏振鏡相互作用地設(shè)置成作為結(jié)構(gòu)單元的確定基準(zhǔn)軸對準(zhǔn)，其中借助于裝置外殼上的標(biāo)記能夠識別該基準(zhǔn)軸。
23. 用于產(chǎn)生偏振的光信號、尤其是圖像信號的裝置，其特征在 于，具有多個光發(fā)射體，它們周期地配有不同給定定向的偏振鏡，其 中不同定向的偏振鏡優(yōu)選位于一個平面中。
24. 用于觀察一個立體圖像和/或兩個獨立圖像的具有如權(quán)利要 求22或23所述裝置的裝置，其特征在于，具有對不同觀察者和/或同一觀察者的兩個眼睛通過使用最好可旋轉(zhuǎn)的偏振鏡只顯示所述圖 像的一部分的機(jī)構(gòu)。
25.用于優(yōu)選再現(xiàn)立體圖像的投影裝置，其特征在于，投影儀將兩個半幅圖像照射到 一個投影面上，該投影面配有一個具有空間不同 偏振方向的偏振鏡，其中最好交替地使用兩個相互正交的偏振面。
全文摘要
本發(fā)明涉及用于加工偏振敏感的或偏振的濾鏡的方法及其在用于測量入射光偏振的偏振敏感的光傳感器上的應(yīng)用，還涉及用于測量旋轉(zhuǎn)角和強(qiáng)的電場或磁場的偏振敏感傳感器的設(shè)計方式以及用于還原偏振信號或再現(xiàn)獨立信號的起偏顯像裝置和起偏顯像裝置的設(shè)計方式。
文檔編號G02B5/30GK101218522SQ200680024689
公開日2008年7月9日 申請日期2006年6月22日 優(yōu)先權(quán)日2005年7月8日
發(fā)明者京特·格勞 申請人:京特·格勞