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      液晶顯示屏板的制作方法

      文檔序號(hào):2810825閱讀:310來(lái)源:國(guó)知局
      專利名稱:液晶顯示屏板的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及一種液晶顯示屏板和用于生產(chǎn)該液晶顯示屏板的方法。本發(fā)明 尤其涉及通過利用滴下式注入(ODF)技術(shù)生產(chǎn)液晶顯示屏板的方法,以及適 于這種生產(chǎn)方法的液晶顯示屏板。
      背景技術(shù)
      在近年,隨著液晶顯示屏板尺寸變得更大,代替?zhèn)鹘y(tǒng)使用的真空噴射技 術(shù),采用所謂的滴下式注入技術(shù)作為在一對(duì)基板之間形成液晶層的方法正變得 更普通。
      禾擁真空噴射技術(shù)生產(chǎn)液晶顯示屏板的過程包括TS的步驟。
      (al)在用于構(gòu)成液晶顯示屏板的一對(duì)基板(它們典型地是濾色片基板和 TTFT基板)的一個(gè)上,形成預(yù)定圖案的密封劑。然后,該對(duì)基板連接在一起, 并且密封劑固化,由此獲得液晶單元。形成密封劑圖案,以限定液晶層后面將 形成在其中的區(qū)域(注意顯示區(qū)域被包圍在該區(qū)域內(nèi))并且還限定注射入口。
      (a2)在排空液晶單元以在其中產(chǎn)生真空之后,通過利用液晶單元的內(nèi)部 和外部之間的壓力差并利用毛細(xì)管作用,液晶材料被注入,同時(shí)保持液晶材料 與湖入口接觸。
      (a3)之后,由密封劑密卦湖入口。 另一方面,滴下式^A技術(shù)包括下面的步驟。
      (bl)在一對(duì)基板的一個(gè)上,形成密封劑圖案,以圍繞其中將形成液晶層 的區(qū)域,并且然后液晶材料被滴入由密封齊幅案圍繞的區(qū)域內(nèi)。(b2)然后,該 實(shí)質(zhì)上連接到另一基板,并且之后密封劑固化。 在滴下式注入技術(shù)中,密封劑圖案需要完全封閉其中形成液晶層的區(qū)域。 從而,當(dāng)密封劑圖案由分配^fl財(cái),至少一個(gè)連接處將總是形成。 下面將參照?qǐng)D描述滴下式注入技術(shù)中使用的密封圖案的特點(diǎn)。
      圖21描述了四個(gè)液晶顯示面板將由母基板形成的例子。濾色片母基板20 包括四個(gè)濾色片基板。在每一個(gè)產(chǎn)生的濾色片 的顯示區(qū)域24中,設(shè)置濾色 片,該濾色片布置為對(duì)應(yīng)于像素和反電極(圖中未示出)。每一個(gè)濾色片基板 還包括圍繞顯示區(qū)域的光屏蔽層(黑色陣列)22,從而光屏蔽層22限定顯示區(qū) 域24的外周。盡管圖21僅僅描述了對(duì)應(yīng)于各個(gè)液晶顯示面板的分離的TFT基 板10,但是將會(huì)理解,包括四個(gè)未分開的TFT基板10的母基板(以類似于濾 色片母基板20的方式)將在切割前連接到母基板20。在四個(gè)TFT基板10的每 一個(gè)的顯示區(qū)域14中,形成必要的電路元件,例如,TFT、像素電極、柵極總 線和源極總線。每一個(gè)TFT 和每一個(gè)濾色片 51過密封部分32連接在一 起。密封部分32形j^光屏壁層22的外側(cè)。
      位于顯示區(qū)域14夕卜偵啲液晶顯示屏板的部分被稱為"非顯示區(qū)域"或"框 架區(qū)域",希望該非顯示區(qū)J^框架區(qū),可能窄。光屏壁層22和密封部分32 設(shè)置在非顯示區(qū)域中。
      另一方面,為了防止不需要的^1A顯示區(qū)域14中,光屏蔽層22需要具 有一定的厚度。如果光屏蔽不充分,黑色顯示質(zhì)量降級(jí),從而實(shí)質(zhì)上影響圖像 質(zhì)量。為了滿^兩種要求,需要在光屏蔽層22外周的緊密的附近精確形成密 封部分22。
      然而,當(dāng)密封部分32 3131^U技術(shù)形成時(shí),至少一個(gè)連接部分32b將不可 避免地形成。密封連接部分32b趨于變得比密封的主伸展32a更厚。如這里所 使用的一樣,密封主伸展32a指不包JSi接部分32b的具有實(shí)質(zhì)恒定寬度的密 封部分32的一部分。主伸展32a是密封圖案的一部分,密封圖案用密封劑形 成,該密封劑在分配器的噴嘴等在基板的平面內(nèi)進(jìn)行相對(duì)運(yùn)動(dòng)的同時(shí)排出,并 且因此主伸展32a取決于密封劑的排出量和噴嘴的移動(dòng)M。由此,主伸展32a 具有相當(dāng)穩(wěn)定的寬度。另一方面,連接部分32b包括密封劑首先涂敷的一部分 (即密封繪制的開始部分)。初始添加的密封劑量取決于在噴嘴的末端存在的 密封劑量。在噴嘴的末端存在的密封劑量由于用于定位噴嘴花費(fèi)的時(shí)間長(zhǎng)度的波動(dòng)(包括沿高度方向定位)和當(dāng)噴嘴在密封繪制的結(jié)束點(diǎn)從基板升起時(shí)噴嘴 末端殘留的密封劑量的波動(dòng)而波動(dòng)。因此,由于在密封繪制的開始點(diǎn)和結(jié)束點(diǎn)
      涂敷的密封劑量的不一致,連接部分32b的寬度趨于變得比主伸展32a的寬度更寬。
      圖22A和22B是描述密封連接部分附近的放大視圖。圖22A是平面圖,而 圖22B是剖視圖。
      如上所述,如果密封圖案在連接部分32b具有更寬的寬度,其一部分會(huì)與 光屏蔽層22交疊。因?yàn)榭擅蠊袒牧?包括也允許輔助使用熱固的那些類 型的光固化樹脂)廣泛用作密封劑,因此如果從濾色片基板20的側(cè)面進(jìn)行光輻 射(典型地紫外線(UV)輻射),與光屏蔽層22交疊的密封劑的部分32'不能 充分固化。由此,可光致固化樹脂的未固化組分會(huì)洗提到液晶材料中,由此引 起可靠性的惡化,例如,主要由于離子組分導(dǎo)致的液晶顯示屏板的電壓保持率 的,氐,并且引起方向偏轉(zhuǎn)的發(fā)生。
      或許可以從TFT鎌10的側(cè)面執(zhí)行光輻射。然而,如后面所述,如果UV 輻射從TFT基板10的側(cè)面進(jìn)行,需要采用一些防止TPT被UV輻射的^S (例如,必須使用用于屏蔽TTFT免于光照射的掩膜)。另一方面,如果從濾色 片鎌20的側(cè)面進(jìn)行UV輻射,優(yōu)點(diǎn)是在濾色片充分吸收UV的情況下會(huì),省 去這種體。至少會(huì)鏃斷,TFT的損壞量。
      為了防止在連接部分32b和光屏蔽層22之間部分交疊,日本公開專利公開 No. 2002-122870 了一種方法,該方法涉及織ij延伸到液晶顯示屏板的夕卜側(cè) 的密封圖案,和形成液晶顯示屏板外側(cè)的連接部分32d,如圖23中所示。此 夕卜,如圖24中所示,日本公開專利公開No. 2002-122870 MH了一種方法,該 方法涉及形^液晶顯示屏板外側(cè)繪制的密封的開始或結(jié)束點(diǎn)32e。
      曰本公開專利公開No. 8-240807披露了一種方法,該方法涉及在角部形成 密封連接部分,利用密封部分和光屏蔽部分之間的空隙在液晶顯示屏板的角部 比沿其招可側(cè)面將大大約1.4倍這一優(yōu)點(diǎn)。然而, 一旦密封連接部分的寬度, 上述{|±約1.4倍,同樣如日本公開專利公開No. 2002-122870,這種方法不能 處理上述問題。
      如果使用日本公開專利公開No. 2002-122870中描述的方法,不再需要在液 晶顯示屏板內(nèi)形成連接部分32b。然而,如圖25A中所示,該方,僅可用于下述情況在TFT鎌(TFT母繊)10連接到濾色片繊(CF母Sfe) 20 之后,母鎌10和20都沿相同的線CL切割。還存在另一情況,即如圖25B 中所示,TFT母基板10沿切割線CL1切割,而CF母基板20沿不同于切割線 CL1的切割線CL2切割,由此,在TFT繊10上^f共信號(hào)顯端子部分(驅(qū)動(dòng) 器安裝部分)。在這種情況下,具有如下問題,密封部分32t將保留在TFT母 繊10上,而母鎌10將粘接到將被除去的CF母繊20的片段,從而使得 不可能除去該片段。注意在為了抑制與顯示屏板的增加的尺寸相關(guān)的信號(hào)延遲 等,信號(hào)線部分沿液晶顯示屏板的三或四個(gè)邊設(shè)置的結(jié)構(gòu)中,不可能采用如圖 25A中所示的密封圖案。盡管圖25A中所示的圖案能夠在其中信號(hào)線端子部分 沿液晶顯示屏板的兩側(cè)設(shè)置的情況下采用,但是需要與母基板10和20同時(shí)切 割密封部分32會(huì)弓l起切割失敗。
      此外,日本公開專利公開No. 2002-122870中描述的方法將需要一種裝置, 該裝置能夠?qū)⒚芊鈭D案繪制到液晶顯示屏板的外側(cè),而不使連接部分在離開顯 示屏板之前形成。這種密封圖案繪制裝置將不可避免地尺寸大,并且由此增加 了顯示屏板的4^i^。
      根據(jù)本發(fā)明的發(fā)明A3t行的研究,日本公開專利公開No. 8-240807中描述 的方法不僅具有日本公開專利公開No. 2002-122870中提及的問題,而且具有另 一個(gè)問題,即如圖26A和26B中示意地所示,密封連接部分的寬度會(huì)偶而在角 部超過1.4倍的值,即使不形成連接部分。在這種情況下,出現(xiàn)在與光屏蔽層 22交疊的部分的密封劑32c不能充分固化。
      除了密封連接部分和角部之外,類似的方法也會(huì)在任何用于建立上部和下 部Sfe間的電連接的逾度部分(例如公共的過渡部分)出現(xiàn)。

      發(fā)明內(nèi)容
      為了克服上述問題,本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式提供一種用于有效生產(chǎn) 液晶顯示屏板的方法和通過這種生產(chǎn)方法提供的液晶顯示屏板,即使在 傳統(tǒng)的生產(chǎn)方法下將導(dǎo)致具有較厚寬度的密封圖案的部分(例如密封連 接部分或過渡部分)形成在液晶顯示屏板中,該液晶顯示屏板的可靠性 也不會(huì)降低。
