專利名稱：一種監(jiān)控溫控板性能的方法及采用該方法設(shè)置的系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造設(shè)備的監(jiān)控，具體地說，涉及一種監(jiān)控溫控板性能 的方法及采用該方法設(shè)置的系統(tǒng)
背景技術(shù)：
溫控板(Track plate)對光刻制程中圖像的形成起很關(guān)鍵的作用。溫控板包 括冷卻板(Cooling plate )和加熱板(Hot plate )。溫控板的關(guān)4建性能參數(shù)是溫控 板的溫度，加熱的均勻性(Hot air uniformity)以及力口熱時間。目前測試這些參 數(shù)均是操作人員通過溫度計觀察，所以很容易產(chǎn)生誤差。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種監(jiān)控溫控板性能的方法及采用該方法設(shè)置的系 統(tǒng)，其可以精確監(jiān)控溫控板的性能。
為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種監(jiān)控溫控板性能的方法，晶圓置于溫控 板上方，其中，該方法首先在晶圓上涂布光阻；進行光刻制程，形成光阻圖形； 該方法通過監(jiān)控光阻圖形側(cè)壁的傾斜幅度監(jiān)控溫控板的性能。
溫控板的性能與光阻圖形側(cè)壁的傾斜幅度呈函數(shù)關(guān)系。
光阻圖形側(cè)壁的傾斜幅度通過光阻圖形側(cè)壁的白邊影像尺寸表征，所述白 邊影像尺寸是光阻圖形側(cè)壁的傾斜幅度在電子顯微鏡下的影像。
溫控板的性能包括溫度、加熱時間以及加熱均勻性。
該方法在晶圓上取不同位置進行測量不同位置的光阻圖形側(cè)壁的白邊影像 尺寸，如果側(cè)壁白邊影像尺寸超出了預(yù)先設(shè)定的基準范圍，則說明溫控板相應(yīng) 位置的性能出現(xiàn)異常。
本發(fā)明還提供一種采用所述的監(jiān)控溫控板性能的方法設(shè)置的系統(tǒng)，該系統(tǒng) 包括接收模塊及對比模塊，接收模塊可以獲得晶圓上不同位置光阻圖形側(cè)壁的傾斜幅度的測量數(shù)據(jù)，對比模塊將測量數(shù)據(jù)與預(yù)先設(shè)定的基準數(shù)據(jù)進行對比， 如果超出基準數(shù)據(jù)，則發(fā)出警告，提示溫控板相應(yīng)位置的性能出現(xiàn)問題。光阻 圖形側(cè)壁的傾斜幅度通過光阻圖形側(cè)壁的白邊影像尺寸表征，所述白邊影像尺 寸是光阻圖形側(cè)壁的傾斜幅度在電子顯孩i鏡下的影像。采用電子顯樣史鏡獲取晶 圓上不同位置光阻圖形側(cè)壁的白邊影像尺寸的測量數(shù)據(jù)，電子顯微鏡與接收模 塊連接。基準數(shù)據(jù)由生產(chǎn)工藝要求決定，可以由操作人員預(yù)先設(shè)定。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明可以精確監(jiān)測到溫控板性能。該方法很容易實現(xiàn)， 而且實現(xiàn)監(jiān)測標準化，費用也很低，尤其適用于大規(guī)模的生產(chǎn)制程。


通過以下對本發(fā)明一實施例結(jié)合其附圖的描述，可以進一步理解其發(fā)明的
目的、具體結(jié)構(gòu)特征和優(yōu)點。其中，附圖為
圖1為電子顯微鏡掃描光阻圖形側(cè)壁白邊影像的示意圖。
圖2為溫控板加熱時間和光阻圖形側(cè)壁白邊影像尺寸之間線性關(guān)系的示意圖。
圖3為溫控板溫度和光阻圖形側(cè)壁白邊影像尺寸之間線性關(guān)系的示意圖。
具體實施例方式
