專利名稱：液晶顯示屏板及其生產(chǎn)方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種液晶顯示屏板和用于生產(chǎn)該液晶顯示屏板的方法。本發(fā)明 尤其涉及通過利用滴下式注入(ODF)技術生產(chǎn)液晶顯示屏板的方法，以及適 于這種生產(chǎn)方法的液晶顯示屏板。
背景技術：
在近年，隨著液晶顯示屏板尺寸變得更大，代替?zhèn)鹘y(tǒng)使用的真空噴射技 術，采用所謂的滴下式注入技術作為在一對基板之間形成液晶層的方法正變得 更普通。
禾擁真空噴射技術生產(chǎn)液晶顯示屏板的過程包括下面的步驟。
(al)在用于構成液晶顯示屏板的一對基板(它們典型地是濾色片基板和 TFT基板)的一個上，形成預定圖案的密封劑。然后，該對繊連接在一起， 并且密封劑固化，由此獲得液晶單元。形成密封劑圖案，以限定液晶層后面將 形皿其中的區(qū)域(注意顯示區(qū)域被包圍在該區(qū)域內(nèi))并且還限定注射入口。
(a2)在排空液晶單元以在其中產(chǎn)生真空之后，通過利用液晶單元的內(nèi)部 和外部之間的壓力差并利用毛細管作用，液晶材料被注入，同時保持液晶材料 與注射入口接觸。
(a3)之后，由密封劑密辦射入口。 另一方面，滴下式注入技術包括下面的步驟。
(bl)在一對基板的一個上，形成密封劑圖案，以圍繞其中將形成液晶層 的區(qū)域，并且然后液晶材料被滴入由密封劑圖案圍繞的區(qū)域內(nèi)。(b2)然后，該凝及實質上連接到另一 ，并且之后密封劑固化。 在滴下式注入技術中，密封劑圖案需要完全封閉其中形成液晶層的區(qū)域。 從而，當密封劑圖案由分配器繪制時，至少一個連接處將總是形成。 下面將參照圖描述滴下式注入技術中使用的密封圖案的特點。
圖21描述了四個液晶顯示面板將由母基板形成的例子。濾色片母 20 包括四個濾色片基板。在每一個產(chǎn)生的濾色片基板的顯示區(qū)域24中，設置濾色 片，該濾色片布置為對應于像素和反電極(圖中未示出)。每一個濾色片基板 還包括圍繞顯示區(qū)域的光屏蔽層(黑色陣列)22，從而光屏蔽層22限定顯示區(qū) 域24的外周。盡管圖21僅僅描述了對應于各個液晶顯示面板的分離的TFT基 板10，但是將會理解，包括四個未分開的TFT基板10的母 (以類似于濾 色片母基板20的方式)將在切割前連接到母基板20。在四個TFT基板10的每 一個的顯示區(qū)域14中，形成必要的電路元件，例如，TTT、像素電極、柵極總 線和源極總線。每一個TFT鎌和每一個濾色片^Mil密封部分32連接在一 起。密封部分32形鵬光屏離22的外側。
位于顯示區(qū)域14夕卜側的液晶顯示屏板的部分被稱為"非顯示區(qū)域"或"框 架區(qū)域"，希望該非顯示區(qū)^1架區(qū)域盡可能窄。光屏壁層22和密封部分32 設置在非顯示區(qū)域中。
另一方面，為了防止不需要的光進入顯示區(qū)域14中，光屏 22需要具 有一定的厚度。如果光屏蔽不充分，黑色顯示質量降級，從而實質上影響圖像 質量。為了滿足這兩種要求，需要在光屏蔽層22外周的緊密的附近精確形成密 封部分22。