      根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示屏板生產(chǎn)方法是一種用于生產(chǎn)液晶顯示屏板的方法,該液晶顯示屏板包括第一基板、第二基板和置于第一基板和第 二基板之間的液晶層,所述液晶顯示屏板具有顯示區(qū)域和圍繞顯示區(qū)域 的非顯示區(qū)域,所述方法包括以下步驟(A)提供第一基板或包含第一 基板的第一母基板,和第二基板或包含第二基板的第二母基板,其中第 一基板包括在更接近顯示區(qū)域的端部設(shè)置在非顯示區(qū)域內(nèi)的第一光屏蔽 層,第一光屏蔽層包括接近第一光屏蔽層的外部邊界設(shè)置的至少一個(gè)透
      光部分,所述至少一個(gè)透光部分包括凹部或開口;(B)利用包含可光致
      固化樹脂的密封劑繪制密封圖案,所述密封圖案被繪制在第一基板的第
      一光屏蔽層外部,以圍繞顯示區(qū)域,繪制密封圖案包括下面的子步驟
      (Bl)在接近第一基板的透光部分開始密封劑的涂覆,(B2)沿第一基 板的第一光屏蔽層的外周涂覆密封劑;(B3)形成與己經(jīng)接近透光部分 涂覆的密封劑的連接部分;(C)在由密封劑圍繞的顯示區(qū)域內(nèi)涂覆液晶 材料;(D)將第一基板和第二基板連接在一起,而液晶材料置于它們之 間;以及(E)在步驟(D)之后,從第一基板側(cè)進(jìn)行光輻射,以固化密 封劑。
      在一種實(shí)施方式中,第一基板具有矩形形狀;所述至少一個(gè)透光部分 包括至少沿矩形形狀的邊設(shè)置的透光部分;以及所述連接部分形成在沿 矩形形狀的所述邊設(shè)置的透光部分處。
      在一種實(shí)施方式中,所述至少一個(gè)透光部分包括沿矩形形狀的所述邊 設(shè)置的兩個(gè)或更多個(gè)透光部分;以及所述連接部分形成在沿矩形形狀的 所述邊設(shè)置的兩個(gè)或更多個(gè)透光部分處。
      在一種實(shí)施方式中,所述至少一個(gè)透光部分還包括設(shè)置在矩形形狀的 角部的透光部分。
      在一種實(shí)施方式中,第一母基板包括多個(gè)第一基板,所述方法包括 第一繪制步驟,其中通過接近第一基板的兩個(gè)或更多個(gè)透光部分中的一 個(gè)開始密封劑的涂覆,沿第一光屏蔽層的外周涂覆密封劑,以及接近兩 個(gè)或更多個(gè)透光部分中的另一個(gè)結(jié)束密封劑的涂覆,而在多個(gè)第一基板 中的一個(gè)上繪制密封圖案;第二繪制步驟,其中通過接近第一基板的兩 個(gè)或更多個(gè)透光部分中的一個(gè)開始密封劑的涂覆,沿第一光屏蔽層的外 周涂覆密封劑,以及接近兩個(gè)或更多個(gè)透光部分中的另一個(gè)結(jié)束密封劑的涂覆,而在多個(gè)第一基板的另一個(gè)上繪制密封圖案;第三繪制步驟, 其中在第一繪制步驟之后,通過開始密封劑的涂覆,以便形成與已經(jīng)接 近第一基板的一個(gè)透光部分或另一個(gè)透光部分涂覆的密封劑的連接部 分,從而在所述一個(gè)第一基板上繪制密封圖案;以及第四繪制步驟在 第二繪制步驟之后,通過開始密封劑的涂覆,以便形成與己經(jīng)接近第一 基板的一個(gè)透光部分或另一個(gè)透光部分涂覆的密封劑的連接部分,從而 在所述另一個(gè)第一基板上繪制密封圖案。
      根據(jù)本發(fā)明的另一種液晶顯示屏板生產(chǎn)方法是一種用于生產(chǎn)液晶顯 示屏板的方法,該液晶顯示屏板包括第一基板、第二基板和置于第一基 板和第二基板之間的液晶層,所述液晶顯示屏板具有顯示區(qū)域和圍繞顯 示區(qū)域的非顯示區(qū)域,所述方法包括以下步驟(A)提供第一基板或包 含第一基板的第一母基板,以及第二基板或包含第二基板的第二母基 板,其中第一基板包括在更接近顯示區(qū)域的端部設(shè)置在非顯示區(qū)域內(nèi)的
      第一光屏蔽層,第一光屏蔽層包括接近第一光屏蔽層的外部邊界設(shè)置的 至少一個(gè)透光部分,所述至少一個(gè)透光部分包括凹部或開口;(B)利用
      包含可光致固化樹脂的密封劑在第二基板上繪制密封圖案,其中當(dāng)?shù)诙?基板連接到第一基板時(shí),第二基板上繪制的所述密封圖案將位于第一基 板的第一光屏蔽層外部的區(qū)域中,并且密封圖案被繪制為圍繞顯示區(qū)
      域,所述繪制密封圖案包括下述子步驟(Bl)在接近對(duì)應(yīng)于第一基板 的透光部分的位置開始密封劑的涂覆,(B2)沿對(duì)應(yīng)于第一基板的第一 光屏蔽層的外周的區(qū)域涂覆密封劑;和(B3)形成與己經(jīng)接近對(duì)應(yīng)于透 光部分的位置涂覆的密封劑的連接部分;(C)在密封劑圍繞的顯示區(qū)域 內(nèi)涂覆液晶材料;(D)將第一基板和第二基板連接在一起,而液晶材料 置于它們之間;以及(E)在步驟(D)之后,從第一基板側(cè)進(jìn)行光輻 射,以固化密封劑。
      在一種實(shí)施方式中,第一基板具有矩形形狀;所述至少一個(gè)透光部分 包括至少沿矩形形狀的邊設(shè)置的透光部分;以及所述連接部分形成在對(duì) 應(yīng)于沿矩形形狀的所述邊設(shè)置的透光部分的位置處。
      在一種實(shí)施方式中,所述至少一個(gè)透光部分包括沿矩形形狀的邊設(shè)置 的兩個(gè)或更多個(gè)透光部分;以及所述連接部分形成在對(duì)應(yīng)于沿矩形形狀 的所述邊形成的兩個(gè)或更多個(gè)透光部分中的每一個(gè)的位置處。在一種實(shí)施方式中,所述至少一個(gè)透光部分還包括設(shè)置在矩形形狀的 角部的透光部分。
      在一種實(shí)施方式中,第二母基板包括多個(gè)第二基板,所述方法包括: 第一繪制步驟,其中通過接近對(duì)應(yīng)于第一基板的兩個(gè)或更多個(gè)透光部分 中的一個(gè)的位置開始密封劑的涂覆,沿對(duì)應(yīng)于第一光屏蔽層的外周的區(qū) 域涂覆密封劑,以及接近對(duì)應(yīng)于兩個(gè)或更多個(gè)透光部分中的另一個(gè)的位 置結(jié)束密封劑的涂覆,而在多個(gè)第二基板中的一個(gè)上繪制密封圖案;第 二繪制步驟,其中通過接近對(duì)應(yīng)于第一基板的兩個(gè)或更多個(gè)透光部分中 的一個(gè)的位置開始密封劑的涂覆,沿對(duì)應(yīng)于第一光屏蔽層的外周的區(qū)域 涂覆密封劑,以及接近對(duì)應(yīng)于兩個(gè)或更多個(gè)透光部分中的另一個(gè)的位置 結(jié)束密封劑的涂覆,而在多個(gè)第二基板的另一個(gè)上繪制密封圖案;第三 繪制步驟在第一繪制步驟之后,通過開始密封劑的涂覆,以便形成與 已經(jīng)接近對(duì)應(yīng)于第一基板的一個(gè)透光部分的位置或?qū)?yīng)于另一個(gè)透光部 分的位置涂覆的密封劑的連接部分,從而在所述一個(gè)第二基板上繪制密 封圖案;以及第四繪制步驟,其中在第二繪制步驟之后,通過開始密封 劑的涂覆,以便形成與己經(jīng)接近對(duì)應(yīng)于第一基板的一個(gè)透光部分的位置 或?qū)?yīng)于另一個(gè)透光部分的位置涂覆的密封劑的連接部分,從而在所述 另一個(gè)第二基板上繪制密封圖案。
      在一種實(shí)施方式中,液晶顯示屏板具有在非顯示區(qū)域內(nèi)的寬間隙區(qū) 域,所述寬間隙區(qū)域是其中第一基板和第二基板之間的間隙局部增加的 區(qū)域,所述寬間隙區(qū)域包括在第一基板或第二基板的表面中的凹陷;以 及所述至少一個(gè)透光部分包括接近寬間隙區(qū)域設(shè)置的透光部分。
      在一種實(shí)施方式中,所述液晶顯示屏板生產(chǎn)方法還包括如下步驟將包 含可光致固化樹脂的轉(zhuǎn)移材料涂覆到第一基板或第二基板,形成用于在 第一基板和第二基板之間建立電連接的轉(zhuǎn)移部分,其中轉(zhuǎn)移材料涂覆在 所述凹陷中。
      在一種實(shí)施方式中,所述液晶顯示屏板生產(chǎn)方法還包括如下步驟將包 含可光致固化樹脂的轉(zhuǎn)移材料涂覆到第一基板或第二基板,形成用于在 第一基板和第二基板之間建立電連接的轉(zhuǎn)移部分,其中轉(zhuǎn)移材料涂覆在 第一基板上、接近至少一個(gè)透光部分的位置處,或第二基板上、對(duì)應(yīng)于第一基板的透光部分的位置附近。
      在一種實(shí)施方式中,步驟(E)包括通過光輻射固化轉(zhuǎn)移材料的子步 驟。 .— — ——
      在一種實(shí)施方式中,轉(zhuǎn)移部分形成為至少部分與密封圖案交疊。
      在一種實(shí)施方式中,第二基板包括至少一個(gè)在非顯示區(qū)域內(nèi)的第二光 屏蔽層,所述至少一個(gè)第二光屏蔽層設(shè)置在對(duì)應(yīng)于第一基板的所述至少 一個(gè)透光部分的區(qū)域內(nèi)。
      在一種實(shí)施方式中,第二基板包括源極總線和柵極總線;以及所述至 少一個(gè)第二光屏蔽層包括與源極總線或柵極總線的導(dǎo)電層相同的導(dǎo)電 層。
      在一種實(shí)施方式中,所述至少一個(gè)透光部分包括多個(gè)凹部或開口,所 述第二光屏蔽層還包括對(duì)應(yīng)于所述多個(gè)凹部或開口之間的間隙或多個(gè)凹 部或開口的鄰域設(shè)置的透光部分,所述方法還包括在步驟(D)之 后,從第二基板側(cè)執(zhí)行光輻射的步驟。
      根據(jù)本發(fā)明的又一種液晶顯示屏板生產(chǎn)方法是一種用于生產(chǎn)液晶顯 示屏板的方法,該液晶顯示屏板包括第一基板、第二基板和置于第一基 板和第二基板之間的液晶層,所述液晶顯示屏板具有顯示區(qū)域,圍繞顯 示區(qū)域的非顯示區(qū)域,以及非顯示區(qū)域內(nèi)的寬間隙區(qū)域,所述寬間隙區(qū) 域是其中第一基板和第二基板之間的間隙局部增加的區(qū)域,所述寬間隙 區(qū)域包括在第一基板或第二基板的表面中的凹陷,所述方法包括以下步 驟(A)提供第一基板或包含第一基板的第一母基板,以及第二基板或 包含第二基板的第二母基板,其中第一基板包括在更接近顯示區(qū)域的端 部設(shè)置在非顯示區(qū)域內(nèi)的第一光屏蔽層;(B)利用包含可光致固化樹脂 的密封劑繪制密封圖案,所述密封圖案被繪制在具有凹陷的第一基板的 第一光屏蔽層外部,或所述密封圖案被繪制在當(dāng)具有凹陷的第二基板連 接到第一基板時(shí)將位于第一基板的第一光屏蔽層外部的第二基板的區(qū)域 內(nèi),所述密封圖案繪制為圍繞顯示區(qū)域,繪制密封圖案包括下面的子步 驟(Bl)接近第一基板或第二基板的凹陷開始密封劑的涂覆,(B2) 沿第一基板的第一光屏蔽層的外周,或沿對(duì)應(yīng)于第一基板的第一光屏蔽 層外周的第二基板上的區(qū)域涂覆密封劑;以及(B3)形成與己經(jīng)接近凹陷涂覆的密封劑的連接部分;(C)在密封劑圍繞的顯示區(qū)域內(nèi)涂覆液晶 材料;(D)將第一基板和第二基板連接在一起,而液晶材料置于它們之 間;以及(E)在步驟(D)之后,進(jìn)行光輻射,以固化密封劑。