本發(fā)明提供一種監(jiān)測溫控板性能的方法。該方法通過監(jiān)控光阻圖形側(cè)壁的 傾斜幅度監(jiān)測溫控板的性能，溫控板的性能包括溫度、加熱時間以及加熱均勻 性。請參閱圖l,光阻圖形側(cè)壁的傾斜幅度通過光阻圖形側(cè)壁的白邊影像尺寸d 表征，所述白邊影像尺寸是光阻圖形側(cè)壁的傾斜幅度在電子顯微鏡(CD - SEM) 下的影像。溫控板的性能與光阻圖形側(cè)壁的傾斜幅度呈函數(shù)關(guān)系，即溫控板的 性能與光阻圖形側(cè)壁的白邊影像尺寸呈函數(shù)關(guān)系。光刻圖形白邊影像尺寸d可 以通過電子顯微鏡精確測量。因此，可以精確監(jiān)測到溫控板性能。該方法很容 易實現(xiàn)，而且實現(xiàn)監(jiān)測標準化，費用也很低，尤其適用于大規(guī)模的生產(chǎn)制程。
本發(fā)明通過實驗證明了光阻圖形側(cè)壁的白邊影像尺寸和溫控板的性能之間 存在函數(shù)關(guān)系，溫控板的性能包括溫控板的溫度，加熱時間以及加熱均勻性， 現(xiàn)以溫度和加熱時間為例，具體實-驗如下保持溫度不變，調(diào)整加熱時間，通過實驗證明加熱時間和白邊影像尺寸大
小之間的關(guān)系。在本實-驗中，溫度保持110。C不變，加熱時間分別為60秒，40 秒和20秒，通過電子顯微鏡測量出光阻圖形的側(cè)壁的白邊影像尺寸分別為0.702 微米，0.640微米以及0.539微米。從圖2可以看出，加熱時間越短，白邊影像 尺寸越小。
然后保持加熱時間不變，調(diào)整溫度，通過實驗證明溫度和白邊影像尺寸大 小之間的關(guān)系。在本實-瞼中，加熱時間60秒不變，溫度分別為70。C，90。C及110°C, 通過電子顯微鏡測量出光阻圖形的側(cè)壁的白邊影像尺寸分別為0.349微米，0.398 微米及0.702微米。從圖3中可以看出，溫度越高，白邊影像尺寸越大。
通過上述實驗，可以看出溫控板的性能與電子顯微鏡測量出光阻圖形側(cè)壁 的白邊影像尺寸呈函數(shù)關(guān)系，根據(jù)該實驗結(jié)論，本發(fā)明提出一種監(jiān)控溫控板性 能的方法，晶圓置于溫控板上方，該方法包括如下步驟
首先在晶圓上涂布光阻；
進行光刻制程，形成光阻圖形；
利用電子顯微鏡測量光阻圖形側(cè)壁的白邊影像尺寸；實際操作中，可在晶 圓上多處測量，如取上、下、左、右、中五點位置測量不同位置的光阻圖形側(cè) 壁的白邊影像尺寸；
操作人員每日監(jiān)控側(cè)壁白邊影像尺寸，如果側(cè)壁白邊影像尺寸超出了預(yù)先 設(shè)定的基準范圍，則可以知道溫控板相應(yīng)位置的性能(溫度、加熱時間及加熱 均勻性)出現(xiàn)異常。
本發(fā)明設(shè)置了 一個采用該監(jiān)控方法的系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括接收模塊及對比模 塊，接收模塊可以獲得晶圓上不同位置光阻圖形側(cè)壁的傾斜幅度的測量數(shù)據(jù)， 對比模塊將測量數(shù)據(jù)與預(yù)先設(shè)定的基準數(shù)據(jù)進行對比，如果超出基準數(shù)據(jù)，則 發(fā)出警告，提示溫控板相應(yīng)位置的性能出現(xiàn)問題。光阻圖形側(cè)壁的傾斜幅度通 過光阻圖形側(cè)壁的白邊影像尺寸表征，所述白邊影像尺寸是光阻圖形側(cè)壁的傾 斜幅度在電子顯微鏡下的影像。
采用電子顯微鏡獲取晶圓上不同位置光阻圖形側(cè)壁的白邊影像尺寸的測量 數(shù)據(jù)，電子顯微鏡與接收模塊連接。基準數(shù)據(jù)由生產(chǎn)工藝要求決定，可以由操 作人員預(yù)先設(shè)定。本發(fā)明雖然以較佳實施例公開如上，但其并不是用來限定本發(fā)明，任何本 領(lǐng)域技術(shù)人員在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，都可以做出可能的變動和修改， 因此本發(fā)明的保護范圍應(yīng)當(dāng)以本發(fā)明權(quán)利要求所界定的范圍為準。