然而，當密封部分32 Mil纟魏i肢術形成時，至少一個連接部分32b將不可 避免地形成。密封連接部分32b趨于變得比密封的主伸展32a更厚。如這里所 使用的一樣，密封主伸展32a指不包,接部分32b的具有實質恒定寬度的密 封部分32的一部分。主伸展32a是密封圖案的一部分，密封圖案用密封劑形 成，該密封劑在分配器的噴嘴等在基板的平面內(nèi)進行相對運動的同時排出，并 且因此主伸展32a取決于密封齊啲排出量和噴嘴的移動纖。由此，主伸展32a 具有相當穩(wěn)定的寬度。另一方面，連接部分32b包括密封劑首先涂敷的一部分 (即密封繪制的開始部分)。初始添加的密封劑量取決于在噴嘴的末端存在的 密封劑量。在噴嘴的末端存在的密封劑量由于用于定位噴嘴花費的時間長度的波動(包括沿高度方向定位)和當噴嘴在密封繪制的結束點從基板升起時噴嘴 末端殘留的密封劑量的波動而波動。因此，由于在密封繪制的開始點和結束點
涂敷的密封劑量的不一致，連接部分32b的寬度趨于變得比主伸展32a的寬度 更寬。
圖22A和22B是描述密封連接部分附近的放大視圖。圖22A是平面圖，而 圖22B是剖視圖。
如上所述，如果密封圖案在連接部分32b具有更寬的寬度，其一部分會與 光屏蔽層22交疊。因為可光致固化的樹脂(包括也允許輔助使用熱固的那些類 型的光固化樹脂)廣泛用作密封劑，因此如果從濾色片基板20的側面進行光輻 射(典型地紫外線(UV)輻射)，與光屏蔽層22交疊的密封劑的部分32'不能 充分固化。由此，可光致固化樹脂的未固化組分會洗提到液晶材料中，由此引 起可靠性的惡化，例如，主要由于離子組分導致的液晶顯示屏板的電壓保持率 的斷氐，并且弓胞方向偏轉的發(fā)生。
或許可以從TFT繊10的側面執(zhí)行光輻射。然而，如后面所述，如果UV 輻射從TFT基板10的側面進行，需要采用一些防止TFT被UV輻射的^S (例如，必須使用用于屏蔽TFT免于光照射的掩膜)。另一方面，如果從濾色 片繊20的側面進行UV輻射，優(yōu)點是在濾色片充分吸收UV的情況下能夠省 去這種，。至少能夠降低對TFT的損壞量。
為了防止在連接部分32b和光屏蔽層22之間部分交疊，日本公開專利公開 No. 2002-122870披露了一種方法，該方法涉及繪制延伸到液晶顯示屏板的外側 的密封圖案，和形成液晶顯示屏板外側的連接部分32d，如圖23中所示。此 夕卜，如圖24中所示，日本公開專利公開No. 2002-122870披露了一種方法，該 方法涉及形鵬液晶顯示屏板外側纟魏啲密封的開始或結束點32e。
日本公開專利公開No. 8-240807披露了一種方法，該方法涉及在角部形成 密封連接部分，利用密封部分和光屏蔽部分之間的空隙在液晶顯示屏板的角部 比沿其任何側面將大大約1.4倍這一優(yōu)點。然而， 一旦密封連接部分的寬度艦 上述值大約1.4倍，同樣如日本公開專利公開No. 2002-122870，這種方法不能 處理上述問題。
如果4頓曰本公開專利公開No. 2002-122870中描述的方法，不再需要在液 晶顯示屏板內(nèi)形成連接部分32b。然而，如圖25A中所示，該方、 封又僅可用于下述情況在TFT (TFT母S^及)10連接到濾色片 (CF母基板)20 之后，母 10和20都沿相同的線CL切害lj。還存在另一情況，即如圖25B 中所示，TFT母鎌10 ^t刀割線CL1切割，而CF母S^反20沿不同于切割線 CL1的切割線CL2切割，由此，在TFT對反10上JIJ共信號顯端子部分(驅動 器安裝部分)。