      根據(jù)本發(fā)明的再一種液晶顯示屏板生產(chǎn)方法是一種用于生產(chǎn)液晶顯 示屏板的方法,該液晶顯示屏板包括第一基板、第二基板和置于第一基 板和第二基板之間的液晶層,所述液晶顯示屏板具有顯示區(qū)域,圍繞顯 示區(qū)域的非顯示區(qū)域,以及在非顯示區(qū)域內(nèi)的寬間隙區(qū)域,所述寬間隙 區(qū)域是其中第一基板和第二基板之間的間隙局部增加的區(qū)域,所述寬間 隙區(qū)域包括在第一基板或第二基板的表面中的凹陷,所述方法包括以下 步驟(A)提供第一基板或包含第一基板的第一母基板,以及第二基板 或包含第二基板的第二母基板,其中第一基板包括在更接近顯示區(qū)域的 端部設(shè)置在非顯示區(qū)域內(nèi)的第一光屏蔽層;(B)利用包含可光致固化樹 脂的密封劑繪制密封圖案,所述密封圖案被繪制在具有凹陷的第一基板 的第一光屏蔽層外部,或所述密封圖案被繪制在當(dāng)具有凹陷的第二基板 連接到第一基板時(shí)將位于第一基板的第一光屏蔽層外部的第二基板的區(qū) 域內(nèi),所述密封圖案繪制為圍繞顯示區(qū)域;(B')將包含可光致固化樹脂 的轉(zhuǎn)移材料涂覆到第一基板或第二基板,形成用于在第一基板和第二基 板之間建立電連接的轉(zhuǎn)移部分,轉(zhuǎn)移材料涂覆在凹陷中;(C)在密封劑 圍繞的顯示區(qū)域內(nèi)涂覆液晶材料;(D)將第一基板和第二基板連接在一 起,而液晶材料置于它們之間;以及(E)在步驟(D)之后,進(jìn)行光輻 射,以固化密封劑。
      在一種實(shí)施方式中,步驟(B)包括子步驟(Bl):從第一基板或第二 基板的凹陷開始涂覆密封劑。
      在一種實(shí)施方式中,所述的液晶顯示屏板生產(chǎn)方法還包括形成凹陷的步 驟,其中形成凹陷的步驟包括子步驟在正型或負(fù)型的光敏樹脂層中形 成通孔或孔。
      在一種實(shí)施方式中,所述的液晶顯示屏板生產(chǎn)方法還包括形成凹陷的步 驟,其中形成凹陷的步驟包括子步驟通過利用半曝光技術(shù)在光敏樹脂 層中形成孔。
      在一種實(shí)施方式中,第一基板包括顯示區(qū)域中的濾色片。根據(jù)本發(fā)明的一種液晶顯示屏板是一種液晶顯示屏板,包括第一基 板、第二基板、置于第一基板和第二基板之間的液晶層,以及圍繞液晶 層的密封部分,所述液晶顯示屏板具有顯示區(qū)域和圍繞顯示區(qū)域的非顯 示區(qū)域,其中,第一基板包括在更接近顯示區(qū)域的端部設(shè)置在非顯示區(qū) 域內(nèi)的第一光屏蔽層,第一光屏蔽層包括接近第一光屏蔽層的外部邊界 設(shè)置的至少一個(gè)透光部分,所述至少一個(gè)透光部分包括凹部或開口;以 及密封部分在所述至少一個(gè)透光部分處具有加寬的寬度。
      根據(jù)本發(fā)明的另一種液晶顯示屏板是一種液晶顯示屏板,包括第一 基板、第二基板和置于第一基板和第二基板之間的液晶層,圍繞液晶層 的密封部分,以及用于在第一基板和第二基板之間建立電連接的轉(zhuǎn)移部 分,所述液晶顯示屏板具有顯示區(qū)域和圍繞顯示區(qū)域的非顯示區(qū)域,其 中,第一基板包括在更接近顯示區(qū)域的端部設(shè)置在非顯示區(qū)域內(nèi)的第一 光屏蔽層,第一光屏蔽層包括接近第一光屏蔽層的外部邊界設(shè)置的至少
      一個(gè)透光部分,所述至少一個(gè)透光部分包括凹部或開口;至少轉(zhuǎn)移部分
      的一部分設(shè)置在所述至少一個(gè)透光部分中。
      在一種實(shí)施方式中,第一基板包括在顯示區(qū)域內(nèi)的濾色片。 在一種實(shí)施方式中,第二基板包括在非顯示區(qū)域內(nèi)的至少一個(gè)第二光
      屏蔽層,所述至少一個(gè)第二光屏蔽層設(shè)置在對(duì)應(yīng)于所述第一基板的至少
      一個(gè)透光部分的區(qū)域中。
      在一種實(shí)施方式中,第二基板包括源極總線和柵極總線;以及所述至
      少一個(gè)第二光屏蔽層包括與源極總線或柵極總線的導(dǎo)電層相同的導(dǎo)電層。
      在一種實(shí)施方式中,所述至少一個(gè)透光部分包括狹縫狀的凹部或開 口;以及所述至少一個(gè)第二光屏蔽層包括多個(gè)光屏蔽部分,所述多個(gè)光 屏蔽部分設(shè)置為與狹縫狀凹部或開口相對(duì)。
      根據(jù)本發(fā)明的又一種液晶顯示屏板是一種液晶顯示屏板,包括第一 基板、第二基板,置于第一基板和第二基板之間的液晶層,圍繞液晶層 的密封部分,以及用于在第一基板和第二基板之間建立電連接的轉(zhuǎn)移部 分,所述液晶顯示屏板具有顯示區(qū)域和圍繞顯示區(qū)域的非顯示區(qū)域,其 中,所述液晶顯示屏板包括在非顯示區(qū)域內(nèi)的寬間隙區(qū)域,所述寬間隙區(qū)域是其中第一基板和第二基板之間的間隙局部增加的區(qū)域,所述寬間 隙區(qū)域包括在第一基板或第二基板的表面中的凹陷;轉(zhuǎn)移部分設(shè)置在凹 陷中。
      根據(jù)本發(fā)明的再一種液晶顯示屏板是一種液晶顯示屏板,包括第一 基板、第二基板,置于第一基板和第二基板之間的液晶層,以及圍繞液 晶層的密封部分,所述液晶顯示屏板具有顯示區(qū)域和圍繞顯示區(qū)域的非 顯示區(qū)域,其中,所述液晶顯示屏板包括在非顯示區(qū)域內(nèi)的寬間隙區(qū) 域,所述寬間隙區(qū)域是其中第一基板和第二基板之間的間隙局部增加的
      區(qū)域,所述寬間隙區(qū)域包括在第一基板或第二基板的表面中的凹陷;以
      及密封部分的一部分設(shè)置在凹陷中。
      在一種實(shí)施方式中,凹陷包括形成在正型或負(fù)型的光敏樹脂層中通孔 或孔。
      根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示屏板生產(chǎn)方法,使用包括光屏蔽層的基板, 所述基板具有在變成密封劑的連接部分的位置的透光部分(凹部或開 口),而從該基板的側(cè)面進(jìn)行光輻射。結(jié)果,防止在連接部分的不充分 的密封劑固化。此外,通過在密封劑的寬度可能變寬的角部或轉(zhuǎn)移部分 (例如公用轉(zhuǎn)移部分)提供透光部分,也能夠防止在這種角部或轉(zhuǎn)移區(qū) 域的密封劑固化失效。因此,由于透光部分僅僅設(shè)置在光屏蔽層的、密 封圖案的寬度預(yù)期變寬的部分中,因此非顯示區(qū)域的寬度能夠保持較 窄。此外,通過在另一個(gè)基板上(在與透光部分設(shè)置在第一基板上的位 置相對(duì)的位置處)提供光屏蔽層,將不會(huì)損害光屏蔽層的原始用途,即 防止光泄露。
      由于不必在液晶顯示屏板的外部形成密封部分,因此防止了在母基 板切割期間的失效。此外,通過在液晶顯示屏板中提供兩個(gè)或更多個(gè)連 接部分,相對(duì)于密封部分的繪制順序獲得了增加的自由度,并且/或者可 利用多個(gè)分配器執(zhí)行同時(shí)繪制,由此可降低密封繪制處理的生產(chǎn)間歇時(shí) 間。通過在密封圖案中提供兩個(gè)或更多個(gè)連接部分,可以利用相對(duì)小的 密封圖案繪制裝置在大尺寸液晶顯示屏板上執(zhí)行密封圖案的繪制,由此 能夠抑制生產(chǎn)成本的增加。
      通過將濾色片基板用作上述基板,能夠降低由于UV產(chǎn)生的對(duì)于TFT的損壞。此外,可以省去用于在光輻射處理中保護(hù)TFT的掩膜。通 過也從TFT基板側(cè)進(jìn)行光輻射,能夠降低固化所需要的輻射時(shí)間。
      根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示屏板生產(chǎn)方法,凹陷設(shè)置在基板的表面中、 密封預(yù)期具有加寬的寬度的部分處(例如,密封連接部分或轉(zhuǎn)移部 分),凹陷限定了具有較大的基板之間的間隙的區(qū)域。結(jié)果,密封圖案 寬度的增加能夠自身被抑制。通過與上述透光部分一起采用這種凹陷, 可以獲得兩種效果。 一
      本發(fā)明的其它特征、元件、過程、步驟、特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)從下面結(jié)合附 圖對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例的詳細(xì)描述而變得更清楚。


      圖1A、 1B、 1C和1D是描述根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液晶顯示屏板中的密封連 接部分的結(jié)構(gòu)的示意圖。
      圖2是用于描述獲得六個(gè)濾色片基板的CF母基板的密封繪制過程的示意圖。
      圖3A和犯是描述在根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液晶顯示屏板的角部的密封的結(jié) 構(gòu)的示意圖。
      圖4是描述典型液晶顯示屏取的平面圖。
      圖5A至5C是描述在沿其上未設(shè)置信號(hào)線端子部分的邊設(shè)置透光部分的情 況下的艦蔽層的示例性結(jié)構(gòu)的示意圖。圖5A是平面圖;圖5B是沿圖5A中 的線5B-5B'的剖視圖;以及圖5C是沿圖5A中的線5C-5C的剖視圖。