權(quán)利要求
1、一種監(jiān)控溫控板性能的方法，晶圓置于溫控板上方，其特征在于該方法首先在晶圓上涂布光阻；進行光刻制程，形成光阻圖形；該方法通過監(jiān)控光阻圖形側(cè)壁的傾斜幅度監(jiān)控溫控板的性能。
2、 如權(quán)利要求1所述的監(jiān)控溫控板性能的方法，其特征在于溫控板的性能與 光阻圖形側(cè)壁的傾斜幅度呈函數(shù)關(guān)系。
3、 如權(quán)利要求1或2所述的監(jiān)控溫控板性能的方法，其特征在于光阻圖形側(cè) 壁的傾斜幅度通過光阻圖形側(cè)壁的白邊影像尺寸表征，所述白邊影像尺寸是光 阻圖形側(cè)壁的傾斜幅度在電子顯微鏡下的影像。
4、 如權(quán)利要求1或2所述的監(jiān)控溫控板性能的方法，其特征在于溫控板的性 能包括溫度、加熱時間以及加熱均勻性。
5、 如權(quán)利要求1所述的監(jiān)控溫控板性能的方法，其特征在于該方法在晶圓上 取不同位置進行測量不同位置的光阻圖形側(cè)壁的白邊影像尺寸，如果側(cè)壁白邊 影像尺寸超出了預(yù)先設(shè)定的基準范圍，則說明溫控板相應(yīng)位置的性能出現(xiàn)異常。
6、 一種采用權(quán)利要求1所述的監(jiān)控溫控板性能的方法設(shè)置的系統(tǒng)，其特征在于 該系統(tǒng)包括接收模塊及對比模塊，接收模塊可以獲得晶圓上不同位置光阻圖形 側(cè)壁的傾斜幅度的測量數(shù)據(jù)，對比模塊將測量數(shù)據(jù)與預(yù)先設(shè)定的基準數(shù)據(jù)進行 對比，如果超出基準數(shù)據(jù)，則發(fā)出警告，提示溫控板相應(yīng)位置的性能出現(xiàn)問題。
7、 一種如權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其特征在于光阻圖形側(cè)壁的傾斜幅度通過 光阻圖形側(cè)壁的白邊影像尺寸表征，所述白邊影像尺寸是光阻圖形側(cè)壁的傾斜 幅度在電子顯微鏡下的影像。
8、 一種如權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，其特征在于采用電子顯微鏡獲取晶圓上不 同位置光阻圖形側(cè)壁的白邊影像尺寸的測量數(shù)據(jù)，電子顯樣i鏡與接收模塊連接。
9、 一種如權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其特征在于基準數(shù)據(jù)由生產(chǎn)工藝要求決定， 可以由操作人員預(yù)先設(shè)定。
全文摘要
本發(fā)明提供一種監(jiān)控溫控板性能的方法及采用該方法設(shè)置的系統(tǒng)，晶圓置于溫控板上方，其中，該方法首先在晶圓上涂布光阻；進行光刻制程，形成光阻圖形；該方法通過監(jiān)控光阻圖形側(cè)壁的傾斜幅度監(jiān)控溫控板的性能。光阻圖形側(cè)壁的傾斜幅度通過光阻圖形側(cè)壁的白邊影像尺寸表征，所述白邊影像尺寸是光阻圖形側(cè)壁的傾斜幅度在電子顯微鏡下的影像。本發(fā)明還提供一種采用所述的監(jiān)控溫控板性能的方法設(shè)置的系統(tǒng)。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明可以精確監(jiān)測到溫控板性能。該方法很容易實現(xiàn)，而且實現(xiàn)監(jiān)測標準化，費用也很低，尤其適用于大規(guī)模的生產(chǎn)制程。
文檔編號G03F7/20GK101452216SQ20071017161
公開日2009年6月10日 申請日期2007年11月30日 優(yōu)先權(quán)日2007年11月30日
發(fā)明者楊金坡 申請人:中芯國際集成電路制造(上海)有限公司