在這種情況下，具有如下問題，密封部分32t將保留在TFT母 繊10上，而母對反10將粘接到將被除去的CF母凝反20的片段，從而使得 不可能除去該片段。注意在為了抑制與顯示屏板的增加的尺寸相關的信號延遲 等，信號線部分沿液晶顯示屏板的三或四個邊設置的結構中，不可能采用如圖 25A中所示的密封圖案。盡管圖25A中所示的圖案能夠在其中信號線端子部分 沿液晶顯示屏板的兩側設置的情況下采用，但是需要與母基阪10和20同時切 割密封部分32會弓(起切割，。
此外，日本公開專利公開No. 2002-122870中描述的方法將需要一種裝置， 該裝置能夠將密封圖案繪制到液晶顯示屏板的外側，而不使連接部分在離開顯 示屏板之前形成。這種密封圖案繪制裝置將不可避免地尺寸大，并且由此增加 了顯示屏，反的生產(chǎn)i^:。
根據(jù)本發(fā)明的發(fā)明A^行的研究，日本公開專利公開No. 8-240807中描述 的方法不僅具有日本公開專利公開No. 2002-122870中提及的問題，而且具有另 一個問題，即如圖26A和26B中示意地所示，密封連接部分的寬度會偶而在角 部超過1.4倍的值，即使不形成連接部分。在這種情況下，出現(xiàn)在與光屏蔽層 22交疊的部分的密封劑32c不能充分固化。
除了密封連接部分和角部之外，類似的方法也會在任何用于建立上部和下 部 之間的電連接的過渡部分(例如公共的過渡部分)出現(xiàn)。

發(fā)明內(nèi)容
為了克服上述問題，本發(fā)明的優(yōu)選實施方式提供一種用于有效生產(chǎn) 液晶顯示屏板的方法和通過這種生產(chǎn)方法提供的液晶顯示屏板，即使在 傳統(tǒng)的生產(chǎn)方法下將導致具有較厚寬度的密封圖案的部分(例如密封連 接部分或過渡部分)形成在液晶顯示屏板中，該液晶顯示屏板的可靠性 也不會降低。
根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示屏板生產(chǎn)方法是一種用于生產(chǎn)液晶顯示屏板的方法，該液晶顯示屏板包括第一基板、第二基板和置于第一基板和第 二基板之間的液晶層，所述液晶顯示屏板具有顯示區(qū)域和圍繞顯示區(qū)域 的非顯示區(qū)域，所述方法包括以下步驟(A)提供第一基板或包含第一 基板的第一母基板，和第二基板或包含第二基板的第二母基板，其中第 一基板包括在更接近顯示區(qū)域的端部設置在非顯示區(qū)域內(nèi)的第一光屏蔽 層，第一光屏蔽層包括接近第一光屏蔽層的外部邊界設置的至少一個透 光部分，所述至少一個透光部分包括凹部或開口；(B)利用包含可光致
固化樹脂的密封劑繪制密封圖案，所述密封圖案被繪制在第一基板的第
一光屏蔽層外部，以圍繞顯示區(qū)域，繪制密封圖案包括下面的子步驟
(Bl)在接近第一基板的透光部分開始密封劑的涂覆，(B2)沿第一基 板的第一光屏蔽層的外周涂覆密封劑；(B3)形成與已經(jīng)接近透光部分 涂覆的密封劑的連接部分；(C)在由密封劑圍繞的顯示區(qū)域內(nèi)涂覆液晶 材料；(D)將第一基板和第二基板連接在一起，而液晶材料置于它們之 間；以及(E)在步驟(D)之后，從第一基板側進行光輻射，以固化密 封劑。