      圖6A至6C是描述在沿其上未設(shè)置信號(hào)線端子部分的邊設(shè)置透光部分的情 況下的光屏蔽層的另一示例性結(jié)構(gòu)的示意圖。圖6A是平面圖;圖6B是沿圖 6A中的線6B-6B'的剖視圖;以及圖6C是沿圖6A中的線6C-6C的剖視圖。
      圖7A至7C是描述在沿其上未設(shè)置信號(hào)線端子部分的邊設(shè)置透光部分的情 況下的光屏蔽層的又一示例性結(jié)構(gòu)的示意圖。圖7A是平面圖;圖7B是沿圖 7A中的線7B-7B'的剖視圖;以及圖7C是沿圖7A中的線7C-7C的剖視圖。
      圖8A至8D是描述在沿液晶顯示屏板的短邊SE1 應(yīng)于柵極總線端子部 分GB1的區(qū)域中設(shè)置透光部分的情況下的光屏蔽層的示例性結(jié)構(gòu)的示意圖。圖 8A是平面圖;圖8B是沿圖8A中的線8B-8B'的剖視圖;圖8C是沿圖8A中的線8C-8C的剖視亂以及圖8D是沿圖8A中的線8D-8D'的剖視圖9A至9D是描述在沿液晶顯示屏板的短邊SE1 應(yīng)于柵極總線端子部 分GB1的區(qū)域中設(shè)置透光部分的情況下的光屏蔽層的另一示例性結(jié)構(gòu)的示意 圖。圖9A是平面圖;圖9B是沿圖9A中的線9B-9B'的剖視亂圖9C是沿圖 9A中的線9C-9C'的剖視圖;以及圖9D是沿圖9A中的線9D-9D'的剖視圖。
      圖10A至10C是描述在沿液晶顯示屏板的短邊SE1在對(duì)應(yīng)于柵極總線端子 部分GB1的區(qū)域中設(shè)置透光部分的情況下的光屏蔽層的又一示例性結(jié)構(gòu)的示意 圖。圖10A是平面圖;圖10B是沿圖10A中的線IOB-IOB'的剖視圖;圖10C 是沿圖10A中的線10C-10C'的剖視圖。
      圖11A至11D是描述在沿液晶顯示屏板的^iiLEl 應(yīng)于源極總線端子 部分SB1的區(qū)域中設(shè)置透光部分的情況下的光屏蔽層的示例性結(jié)構(gòu)的示意圖。 圖11A是平面圖;圖11B是沿圖11A中的線11B-11B怖剖視圖;圖11C是沿圖 11A中的線11C-11C的剖視圖;以及圖11D是沿圖11A中的線11D-11D怖剖視 圖。
      圖12A至12D是描述在沿液晶顯示屏板的^iiLEl W"應(yīng)于源極總線端子 部分SB1的區(qū)域中設(shè)置透光部分的情況下的光屏蔽層的另一示例性結(jié)構(gòu)的示意 圖。圖12A是平面圖;圖12B是沿圖12A中的線12B-12B怖剖視圖;圖12C 是沿圖12A中的線12C-12C的剖視圖;以及圖12D是沿圖12A中的線12D-12D怖剖視圖。
      圖13A至13C是描述在沿液晶顯示屏板的^iiLEl S^應(yīng)于源極總線端子 部分SB1的區(qū)域中設(shè)置透光部分的情況下的光屏蔽層的又一示例性結(jié)構(gòu)的示意 圖。圖13A辨面圖;圖13B是沿圖13A中的線13B-13B'的剖視圖;圖13C 是沿圖13A中的線13C-13C的剖視圖。
      圖14是描述在根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液晶顯示屏板中密封部分32和包括凹 部22a的光屏蔽層22的示意圖。
      圖15A和15B是用于描,常釆用的液晶顯示屏板布置的示意平面圖。
      圖16A、 16B、 16C和16D是描述傳統(tǒng)的共用轉(zhuǎn)移部分的結(jié)構(gòu)的示意平面圖。
      圖17A和17B是描述根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液晶顯示屏板中的共用轉(zhuǎn)移部分 的結(jié)構(gòu)的示意平面圖。圖18A、 18B、 18C和18D是每一個(gè)都描述根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液晶顯示屏
      板中的共用轉(zhuǎn)移部分的結(jié)構(gòu)的示意圖。
      圖19A、 19B、 19C和19D是每一個(gè)都描述根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的液晶顯
      示屏板中的共用轉(zhuǎn)移部分的結(jié)構(gòu)的示意圖。
      圖20是描述樹脂層61的厚度(通 L 61a的深度)和降低密封部分32的寬
      度的效果t間的關(guān)系的曲線。
      圖21是描述用于滴下式注入技術(shù)中的密封圖案的特性的示意圖。
      圖22A和22B是描述密封連接部分的附近的放大視圖。圖22A是平面圖,
      而圖22B是剖視圖。
      圖23是描述傳統(tǒng)密封圖案的例子的示意圖。
      圖24是描述傳統(tǒng)密封圖案的另一個(gè)例子的示意圖。
      圖25A和25B是用于說明傳統(tǒng)密封圖案的問題的示意圖。
      圖26A和26B是用于說明傳統(tǒng)密封圖案的另一問題的示意圖。
      具體實(shí)施例方式
      下面將參照附圖描述根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液晶顯示屏板和生產(chǎn)該液晶顯示 屏板的方法。
      如圖1A和1B中所示,根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液晶顯示屏板包括TFT基板 10,濾色片基板20,設(shè)置在TFT基板10和濾色片基板20之間的液晶層40,以 及圍繞液晶層40的密封部分32。液晶顯示屏板具有顯示區(qū)域和圍繞顯示部分的 非顯示區(qū)域。濾色片基板20具有第一光屏,22A,該第一,,22A在更 接近顯示區(qū)域的端部設(shè)置在非顯示區(qū)域內(nèi)。第一光屏蔽層22A具有接形卜邊緣 設(shè)置的凹部(透光部分)22a。密封部分32的寬度被允許在,蔽層22A的凹 部22a變得更寬。假定光屏,22A的凹部22a具有充分的寬度和長(zhǎng)度,如果 連接部分32b形成在凹部22a內(nèi),即使當(dāng)連接部分32b具有增加的寬度連接部 分32b也不與光屏蔽22A交疊。因此,如圖1B中戶標(biāo),即^M濾色片繊20 的后面?zhèn)冗M(jìn)行UV輻射密封劑也能夠充分固化。
      注意密封劑不限于可UV固化的樹脂,可以是用任何波長(zhǎng)的光(例如可見 光)固化的樹脂,并且各種可光致固化的樹脂可適用。這里所使用可光致固化 樹脂指其響應(yīng)于預(yù)定波長(zhǎng)的光的輻射進(jìn)行固化反應(yīng)的任何樹脂,并且包括在光固化之后能夠?qū)ζ溥M(jìn)一步進(jìn)行熱固定的任何樹脂。通過這種熱固定的輔助使 用,固化的物質(zhì)的物理特性(例如硬度和彈性模量)通常被提高。此外,用于 將散射能力賦予密封劑的顆粒(填充物)可以與可光致固化樹脂一起混合到密 封劑。顆粒分散其中的密封劑將引起光的散射或漫反射,因此允許光透過密封 劑的更寬區(qū)域。
      圖1A中所示的濾色片基阪20的光屏蔽層22A被示出為具有在連接部分 32b的旨長(zhǎng)度延伸的單個(gè)凹部22a。代替這種凹部22a,只要凹部允許密封劑 用光充分輻射,可以使用任何其它凹部。例如,如圖1C中所示的光屏蔽層22B 的示例,多個(gè)微小凹部22b可以以帶狀設(shè)置。作為選擇,如圖1D中所示的光屏 蔽層22C的示例,可以設(shè)置多個(gè)微小開口 (?L)22c。依凹部或開口,用于允許 密封劑接受光輻射的透光部分不需要形成有恒定的寬度,而是可以具有變化的 寬度,以根據(jù)需要容納連接部分32的擴(kuò)展的寬度。在體如圖1C或1D中所 示的凹部22b或開口 22c的情況下,密封劑比采用圖1A中所示的凹部22a的情 況更難于接受光輻射。因此,在這種情況下,優(yōu)選方式是采用不僅允許光以直 角入射到基板而且能夠通過反射鏡等弓l入一定的輻射角的類型的光輻射裝置, ^用具有Mf能力(漫反射特性)的密封劑。
      在最后的液晶顯示屏板中,顯示質(zhì)量可能由于已經(jīng)穿過設(shè)置在光屏蔽層 22A中的凹部22a的光而降級(jí)。因此, 方式是,在與凹部22a相對(duì)的位置 設(shè)置另一個(gè)光屏,。盡管可能在濾色片20的夕剛(即更接慰見察者的一側(cè)) 連接光屏蔽帶等,但是這種設(shè)置不是優(yōu)選的,因?yàn)閷⒃黾由a(chǎn)步驟的數(shù)量,可 能發(fā)生定位問題,并且當(dāng)液晶顯示屏板安裝在殼體內(nèi)時(shí)可能發(fā)生高度不同。因 此,如后面將在具體例子中戶腿,雌方式是,在TFT繊10i^t應(yīng)的位置設(shè) 置光屏re。在這種情況下,M31利用與在TFT ±設(shè)置的源極總線和/或柵 極總線的導(dǎo)電層相同的導(dǎo)電層形成光屏蔽層,可形成光屏蔽層且不增加步驟數(shù)
      通過采用上述結(jié)構(gòu),即使密封連接部分形成在液晶顯示屏板內(nèi)也可允許密 封劑充分固化,而不會(huì)使生產(chǎn)步驟復(fù)雜。還可有效地防止光從設(shè)置在濾色片基 板的光屏蔽層中的透光部分泄露。因?yàn)楣廨椛鋸臑V色片基板側(cè)進(jìn)行,因此至少 當(dāng)M:濾色片時(shí)輻射TFT的光被削弱,從而能夠斷氏由用于TFT的光輻射造成 的損壞。在可只用濾色片獲得充分削弱的情況下,不必采用用于防止TFT受到光輻射的掩膜,由《—步提高了生產(chǎn)效率。
      其次,將參照?qǐng)D2描述根據(jù)本發(fā)明生產(chǎn)方法的實(shí)施例的液晶顯示屏板。
      圖2是用于描述從其獲得六個(gè)濾色片基板的CF母基板20的密封織lj過程
      的示意圖。如下面所述,根據(jù)本發(fā)明的生產(chǎn)方法的實(shí)施例的液晶顯示屏板的一
      個(gè)優(yōu)點(diǎn)是通過利用多個(gè)連接部分,利用其自身具有相對(duì)窄的可移動(dòng)范圍的分 配器,可獲得大尺寸的液晶顯示屏板。另一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是,通過在液晶顯示屏板內(nèi) 設(shè)置兩個(gè)或更多個(gè)連接部分,相對(duì)于密封圖案的繪制順序獲得增加的自由度, 并_§7或可通過采用多個(gè)分配器同時(shí)繪制密封圖案,由此能夠降低密封繪制過程 的生產(chǎn)間歇時(shí)間。