在一種實施方式中，第一基板具有矩形形狀；所述至少一個透光部分 包括至少沿矩形形狀的邊設置的透光部分；以及所述連接部分形成在沿 矩形形狀的所述邊設置的透光部分處。
在一種實施方式中，所述至少一個透光部分包括沿矩形形狀的所述邊 設置的兩個或更多個透光部分；以及所述連接部分形成在沿矩形形狀的 所述邊設置的兩個或更多個透光部分處。
在一種實施方式中，所述至少一個透光部分還包括設置在矩形形狀的 角部的透光部分。
在一種實施方式中，第一母基板包括多個第一基板，所述方法包括 第一繪制步驟，其中通過接近第一基板的兩個或更多個透光部分中的一 個開始密封劑的涂覆，沿第一光屏蔽層的外周涂覆密封劑，以及接近兩 個或更多個透光部分中的另一個結束密封劑的涂覆，而在多個第一基板 中的一個上繪制密封圖案；第二繪制步驟，其中通過接近第一基板的兩 個或更多個透光部分中的一個開始密封劑的涂覆，沿第一光屏蔽層的外 周涂覆密封劑，以及接近兩個或更多個透光部分中的另一個結束密封劑的涂覆，而在多個第一基板的另一個上繪制密封圖案；第三繪制步驟， 其中在第一繪制步驟之后，通過開始密封劑的涂覆，以便形成與已經(jīng)接 近第一基板的一個透光部分或另一個透光部分涂覆的密封劑的連接部 分，從而在所述一個第一基板上繪制密封圖案；以及第四繪制步驟在 第二繪制步驟之后，通過開始密封劑的涂覆，以便形成與已經(jīng)接近第一 基板的一個透光部分或另一個透光部分涂覆的密封劑的連接部分，從而 在所述另一個第一基板上繪制密封圖案。
根據(jù)本發(fā)明的另一種液晶顯示屏板生產(chǎn)方法是一種用于生產(chǎn)液晶顯 示屏板的方法，該液晶顯示屏板包括第一基板、第二基板和置于第一基 板和第二基板之間的液晶層，所述液晶顯示屏板具有顯示區(qū)域和圍繞顯 示區(qū)域的非顯示區(qū)域，所述方法包括以下步驟(A)提供第一基板或包 含第一基板的第一母基板，以及第二基板或包含第二基板的第二母基 板，其中第一基板包括在更接近顯示區(qū)域的端部設置在非顯示區(qū)域內(nèi)的
第一光屏蔽層，第一光屏蔽層包括接近第一光屏蔽層的外部邊界設置的 至少一個透光部分，所述至少一個透光部分包括凹部或開口； (B)利用 包含可光致固化樹脂的密封劑在第二基板上繪制密封圖案，其中當?shù)诙?基板連接到第一基板時，第二基板上繪制的所述密封圖案將位于第一基 板的第一光屏蔽層外部的區(qū)域中，并且密封圖案被繪制為圍繞顯示區(qū) 域，所述繪制密封圖案包括下述子步驟(BO在接近對應于第一基板 的透光部分的位置開始密封劑的涂覆，(B2)沿對應于第一基板的第一 光屏蔽層的外周的區(qū)域涂覆密封劑；和(B3)形成與己經(jīng)接近對應于透 光部分的位置涂覆的密封劑的連接部分；(C)在密封劑圍繞的顯示區(qū)域 內(nèi)涂覆液晶材料；(D)將第一基板和第二基板連接在一起，而液晶材料 置于它們之間；以及(E)在步驟(D)之后，從第一基板側進行光輻 射，以固化密封劑。
在一種實施方式中，第一基板具有矩形形狀；所述至少一個透光部分 包括至少沿矩形形狀的邊設置的透光部分；以及所述連接部分形成在對 應于沿矩形形狀的所述邊設置的透光部分的位置處。
在一種實施方式中，所述至少一個透光部分包括沿矩形形狀的邊設置 的兩個或更多個透光部分；以及所述連接部分形成在對應于沿矩形形狀 的所述邊形成的兩個或更多個透光部分中的每一個的位置處。在一種實施方式中，所述至少一個透光部分還包括設置在矩形形狀的 角部的透光部分。