      對(duì)于從CF母繊20獲得的六個(gè)濾色片SI及20 (Al至A3和Bl至B3)中 的一個(gè)(例如,圖2中的Al),涂敷密封劑可以例如從點(diǎn)Sl開始。因此,點(diǎn) Sl用作密封圖案的開始點(diǎn)。點(diǎn)Sl在濾色片20的凹部22a的附,擇(注意圖 2僅僅示意地描述了凹部22a)。在密封繪制從點(diǎn)Sl開始之后,密封劑沿濾色 片繊20的光屏,22的外周(沿圖2中的實(shí)線)涂敷,并且密封劑涂敷在 另一凹部22a的附近(點(diǎn)S2)結(jié)束。點(diǎn)S2用作密封圖案的結(jié)束點(diǎn)。
      然后,相對(duì)于濾色片基板Al,密封劑涂皿開始點(diǎn)Sl再次開始,并且沿 圖2中的虛線,進(jìn)行密封纟錄IJ,直至噠到結(jié)束點(diǎn)S2。因此,能夠形成圍繞顯示 區(qū)域的密封部分。
      由此,通過采用其中設(shè)置多個(gè)連接部分的結(jié)構(gòu),不需在單個(gè)繪制中圍繞從 開始點(diǎn)Sl到結(jié)束點(diǎn)Sl的旨范圍。因此,即使分配器噴嘴(和/或母 )僅 僅能夠在相對(duì)較窄的可移動(dòng)范圍移動(dòng)也能夠進(jìn)行密封繪制。在可獲得充分的可 移動(dòng)范圍的情況下,當(dāng)然可從例如開始點(diǎn)Sl開始密封繪制,沿濾色片基板20 的光屏親22的外周涂敷密封劑,越過點(diǎn)S2,然后返回到開始點(diǎn)Sl,由此在 點(diǎn)Sl形皿接部分。在這種情況下,僅僅一個(gè)連接部分在開始點(diǎn)Sl形成。
      此外,根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的生產(chǎn)方法,不必在移動(dòng)到另一個(gè)濾色片基板之 ME六個(gè)濾色片基板(Al至A3和Bl至B3)中的一個(gè)上完成旨密封部分 32。例如,對(duì)應(yīng)于實(shí)線的密封圖案可以在濾色片鎌Al至A3的每一個(gè)上同時(shí) 繪制,并且此后和與此同時(shí),對(duì)應(yīng)于實(shí)線的密封圖案可以在濾色片基板Bl至 B3的每一個(gè)上同時(shí)繪制。之后,對(duì)應(yīng)于虛線的密封圖案可以在濾色片基板Al 至A3的每一個(gè)上同時(shí)^f ij,并Bik后或與此同時(shí),對(duì)應(yīng)于虛線的密封圖案可以在濾色片基板B1至B3的每一個(gè)上同時(shí)纟魏U。
      盡管該例子示出了凹部22a設(shè)置在具有矩形形狀的基板的短邊上,但是也 可以將凹部設(shè)置在基板的長(zhǎng)邊上?!送猓€可以將凹部設(shè)置在短邊和長(zhǎng)邊上, 從而形成三個(gè)頓多的連接處。凹部22a (即透光部分)的定位可以根據(jù)分配器 的可移動(dòng)范圍,母 的尺寸和面板在母基板中的定位調(diào)節(jié)。不限于凹部22a, 可以采用如圖1C或1D中所示的凹部22b或開口 22c,或它們的任意混合。由 此,關(guān)于凹部或開口的形狀沒有限制,只要密封劑能用光充分輻射。然而,如 下所述,為了用設(shè)置在TFT基板上的光屏蔽層實(shí)現(xiàn)充分的光屏蔽,優(yōu)選方式 是,優(yōu)化凹部或開口的形狀和定位。
      盡管上述例子示出了對(duì)CF母基板20進(jìn)行密封繪制的情況,但是也可以在 TFT母繊10的對(duì)應(yīng)區(qū)域纟魏嘧封圖案。換句話說,可以纟魏嘧封圖案,從而 當(dāng)濾色片 20和TFT基板10連接在一起時(shí)將形成密封部分32的位置滿足相 對(duì)于濾色片 的光屏蔽層22中的透光部分22 (凹部22a)的,關(guān)系。
      在該實(shí)施例的液晶顯示屏板生產(chǎn)方法中,密封劑的連接部分形成在液晶顯 示屏板的內(nèi)側(cè),并且由此與日本公開專利公布No. 2002-122870中不同,在本發(fā) 明中液晶顯示屏板的夕卜側(cè)不存在密封部分。結(jié)果,當(dāng)TFT母鎌10和CF母基 板20切割自應(yīng)于液晶顯示屏板的塊時(shí)防止切割失敗。即使在信號(hào)線端子部分 將設(shè)置在液晶顯示屏板的三個(gè)或多個(gè)邊上的情況下,也能防止諸如不能移去濾 色片基板的片段的問題。
      注意,諸如凹部22的透光部分優(yōu)選不僅設(shè)置在連接部分而且也設(shè)置在角 部,如圖3A和3B中所示。艦在光屏蔽層22D的角部設(shè)置凹部22d,可以防 止在角部已經(jīng)變厚的密封劑32a'與光屏蔽層22D交疊,從而使密封劑充分固 化。
      盡管連接部分可形成在這種角部,但是從方便檢査連接部分的觀點(diǎn),優(yōu)選 方式是,沿基板的邊(不包括角部)形成任何連接部分。沿邊形成的連接部分 能夠通過利用光技術(shù)檢測(cè)密封部分的寬度而對(duì)合格程度進(jìn)行測(cè)試。換句話說, 如果連接部分沿邊形成能夠容易地檢測(cè)諸如連接部分的不完整(即破裂)或過 薄寬度的失效。
      接下來(lái),將參照?qǐng)D4至13更詳細(xì)地描述根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液晶顯示屏板 的結(jié)構(gòu)。圖4是描述典型液晶顯示屏板的平面圖。液晶顯示屏板包括TFT基板
      10';濾色片基板20;以及用于在IFT基板10鄰濾色片基板20之間實(shí)現(xiàn)粘接的 密封部分32。 TFT繊IO'具有兩個(gè)頓LEI和LE2,以及兩個(gè)短邊SEl和 SE2。在所示的例子中,微LE1和短邊SE1在濾色片S^反20的夕卜側(cè)延伸;源 極總線端子部分SBl設(shè)置在長(zhǎng)邊LEI上;而柵極總線端子部分GBl設(shè)置在短 邊SEl上。因此,在這些信號(hào)總線端子部分SBl和GB1,密封部分32和濾色 片繊20的光屏蔽部分(未示出)與信號(hào)總線交疊。從而,在TFT魏需要具 有對(duì)應(yīng)于設(shè)置在濾色片基板20的光屏蔽層中的透光部分(例如,凹部)的光屏 蔽層的情況下,這種光屏蔽層的優(yōu)選結(jié)構(gòu)將依線(例如,源極總線或柵極總 線)的位置而變化。
      圖4示出了信號(hào)線端子部分設(shè)置在基板的兩個(gè)邊上的例子。作為選擇,本 發(fā)明也可用于信號(hào)線端子部分設(shè)置在三個(gè)邊上的結(jié)構(gòu)(例如,柵極總線端子部 分設(shè)置在兩個(gè)短邊上),或信號(hào)線端子部分設(shè)置在四個(gè)邊上的結(jié)構(gòu)(即柵極總 線端子部分設(shè)置在兩個(gè)iii:而源極總線端子部分設(shè)置在其它兩個(gè)邊上)。
      首先,將參照?qǐng)D5A、 5B、 5C、 6A、 6B、 6C、 7A、 7B和7C描述沿其上未 設(shè)置信號(hào)線端子部分的邊(SE2或LE2)設(shè)置透光部分的情況下的光屏蔽層的 示例性結(jié)構(gòu)。圖5A至5C是描述在沿其上未設(shè)置信號(hào)線端子部分的邊設(shè)置透光 部分的情況下的艦蔽層的示例性結(jié)構(gòu)的示意圖。圖5A是平面圖;圖5B是沿 圖5A中的線5B-5B'的剖視圖;以及圖5C是沿圖5A中的線5C-5C'的剖視圖。 圖6A至6C是描述另一示例性結(jié)構(gòu)的示意圖。圖6A是平面圖;圖6B是沿圖 6A中的線6B-6B'的剖視圖;以及圖6C是沿圖6A中的線6C-6C'的剖視圖。圖 7A至7C是描述又一示例性結(jié)構(gòu)的示意圖。圖7A是平面圖;圖7B是沿圖7A 中的線7B-7B'的剖視圖;以及圖7C是沿圖7A中的線7C-7C的剖視圖。
      圖5A至5C描述了在將形成密封連接部分32b的位置設(shè)置凹部22a的情 況。圖6A至6C描述了在這種位置設(shè)置多個(gè)凹部22b的情況。圖7A至7C描 述了在這種位置設(shè)置多個(gè)凹部22b'和多個(gè)開口22c'的情況。在任一種情況下,在 對(duì)應(yīng)于濾色片鎌的光屏,22中的透光部分(22a、 22b、 22b'、 22c')的TFT 基板10的區(qū)域內(nèi)不存在柵極總線端子部分 極總線端子部分。因此,光屏蔽 層12a可以設(shè)置在倒可需要的區(qū)域。11^ 10包括玻璃 11,形^玻璃 基板ll上的柵極總線(未示出),皿柵極總線的柵極絕緣薄膜13,形成在柵極絕緣薄膜上的源極總線(未示出),以及覆蓋源極總線的絕緣保護(hù)薄膜15。
      當(dāng)使構(gòu)成柵極總線的導(dǎo)電層形成圖案時(shí),該圖案形成可以以剩下光屏蔽層12a 完整的方式進(jìn)行,從而使光屏蔽層12a通過形成柵極總線的同一過程形成。通 過采用這種構(gòu)造,可以在TFT基板10上形成光屏蔽層12a,而不增加生產(chǎn)步驟 的數(shù)量。
      在短邊SE2上,存儲(chǔ)電容線的主線用于為存儲(chǔ)電容供給預(yù)定信號(hào),所述存 儲(chǔ)電容為各個(gè)像素設(shè)置,備用線用于修正已斷的任何信號(hào)線的電連接。這種主 線或備用線相對(duì)厚,由此能夠用作光屏蔽層。通常,存儲(chǔ)電容線的主線和備用 線由構(gòu)成柵極總線的相同導(dǎo)電層構(gòu)成,并且由形成柵極總線的同一過程形成。 因此,由于在液晶顯示屏板的短邊存在用于形成光屏蔽層的高的設(shè)計(jì)自由度, 因此 方式是在短邊上形成任何密封連接部分。
      具體而言,艦下面的過程育^制造TFT基板。
      在玻璃基板ii上,ilil利用濺射裝置產(chǎn)生Tn/A]/riN堆疊薄膜。mil諸如光
      亥iJ工藝和Tti亥啲蝕刻工藝,形成柵極總線和柵極電極,并且光屏蔽層12a也 同時(shí)形成。例如,在存儲(chǔ)電容線將與柵極總線等一起同時(shí)形成的情況下,存儲(chǔ) 電容線的主線可以設(shè)置在短邊SE2,由此使得可以利用存儲(chǔ)電容線的主線作為 光屏,12a。
      其次,在這些層上,艦等離子CVD技術(shù)生成氮化硅(SiNx)等柵極絕緣 薄膜13。之后,形成諸如TFT的有源元件。此外,通過利用濺射裝置生成 Ti/Al/TiN堆疊薄膜,并且m諸如光亥l江藝和TM啲蝕刻工藝,形M極總 線和漏電極。
      然后,通過旋涂技術(shù)等形成諸如透明樹脂的絕緣保護(hù)薄膜15。在絕緣保護(hù) 薄膜15中,制造用于在其上將形成的像素電極與漏電極之間建立接觸的接觸 孔,并且制造用于形成存儲(chǔ)電容的通 L。在絕緣^J戶薄膜15上,通處M生成 透明電極(例如,no),并且M31光亥lJ工藝和t駭iJ工藝形成像素電極。
      例如,濾色片 可以如下制造。
      通過干式薄膜技術(shù)、旋涂技術(shù)、噴墨技術(shù)等,光屏蔽層形成在對(duì)應(yīng)于RGB (紅、綠、藍(lán))的濾色片的玻璃基板21的區(qū)域以及其它必要的區(qū)域內(nèi),RGB (紅、綠、藍(lán))的濾色片與IFT織的像素對(duì)應(yīng)。由于光屏蔽層il31利用黑色 可光致固化樹脂形成,因此透光部分(凹部和減開口)會(huì)巨夠在形成圖案期間通過相同的工藝形成。
      其次,將參照?qǐng)D8A、 8B、 8C、 8D、 9A、 9B、 9C、 9D、 IOA、 IOB、 10C
      描述在沿短邊SE1在對(duì)應(yīng)于柵極總線端子部分GB1的區(qū)域中設(shè)置透光部分的情 況下的光屏蔽層的示例性結(jié)構(gòu)。圖8A至8C是描述在沿短邊SE1在對(duì)應(yīng)于柵極 總線端子部分GB1的區(qū)域中將設(shè)置透光部分的情況下的光屏蔽層的示例性結(jié)構(gòu) 的示意圖。圖8A是平面圖;圖8B是沿圖8A中的線8B-8B'的剖視圖;圖8C 是沿圖8A中的線8C-8C怖剖視圖;以及圖8D是沿圖8A中的線8D-8D怖剖視 圖。圖9A至9C是描述另一示例性結(jié)構(gòu)的示意圖。圖9A是平面圖;圖9B是 沿圖9A中的線9B-9B'的剖視亂圖9C是沿圖9A中的線9C-9C'的剖視圖;以 及圖9D是沿圖9A中的線9D-9D怖剖視圖。圖10A至10C是描述又一示例性 結(jié)構(gòu)的示意圖。圖10A是平面圖;圖10B是沿圖10A中的線IOB-IOB'的剖視 圖;圖10C是沿圖10A中的線IOC-IOC的剖視圖。
      柵極總線12b形成在TFT基板10的玻璃 上。柵極總線12b用作光屏蔽 層。然而,在形成如圖8A所示的凹部22a的情況下,光將在柵極總線12b之間 穿過。因此,如圖8D所示,與源極總線在同一層高度中的導(dǎo)電層14a用于形成 用于確保在柵極總線12b之間的空隙中光屏蔽的光屏蔽部分14a??梢砸耘c柵極 總線12b交疊的單^屏蔽層的形式構(gòu)造光屏蔽部分14a和倒可其間的空隙9 然而,在這種離,3I31柵極絕緣薄膜13與柵極總線交疊的情況下,可能由 于異物等出現(xiàn)絕緣不充分的問題,在一些情況下,在柵極總線之間可能發(fā)生短 路。因此,從產(chǎn)量的觀點(diǎn),,方式是,形成對(duì)應(yīng)于柵極總線12b之間的空隙 的離散光屏蔽部分14a,因此在產(chǎn)生的光屏蔽層和柵極總線12b之間沒有交疊。
      如圖9A中所示,多個(gè)凹部22b可以設(shè)置為與柵極總線12b相對(duì)。在這種情 況下,單獨(dú)用柵極總線12b能夠?qū)崿F(xiàn)充分的光屏蔽,由此提供簡(jiǎn)化的結(jié)構(gòu)的優(yōu) 點(diǎn)。
      如圖10A中所示,可以設(shè)置多個(gè)凹部22b鄰多個(gè)開口 22c'并且開口 22c'與柵 極總線12b相對(duì),并且光屏,14a可以設(shè)置為與凹部22b對(duì)應(yīng)。結(jié)果,穿過 透光部分的光能夠被屏蔽。
      其次,將參照?qǐng)DIIA、 IIB、 IIC、 IID、 12A、 12B、 12C、 12D、 13A、 13B、 13C描述在沿頓LE1在對(duì)應(yīng)于源極總線端子部分SB1的區(qū)域中將設(shè)置 透光部分的情況下的光屏蔽層的示例性結(jié)構(gòu)。圖IIA至IIC是描述在沿長(zhǎng)邊LEJ在對(duì)應(yīng)于源極總線端子部分SB1的區(qū)域 中將設(shè)置透光部分的情況下的光屏蔽層的示例性結(jié)構(gòu)的示意圖。圖11A是平面 圖;圖11B是沿圖11A中的線11B-11B'的剖視圖;圖11C是沿圖11A—中的線 11C-11C'的剖視圖;以及圖11D是沿圖11A中的線11D-11D'的剖視圖。圖12A 至12C是描述另一示例性結(jié)構(gòu)的示意圖。圖12A是平面圖;圖12B是沿圖12A 中的線12B-12B'的剖視圖;圖12C是沿圖12A中的線12C-12C的剖視圖;以及 圖12D是沿圖12A中的線12D-12D怖剖視圖。圖13A至13C是描述又一示例 性結(jié)構(gòu)的示意圖。圖13A是平面圖;圖13B是沿圖13A中的線13B-13B'的剖視 圖;圖13C是沿圖13A中的線13C-13C的剖視圖。
      源極總線14b形成在TFT基板10的自基板11上。源極總線14b用作光 屏蔽層。然而,在如圖11A所示形成凹部22a的情況下,光將穿過源極總線 14b之間。因此,如圖11D所示,與柵極總線12b在同一層高度中的導(dǎo)電層12a 用于形成用于確保在源極總線14b之間的空隙中光屏蔽的多個(gè)光屏蔽部分12a。 可以以與源極總線14b交疊的單個(gè)光屏蔽層的形式構(gòu)造光屏蔽部分12a和任何 其間的空隙。然而,由于上述原因,從產(chǎn)量的觀點(diǎn),優(yōu)選方式是,形成對(duì)應(yīng)于 源極總線14b之間的空隙的離散光屏蔽部分12a。盡管圖11D示出了光屏蔽部 分12a在柵極絕緣薄膜13之下形成,而源極總線14b形ite柵極絕緣薄膜上的 例子,但是這不是惟一的可能結(jié)構(gòu)。例如,依TFT的形成過程,可以具有下述 情況,有源區(qū)域(顯示區(qū)域)內(nèi)的源極總線在連接到在框架區(qū)域中的源端子部 分之前連接到柵極金屬(即構(gòu)成柵極總線的導(dǎo)電材料),由此通過柵極金屬實(shí) 現(xiàn)源極端子部分中的線。在這種情況下,盡管線14b和,蔽部分12a之間相 對(duì)于柵極絕緣薄膜13的堆疊關(guān)系(即哪一個(gè)線在另一個(gè)iJ:)將與圖11D中所 示的情況相反,但將仍然能夠獲得戰(zhàn)效果。任何其它實(shí)施方式也是這樣。
      如圖12A所示,多個(gè)凹部22b可以設(shè)置為與源極總線14b相對(duì)。在這種情 況下,只用源極總線14b就能夠?qū)崿F(xiàn)充分的光屏蔽,因此提供簡(jiǎn)化的結(jié)構(gòu)的優(yōu) 點(diǎn)。
      如圖13A中所示,可以設(shè)置多個(gè)凹部22b'和多個(gè)開口 22c'并且開口 22c'與源 極總線14b相沐而光屏,12a可以設(shè)置為與凹部22b'對(duì)應(yīng)。結(jié)果,穿M 光部分的光能夠被屏蔽。
      在利用根據(jù)本發(fā)明生產(chǎn)方法的液晶顯示屏板生產(chǎn)17"SXGA型液晶顯示屏板的情況下,例如,下面的結(jié)構(gòu)可以是 的。
      圖14是描述在17"SXGA型液晶顯示屏板中密封部分32和包括凹部22a的 光屏re22的示意圖。
      如圖14中所示,在該例子中采用了具有如圖1中所示的凹部22a的結(jié)構(gòu)。 該液晶顯示屏板與圖4中所示的液晶顯示屏板具有相同的結(jié)構(gòu),凹部22a設(shè)置 在短邊SE2上。設(shè)置在TFT Sl反上的存儲(chǔ)電容的主線被用于凹部22a內(nèi)的光屏
      蔽o
      在光屏蔽層22A的周邊和切割線之間的間隙Ws是2.3 mm。凹部22a的深 度D是0.3 mm,長(zhǎng)度W是10.0 mm。光屏feM 22A的寬度(在除了凹部22a 意外的區(qū)域內(nèi))是大約3mm。下面描述采用這種尺寸的原因。
      曾發(fā)現(xiàn),當(dāng)在使用的特定分配器上設(shè)定1.2 mm的密封寬度(即主伸展32a 的寬度)時(shí),將產(chǎn)4± 0.3 mm的變化。分配器的噴嘴的定位精度f(wàn)e 0.15 mm。 基于母鎌的切割精度確定大約土 0.2 mm的纖部分。因此,基于1.2 mm+0.3 mm+ (0.15 mmx2) +0.2 mm,從光屏,22A的周邊到切割線的間隙Ws必須 是2mm或更大。在該特定的例子中,Ws設(shè)定為23mm。
      密封連接部分32b的寬度具有大約2.1 mm的最大值。其中加上了噴嘴的定 位精度0.15mmx2,并且此外考慮到切割,部分0.2 mm,從光屏蔽層22A的 周,lj在凹部22a的切割線的間隙設(shè)定為2.6 mm。換句話說,凹部22a的"深 度"設(shè)定為0,3跳
      此外,由于任何角部會(huì)比主伸展32厚0.1mm至0.15mm,光屏蔽層在每一 個(gè)角部凹入0.15的"深度",而密封圖案被繪制為在光屏蔽層的周邊和切割線 之間的最小間隙等于2.45,(見圖3A)。
      在液晶顯示屏板的構(gòu)造中,如參照?qǐng)D2已經(jīng)所述,對(duì)CF母基板20執(zhí)行密 封織U。然后,M31已知的方法,液晶材料艦滴下式注入技術(shù)滴落到CF母基 板20上。在TFT母基板10在預(yù)定的皿連接到其上之后,從濾色片 側(cè)執(zhí) 行UV輻射,以固化密封劑。在以幾J/cm2執(zhí)行UV輻射之后ffilil在120°C執(zhí) 行熱固一小時(shí)補(bǔ)充密封劑的固化。
      產(chǎn)生的液晶顯示屏板在切割期間沒有出現(xiàn)切割失效,并且沒有觀察到穩(wěn)定 性的退化,例如由于密封劑的固化失效或方位偏轉(zhuǎn)引起的電壓保持率的降低。 此外,沒有觀察到由于Mil凹部光泄露引起的顯示質(zhì)量斷氐。iM^用涉及將液晶材料滴落到CF母基板20上,連接TFT母基板10和 從下面(即從CF母對(duì)反20偵ij)進(jìn)行光輻射的過程,可以執(zhí)行從密封^f碟恍 輻射的所有步驟,同時(shí)保持CF母SM 20在顯示屏板的下側(cè)(而承載濾色片的 表面朝上),由此使得可以4頓簡(jiǎn)單的體和過程。