在一種實施方式中，第二母基板包括多個第二基板，所述方法包括 第一繪制步驟，其中通過接近對應于第一基板的兩個或更多個透光部分 中的一個的位置開始密封劑的涂覆，沿對應于第一光屏蔽層的外周的區(qū) 域涂覆密封劑，以及接近對應于兩個或更多個透光部分中的另一個的位 置結束密封劑的涂覆，而在多個第二基板中的一個上繪制密封圖案；第 二繪制步驟，其中通過接近對應于第一基板的兩個或更多個透光部分中 的一個的位置開始密封劑的涂覆，沿對應于第一光屏蔽層的外周的區(qū)域 涂覆密封劑，以及接近對應于兩個或更多個透光部分中的另一個的位置
結束密封劑的涂覆，而在多個第二基板的另一個上繪制密封圖案；第三
繪制步驟在第一繪制步驟之后，通過開始密封劑的涂覆，以便形成與 己經(jīng)接近對應于第一基板的一個透光部分的位置或對應于另一個透光部 分的位置涂覆的密封劑的連接部分，從而在所述一個第二基板上繪制密 封圖案；以及第四繪制步驟，其中在第二繪制步驟之后，通過開始密封
劑的涂覆，以便形成與已經(jīng)接近對應于第一基板的一個透光部分的位置 或對應于另一個透光部分的位置涂覆的密封劑的連接部分，從而在所述 另一個第二基板上繪制密封圖案。
在一種實施方式中，液晶顯示屏板具有在非顯示區(qū)域內(nèi)的寬間隙區(qū) 域，所述寬間隙區(qū)域是其中第一基板和第二基板之間的間隙局部增加的
區(qū)域，所述寬間隙區(qū)域包括在第一基板或第二基板的表面中的凹陷；以 及所述至少一個透光部分包括接近寬間隙區(qū)域設置的透光部分。
在一種實施方式中，所述液晶顯示屏板生產(chǎn)方法還包括如下步驟將包
含可光致固化樹脂的轉移材料涂覆到第一基板或第二基板，形成用于在 第一基板和第二基板之間建立電連接的轉移部分，其中轉移材料涂覆在 所述凹陷中。
在一種實施方式中，所述液晶顯示屏板生產(chǎn)方法還包括如下步驟將包 含可光致固化樹脂的轉移材料涂覆到第一基板或第二基板，形成用于在 第一基板和第二基板之間建立電連接的轉移部分，其中轉移材料涂覆在 第一基板上、接近至少一個透光部分的位置處，或第二基板上、對應于第一基板的透光部分的位置附近。
在一種實施方式中，步驟(E)包括通過光輻射固化轉移材料的子步驟。
在一種實施方式中，轉移部分形成為至少部分與密封圖案交疊。 在一種實施方式中，第二基板包括至少一個在非顯示區(qū)域內(nèi)的第二光
屏蔽層，所述至少一個第二光屏蔽層設置在對應于第一基板的所述至少
一個透光部分的區(qū)域內(nèi)。
在一種實施方式中，第二基板包括源極總線和柵極總線；以及所述至
少一個第二光屏蔽層包括與源極總線或柵極總線的導電層相同的導電層。
在一種實施方式中，所述至少一個透光部分包括多個凹部或開口，所 述第二光屏蔽層還包括對應于所述多個凹部或開口之間的間隙或多個凹 部或開口的鄰域設置的透光部分，所述方法還包括在步驟(D)之 后，從第二基板側執(zhí)行光輻射的步驟。