      對(duì)于圖1C和ID中所示的圖案,當(dāng)用于固化密封劑的光輻射僅僅從鎌的 一個(gè)的側(cè)面執(zhí)行時(shí),依透光部分的面積比可能延長(zhǎng)實(shí)現(xiàn)充分固化所需要的輻射 時(shí)間(偶爾三倍或更高)。
      另一方面,上述結(jié)構(gòu)的特點(diǎn)是設(shè)置在CF凝及的光屏蔽層中的多個(gè)凹部或開 口,其中源極總線和/或柵極總線等用作選擇性地屏蔽穿過凹部或開口的光的 TFT^I及的光屏蔽層,由此可以也從TFT繊側(cè)進(jìn)行密封齊啲光輻射,因?yàn)楣?被允許穿過源極總線和/或柵極總線之間的間隙。因ltb3I31確保TFT 側(cè)的光 屏蔽層包括對(duì)應(yīng)于在CF基阪的光屏蔽層中的凹部或開口之間或圍繞凹部或開口 的周邊的透光部分,可以從兩個(gè)基板的側(cè)面進(jìn)行密封劑的光輻射。結(jié)果,能夠 斷氐用于密封劑固化所需要的輻射時(shí)間。
      作為用于從顯示屏板的兩側(cè)執(zhí)行光輻射的方法,光源可以簡(jiǎn)單地分別設(shè)置 在顯示屏板之上和之下。作為選擇,用于翻轉(zhuǎn)顯示屏板的機(jī)構(gòu)可以設(shè)置用于所 使用的裝置;在這種情況下,光輻射時(shí)間將是在從顯示屏板的兩側(cè)進(jìn)行輻射的 情況所需要最小輻射時(shí)間的大約兩倍,但將仍然比僅僅從顯示屏板的一側(cè)進(jìn)行 輻射的情況所需要輻射時(shí)間短。 一些密封材料能夠從每一個(gè)開口的邊緣朝向光 屏蔽部分在大約幾十 的距離上光固化,由此優(yōu)選方式是利用這種材料。
      凹部或開口的圖案不限于帶,而可以是如圖1D中所示的網(wǎng)孔圖案。盡管圖 1D描述了由圓形開口組成的網(wǎng)孔陣列,但是開口的形狀不限于圓形,而可以是 例如矩形。圖案的一部分可以形成圓角或包括彎曲。特別是,在光屏蔽由在 TFT基板上的信號(hào)線實(shí)現(xiàn)的情況下,可能信號(hào)線的形狀受到涉及的約束。由 此,iM方式M用開口圖案作為線圖案。
      作為用于封密固化的光輻射裝置,具有采用反射鏡等以使不僅在顯示屏板 的正常方向而且在傾斜方向也能夠進(jìn)行光輻射的已知裝置。通過采用這種能夠 也從傾斜方向進(jìn)行光輻射的裝置,即使在CF基板的光屏蔽層和TFT基板的光 屏蔽層之間具有稍稍的交疊也可以獲得密封劑的充分固化。例如,以及得到實(shí) 驗(yàn)證實(shí),即使具有大約與在基板之間的間隙一樣大的交疊,產(chǎn)生的液晶顯示屏板在與沒有交疊的情況下相同的輻射條件(輻射強(qiáng)度和輻射時(shí)間)下被輻射后 也不展現(xiàn)穩(wěn)定性的顯著差異。
      其次,將描述過渡部分(即在一個(gè)基板上的電極的電位轉(zhuǎn)移到包括用于提 供到外部的連接的端子的另一個(gè)基板上的電極的部分)可能出現(xiàn)的問題。下面 將針對(duì)共用的轉(zhuǎn)移部分描述示例問題,該共用轉(zhuǎn)移部分是構(gòu)成用于將CF ±
      的反電極(也稱為"共用電極")連接到TFT 上的端子的路徑的類型的轉(zhuǎn) 移部分。
      圖15A和15B示意示出了通常采用的TFT液晶顯示屏板布置。圖15B示出 了 TFT液晶顯示屏板的單個(gè)像素的等效電路。
      如圖15B中所示,M31用柵極總線63驅(qū)動(dòng)TFT64,而源極總線62連接到 TFT64,預(yù)定的信號(hào)電壓施加到像素電極65。像素電極65與共用電極66相 對(duì),而液晶層40置于其間,由此構(gòu)成液晶電容(電容器)。當(dāng)信號(hào)電壓通過 TFT64橫跨液晶層40施加時(shí),改變液晶層40的光學(xué)特性,由此顯示屏板用作 顯示器裝置。
      形成在朝向液晶層40的CF 20的表面上的共用電極66具有其il31共 用轉(zhuǎn)移部分60轉(zhuǎn)移到TFT基板10'側(cè)的電位,由]tkii接到共用電極端子66a。 如圖15A中所示,源極總線62a和柵極總線端子63a設(shè)置在TFT基阪IO怖非顯 示區(qū)域中。通常,共用電極端子66a和源極總線62a將設(shè)置在顯示屏板的相同 邊(即四個(gè)邊中的一個(gè)邊)。
      作為構(gòu)成共用轉(zhuǎn)移部分的轉(zhuǎn)移材料,使用包含可光致固化樹脂和導(dǎo)電顆粒 的轉(zhuǎn)移材料。例如,導(dǎo)電顆粒可以是粒度為大約4至10微米的金屬顆?;蚱渖?具有金屬涂層的顆粒狀珠子。作為將包含在轉(zhuǎn)移材料中的可光致固化樹脂,使 用對(duì)以于密封劑中4頓的柳旨的可爐固化樹脂。
      在利用包含可光致固化樹脂的轉(zhuǎn)移材料形成共用轉(zhuǎn)移部分的情況下,框架 區(qū)域需要足夠?qū)?,以提供用于允許共用轉(zhuǎn)移部分用光輻射的透光區(qū)域。由此, 每一個(gè)共用轉(zhuǎn)移部分可以制造為至少部分與密封部分交疊。然而,即使每一個(gè) 共用轉(zhuǎn)移部分將形成在密封部分內(nèi),密封部分的寬度也在密封部分包含共用轉(zhuǎn)
      移部分處變得更厚,再一次導(dǎo)致^:框架區(qū)域的問題。
      下面將參照?qǐng)D16A至16D描述該問題。在上文描述中出現(xiàn)的任何構(gòu)^:件 將由相同的標(biāo)號(hào)表示,并且這里將省略其描述。共用轉(zhuǎn)移部分60設(shè)置在密封部分32的附近,以將CF基板(未示出)上的 反電極(未示出)電連接到TFT基板上的共用墊60a。如圖16D中所示,如果 共用轉(zhuǎn)移部分60設(shè)置在遠(yuǎn)離密封部分32的位置,非顯示區(qū)域(框架區(qū)域)必 須具有較寬的寬度。因此,如圖16A至16C中所示,普通的實(shí)踐是允許共用轉(zhuǎn) 移部分60至少部分與密封部分32交疊。然而,在圖16A至16C中所示的任何 一種情況下,密封劑將由共用轉(zhuǎn)移部分60推出,由此導(dǎo)致密封圖案的寬度加寬 的部分32c (也可稱作"共用轉(zhuǎn)移密封部分")。因此,存在下述問題,即類似 于上^il接部分32b,共用轉(zhuǎn)移密封部分32c的寬度比主伸展32a (例如,見圖 1)的寬度更寬。
      因此,根據(jù)該實(shí)施例,透光部分(凹部或開口)設(shè)置在基板的光屏蔽部分 中,從該 )|,行用于固化共用轉(zhuǎn)移密封部分32c的光輻射。
      圖17A和17B是描述根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液晶顯示屏板中的共用轉(zhuǎn)移部分 的結(jié)構(gòu)的示意圖。圖17A是平面圖;而圖17B是圖17A中沿線17B-17B'的剖視 圖。
      濾色片基板20包括在更接近顯示區(qū)域的端部設(shè)置在非顯示區(qū)域內(nèi)的第一光 屏蔽層22A。第一光屏蔽層22A包括接近外部邊界設(shè)置的凹部(透光部分) 22a。允許密封部分32的寬度在光屏蔽層22A的凹部22a變得更寬。假定光屏 蔽層22A的凹部22a具有充分的寬度和長(zhǎng)度,如果共用轉(zhuǎn)移密封部分32c形成 在凹部22a內(nèi),即使當(dāng)共用轉(zhuǎn)移密封部分32c具有增加的寬度,共用轉(zhuǎn)移密封 部分32c也將不與光屏蔽層22A交疊。因此,如圖17B中所示,即使UV輻射 從濾色片鎌20的后面?zhèn)冗M(jìn)行也能充分固化密封劑。只要密封劑受到充分的光 輻射,透光部分不限于凹部22a。例如,如在圖lC中所示的光屏tt22B中, 可以衛(wèi)共包含多個(gè)微小凹部22b的帶。作為選擇,如在圖1D.中所示的光屏, 22C中,可以設(shè)置多個(gè)微小開口 (?L) 22c,或如在上述實(shí)施例中,可采用任何 其它形狀。
      其次,將描述其中密封部分的寬度的加寬本身受到抑制的實(shí)施例。在下述 實(shí)施例中,寬間隙區(qū)域,即其中CF 和TFT 之間的間隙局部增加的區(qū) 域,設(shè)置在液晶顯示屏板的非顯示區(qū)域內(nèi)。密封圖案的寬度預(yù)期增加的任何部 分形成在該寬間隙區(qū)域內(nèi),由此抑制了密封圖案的加寬。寬間隙區(qū)域通過在朝 向液晶層的CF 或TFT基板的表面上形成凹陷而產(chǎn)生。當(dāng)轉(zhuǎn)移材料或密封劑涂覆到這種凹陷時(shí),密封劑在顯示區(qū)域的擴(kuò)散被抑制,因?yàn)榘枷輼?gòu)成了寬間 隙區(qū)域。
      具有各種用于在基板表面上形成凹陷的方法。例如,在樹脂薄膜將形成在 TFT基板上的情況下,可以在樹脂薄膜中在預(yù)定的位置形成凹陷或通孔。例
      如,這種樹脂薄膜可以用于形劍每設(shè)置在形成在TFT基板上的TFT或信號(hào)線和 像素電極之間的間層絕緣薄膜。作為選擇,也可以利用各種將形成在濾色片基 ^±的樹脂層(例如,彩色樹脂層)。
      下面將描^131利用作為層間絕緣薄膜形鵬TFT繊上的樹脂層產(chǎn)生寬 間隙區(qū)域的例子。盡管上述共用轉(zhuǎn)移密封部分32c將描述為密封部分加寬的可 能地點(diǎn),但是將理解,同一原理可廣泛應(yīng)用于密封圖案的寬度被期望增加處的 密封部分的任何部分,例如連接部分或角部。此外,寬間隙區(qū)域可以與任何其 中如上述實(shí)施例中所示光屏,包括透光部分的結(jié)構(gòu)結(jié)合使用。
      圖18A、 18B、 18C和18D是每一個(gè)都描述根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液晶顯示屏 板中的共用轉(zhuǎn)移密封部分的結(jié)構(gòu)的示意圖。圖18A、 18C和18D是平面圖;而 圖18B沿圖18A中的18B-18B怖剖視圖。
      如圖18A中所示,樹月旨層61設(shè)置在密封部分32上,而通孔61a形,與 共用轉(zhuǎn)移部分60對(duì)應(yīng)的樹脂層61的部分處。通 L 61a限定了寬間隙區(qū)域。盡 管描述了通孔61a的尺寸類似于共用墊60a的例子,但是本實(shí)施例不限于此。
      以密封部分32在間隙等于由液晶顯示屏板的設(shè)計(jì)確定的間隙值(即液晶層 的厚度)的任何部分呈預(yù)定線寬的方式,涂敷密封劑,從而形成密封部分。由 于通孔61a,形成共用轉(zhuǎn)移密封部分32c的區(qū)域中的間隙增加的距離等于樹脂層 61的薄膜厚度。由于以線狀正被涂敷的密封劑具有恒定的截面面積,因此密封 寬度在樹脂層61中的通孔61a處將變得相對(duì)較??;例如,如果不是由于共用轉(zhuǎn) 移部分60,密封的線寬將如圖18C所示在凹陷(通 L 61a)斷氏。當(dāng)涂麟用 轉(zhuǎn)移物質(zhì)時(shí),密封劑由于共用轉(zhuǎn)移物質(zhì)的體積支配而擴(kuò)散,由于產(chǎn)生圖18A中 所示的結(jié)構(gòu)。
      例如,共用轉(zhuǎn)移密封部分32c在以下面的條件進(jìn)行的實(shí)驗(yàn)例子中最大寬度 是1100微米樹脂層的薄膜厚度是2.5微米;密封部分32的寬度是大約1000 ;密封部分在存在樹脂層處的間隙是5.5微米;樹脂層中的通 L 61a的寬度 是1200微米;以及共用轉(zhuǎn)移部分60的目標(biāo)直徑(在不存在密封的理論情況下)是500微米。
      雌方式是,本實(shí)施例的柳旨層60中的通孔61a的寬度大于共用轉(zhuǎn)移部分 60的直徑或主密封部分(主伸展)的寬度的最大值。在樹脂層中不制造通孔的 對(duì)以的實(shí)驗(yàn)中,共用轉(zhuǎn)移密封部分呈大約1400 M的最大寬度。由此,根據(jù)本 發(fā)明的實(shí)施例,包括共用轉(zhuǎn)移部分60的共用轉(zhuǎn)移密封部分32c的寬度與傳統(tǒng)的 情況相比降低了 300微米。光屏蔽層的凹部22a的寬度的300微米的斷氐表明 與上述實(shí)施例相比可制造進(jìn)一步變窄的框架區(qū)域。
      此外,在共用轉(zhuǎn)移部分60的目標(biāo)直徑(不存在密封部分的理論情況下)設(shè) 定為400微米的情況下,共用轉(zhuǎn)移密封部分32c具有大約1000微米的最大線 寬。在這種情況下,由于最大線寬等于主密封部分32的寬度(1000微米),因 此如圖18D中的示例可省略光屏tt22A中的凹部22a。
      樹脂層61中的通孔61a不必如此寬以包圍密封部分的整個(gè)寬度。這點(diǎn)將參 照?qǐng)D19A、 l犯、19C和19D進(jìn)行描述。
      圖19A、 19B、 19C和19D是每一個(gè)都描述根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的液晶顯 示屏板中的共用轉(zhuǎn)移密封部分的結(jié)構(gòu)的示意圖。圖19A、 19C和19D是平面 圖;而圖19B沿圖19A中的19B-19B'的剖視圖。
      例如,即使在樹脂層61中的通孔61a如圖19A所示僅僅延伸密封的一部分 的寬度也能獲得充分的效果。這種結(jié)構(gòu)在共用轉(zhuǎn)移部分的最終直徑小于密封部 分的寬度的情況下特別有效。原因是在這種情況下,可以忽略由于共用轉(zhuǎn)移部 分60朝向樹脂層61缺少通 L的一側(cè)(或凹陷)61a (即從圖19中的顯示區(qū)域 朝向相對(duì)側(cè))推出密封齊IJ引起的任何寬度增加。
      在用于另一 目形成的樹脂層方便地用作上述樹脂層并且必須具有較大薄膜 厚度的情況下,增加通孔61a "S]m使密封部分的寬度太薄。然而,如圖19A中 所示的結(jié)構(gòu)能夠消除這種問題并且獲得充分的密封寬度。注意,過薄的密封寬 度可導(dǎo)致與密封部分5雖不充分的問題。
      圖20是描述樹脂層61的厚度(通 L 61a的深度)和降低密封部分32的寬 度的效果t間的關(guān)系的曲線。
      從圖20中可以看出,當(dāng)樹脂薄膜厚度 ;(即寬間隙區(qū)域的間隙較寬)并 且主密封寬度較大時(shí)獲得更好的效果。在簡(jiǎn)單的模擬中,線寬降低效果可通過 下面的等式表示{(主密封寬度X主密封部分的間隙)/ (主密封部分的間隙+樹脂中的凹陷的 深度)}+共用轉(zhuǎn)移直徑-(共用轉(zhuǎn)移直&主密封線寬度)。
      用在上述等式中的"共用轉(zhuǎn)移直徑"是共用轉(zhuǎn)移物質(zhì)沒有與密封接觸的情 況下的共用轉(zhuǎn)移物質(zhì)的最終直徑。盡管上述模擬等式不考慮共用轉(zhuǎn)移物質(zhì)的形 狀并且由此將不精確匹配實(shí)際結(jié)果,但是將獲得實(shí)質(zhì)上類似的效果。
      為了實(shí)際獲得上述效果,優(yōu)選方式是,在寬間隙區(qū)域中的間隙應(yīng)當(dāng)大于密 封部分的間隙(即除了寬間隙區(qū)域以外的密封部分的任何區(qū)域的間隙)至少大 約10%,因?yàn)樵谏a(chǎn)期間發(fā)生的線寬的變化必須在一定程度上被吸收。盡管上
      述例子示出了通孔61a設(shè)置在樹脂層61中的例子,可以代替通孔設(shè)置凹陷
      (孔)。例如,凹陷可以利用光敏樹脂(感光性樹脂)通過半曝光技術(shù)形成。 當(dāng)凹陷將利用正型光敏樹脂通過半曝光技術(shù)形成時(shí),在達(dá)到實(shí)現(xiàn)全部光分解的 輻射之前進(jìn)行曝光和顯影,從而形成凹陷(孔)。另一方面,在利用負(fù)型光敏 樹月旨的情況下,在達(dá)到實(shí)現(xiàn)完全光固化的輻射時(shí)間之前進(jìn)行曝光和顯影,以形 成凹陷(孔)。通過半曝光技術(shù)形成凹陷提供了凹陷深度可控制的優(yōu)點(diǎn)。注 意,在設(shè)置在光敏樹脂層之上和之下的導(dǎo)電層之間的泄漏不能容許的情況下通
      孔不許在光敏樹脂層中形成;在這種情況下,與完全的通孔相反,形成孔(凹 陷)適合。
      其中形成通孔或凹陷(?L)的層不限于間層絕緣薄膜,而也可以是用于形 成黑色陣列的樹脂層或保護(hù)樹脂層。如果使用光敏樹脂層,通孔或凹陷可通過 簡(jiǎn)單的工藝形成。作為選擇,可以使用無(wú)機(jī)材料層,盡管這將使形成深通孔或 凹陷困難。當(dāng)考慮到諸如密封寬度變得太薄的缺點(diǎn)時(shí),通常優(yōu)選方式是,形成
      在表面中的任何凹陷的深度在大約1 至大約3微米的范圍內(nèi)。
      優(yōu)選方式是,規(guī)定樹脂層中通孔或凹陷的尺寸(即寬間隙區(qū)域的尺寸)小 于共用轉(zhuǎn)移區(qū)域的最終寬度的最大值。在圖19A至19D中所示的實(shí)施例中,密 封部分的寬度的減薄能夠也基于通孔61a的圖案和布置控制,從而可從較寬的 范圍選歸優(yōu)結(jié)構(gòu)。例如,頓 L 61a的纖位于沿寬度方向的密封部分32的 中心的外部300微米的位置的情況下,在與上述情況相同的情況下證實(shí)了類似 的效果。優(yōu)選方式是,通孔61a的邊緣位于某一位置,以便即使給定處理變化 密封部分具有最小線寬的情況下,密封部分的外部邊緣也落A31孔61a中。
      根據(jù)本發(fā)明,提供了一種方法,即使部分形成在液晶顯示屏板內(nèi)該方法也能有效地生產(chǎn)具有不降低可靠性的液晶顯示屏板,所述部分在傳統(tǒng)的生產(chǎn)方法 下將導(dǎo)致厚密封圖案寬度(例如,密封連接部分或轉(zhuǎn)移部分)。特別是本發(fā)明 可以M使用滴下式注入技術(shù)有效地生產(chǎn)大尺寸液晶顯示屏板。
      盡管針對(duì)優(yōu)選實(shí)施例描述了本發(fā)明,但是對(duì)于本領(lǐng)域所述技術(shù)人員而言很 明顯,所披露的發(fā)明可以以多種方式進(jìn)行修改并且可以呈現(xiàn)許多實(shí)施方式,而 不是上面具體描述的實(shí)施方式。因此,權(quán)利要求旨在覆蓋落入本發(fā)明的真實(shí)精 神和范圍內(nèi)的所有對(duì)本發(fā)明的修改。
      權(quán)利要求
      1、一種液晶顯示屏板,包括第一基板、第二基板,置于第一基板和第二基板之間的液晶層,圍繞液晶層的密封部分,以及用于在第一基板和第二基板之間建立電連接的轉(zhuǎn)移部分,所述液晶顯示屏板具有顯示區(qū)域和圍繞顯示區(qū)域的非顯示區(qū)域,其中,第一基板包括在更接近顯示區(qū)域的端部設(shè)置在非顯示區(qū)域內(nèi)的第一光屏蔽層,第一光屏蔽層包括接近第一光屏蔽層的外部邊界設(shè)置的至少一個(gè)透光部分,所述至少一個(gè)透光部分包括凹部或開口;轉(zhuǎn)移部分的至少一部分設(shè)置在所述至少一個(gè)透光部分中。
      全文摘要
      本發(fā)明的方法包括以下步驟(A)提供第一基板和第二基板,其中第一基板包括設(shè)置在非顯示區(qū)域內(nèi)的第一光屏蔽層,第一光屏蔽層包括接近第一光屏蔽層的外部邊界設(shè)置的透光部分,透光部分包括凹部或開口;(B)利用密封劑繪制密封圖案,所述密封圖案被繪制在第一光屏蔽層外部,以圍繞顯示區(qū)域,繪制密封圖案包括以下子步驟(B1)在接近透光部分開始密封劑的涂覆,(B2)沿第一光屏蔽層的外周涂覆密封劑;以及(B3)形成與已經(jīng)接近透光部分涂覆的密封劑的連接部分;(C)在密封劑圍繞的顯示區(qū)域內(nèi)涂覆液晶材料;(D)將第一基板和第二基板連接在一起;及(E)從第一基板側(cè)進(jìn)行光輻射,以固化密封劑。
      文檔編號(hào)G02F1/13GK101424810SQ20081018460
      公開日2009年5月6日 申請(qǐng)日期2005年7月12日 優(yōu)先權(quán)日2004年7月15日
      發(fā)明者山口英彥, 山田直, 津幡俊英, 辻雅之, 黑住幸生 申請(qǐng)人:夏普株式會(huì)社
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