根據(jù)本發(fā)明的又一種液晶顯示屏板生產(chǎn)方法是一種用于生產(chǎn)液晶顯 示,板的方法，該液晶顯示屏板包括第一基板、第二基板和置于第一基 板^第二基板之間的液晶層，所述液晶顯示屏板具有顯示區(qū)域，圍繞顯 示區(qū)域的非顯示區(qū)域，以及非顯示區(qū)域內(nèi)的寬間隙區(qū)域，所述寬間隙區(qū) 域是其中第一基板和第二基板之間的間隙局部增加的區(qū)域，所述寬間隙 區(qū)域包括在第一基板或第二基板的表面中的凹陷，所述方法包括以下步 驟(A)提供第一基板或包含第一基板的第一母基板，以及第二基板或 包含第二基板的第二母基板，其中第一基板包括在更接近顯示區(qū)域的端 部設置在非顯示區(qū)域內(nèi)的第一光屏蔽層；(B)利用包含可光致固化樹脂 的密封劑繪制密封圖案，所述密封圖案被繪制在具有凹陷的第一基板的 第一光屏蔽層外部，或所述密封圖案被繪制在當具有凹陷的第二基板連 接到第一基板時將位于第一基板的第一光屏蔽層外部的第二基板的區(qū)域 內(nèi)，所述密封圖案繪制為圍繞顯示區(qū)域，繪制密封圖案包括下面的子步 驟(Bl)接近第一基板或第二基板的凹陷開始密封劑的涂覆，(B2) 沿第一基板的第一光屏蔽層的外周，或沿對應于第一基板的第一光屏蔽 層外周的第二基板上的區(qū)域涂覆密封劑；以及(B3)形成與已經(jīng)接近凹陷涂覆的密封劑的連接部分；(C)在密封劑圍繞的顯示區(qū)域內(nèi)涂覆液晶
材料；(D)將第一基板和第二基板連接在一起，而液晶材料置于它們之 間；以及(E)在步驟(D)之后，進行光輻射，以固化密封劑。
根據(jù)本發(fā)明的再一種液晶顯示屏板生產(chǎn)方法是一種用于生產(chǎn)液晶顯 示屏板的方法，該液晶顯示屏板包括第一基板、第二基板和置于第一基 板和第二基板之間的液晶層，所述液晶顯示屏板具有顯示區(qū)域，圍繞顯 示區(qū)域的非顯示區(qū)域，以及在非顯示區(qū)域內(nèi)的寬間隙區(qū)域，所述寬間隙 區(qū)域是其中第一基板和第二基板之間的間隙局部增加的區(qū)域，所述寬間 隙區(qū)域包括在第一基板或第二基板的表面中的凹陷，所述方法包括以下 步驟(A)提供第一基板或包含第一基板的第一母基板，以及第二基板 或包含第二基板的第二母基板，其中第一基板包括在更接近顯示區(qū)域的 端部設置在非顯示區(qū)域內(nèi)的第一光屏蔽層；(B)利用包含可光致固化樹 脂的密封劑繪制密封圖案，所述密封圖案被繪制在具有凹陷的第一基板 的第一光屏蔽層外部，或所述密封圖案被繪制在當具有凹陷的第二基板 連接到第一基板時將位于第一基板的第一光屏蔽層外部的第二基板的區(qū) 域內(nèi)，所述密封圖案繪制為圍繞顯示區(qū)域；(B')將包含可光致固化樹脂 的轉移材料涂覆到第一基板或第二基板，形成用于在第一基板和第二基 板之間建立電連接的轉移部分，轉移材料涂覆在凹陷中；(C)在密封劑 圍繞的顯示區(qū)域內(nèi)涂覆液晶材料；(D)將第一基板和第二基板連接在一 起，而液晶材料置于它們之間；以及(E)在步驟(D)之后，進行光輻 射，以固化密封劑。
在一種實施方式中，步驟(B)包括子步驟(Bl):從第一基板或第二 基板的凹陷開始涂覆密封劑。
在一種實施方式中，所述的液晶顯示屏板生產(chǎn)方法還包括形成凹陷的步 驟，其中形成凹陷的步驟包括子步驟在正型或負型的光敏樹脂層中形 成通孔或孔。
在一種實施方式中，所述的液晶顯示屏板生產(chǎn)方法還包括形成凹陷的步 驟，其中形成凹陷的步驟包括子步驟通過利用半曝光技術在光敏樹脂
層中形成孔。
在一種實施方式中，第一基板包括顯示區(qū)域中的濾色片。根據(jù)本發(fā)明的一種液晶顯示屏板是一種液晶顯示屏板，包括第一基 板、第二基板、置于第一基板和第二基板之間的液晶層，以及圍繞液晶 層的密封部分，所述液晶顯示屏板具有顯示區(qū)域和圍繞顯示區(qū)域的非顯 示區(qū)域，其中，第一基板包括在更接近顯示區(qū)域的端部設置在非顯示區(qū) 域內(nèi)的第一光屏蔽層，第一光屏蔽層包括接近第一光屏蔽層的外部邊界 設置的至少一個透光部分，所述至少一個透光部分包括凹部或開口；以
及密封部分在所述至少一個透光部分處具有加寬的寬度。
根據(jù)本發(fā)明的另一種液晶顯示屏板是一種液晶顯示屏板，包括第一 基板、第二基板和置于第一基板和第二基板之間的液晶層，圍繞液晶層 的密封部分，以及用于在第一基板和第二基板之間建立電連接的轉移部 分，所述液晶顯示屏板具有顯示區(qū)域和圍繞顯示區(qū)域的非顯示區(qū)域，其 中，第一基板包括在更接近顯示區(qū)域的端部設置在非顯示區(qū)域內(nèi)的第一 光屏蔽層，第一光屏蔽層包括接近第一光屏蔽層的外部邊界設置的至少
一個透光部分，所述至少一個透光部分包括凹部或開口；至少轉移部分
的一部分設置在所述至少一個透光部分中。
在一種實施方式中，第一基板包括在顯示區(qū)域內(nèi)的濾色片。 在一種實施方式中，第二基板包括在非顯示區(qū)域內(nèi)的至少一個第二光
屏蔽層，所述至少一個第二光屏蔽層設置在對應于所述第一基板的至少
一個透光部分的區(qū)域中。
在一種實施方式中，第二基板包括源極總線和柵極總線；以及所述至
少一個第二光屏蔽層包括與源極總線或柵極總線的導電層相同的導電層。
在一種實施方式中，所述至少一個透光部分包括狹縫狀的凹部或開 口；以及所述至少一個第二光屏蔽層包括多個光屏蔽部分，所述多個光 屏蔽部分設置為與狹縫狀凹部或開口相對。
根據(jù)本發(fā)明的又一種液晶顯示屏板是一種液晶顯示屏板，包括第一 基板、第二基板，置于第一基板和第二基板之間的液晶層，圍繞液晶層 的密封部分，以及用于在第一基板和第二基板之間建立電連接的轉移部 分，所述液晶顯示屏板具有顯示區(qū)域和圍繞顯示區(qū)域的非顯示區(qū)域，其 中，所述液晶顯示屏板包括在非顯示區(qū)域內(nèi)的寬間隙區(qū)域，所述寬間隙區(qū)域是其中第一基板和第二基板之間的間隙局部增加的區(qū)域，所述寬間
隙區(qū)域包括在第一基板或第二基板的表面中的凹陷；轉移部分設置在凹 陷中。
根據(jù)本發(fā)明的再一種液晶顯示屏板是一種液晶顯示屏板，包括第一 基板、第二基板，置于第一基板和第二基板之間的液晶層，以及圍繞液 晶層的密封部分，所述液晶顯示屏板具有顯示區(qū)域和圍繞顯示區(qū)域的非 顯示區(qū)域，其中，所述液晶顯示屏板包括在非顯示區(qū)域內(nèi)的寬間隙區(qū) 域，所述寬間隙區(qū)域是其中第一基板和第二基板之間的間隙局部增加的 區(qū)域，所述寬間隙區(qū)域包括在第一基板或第二基板的表面中的凹陷；以 及密封部分的一部分設置在凹陷中。
在一種實施方式中，凹陷包括形成在正型或負型的光敏樹脂層中通孔 或孔。
根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示屏板生產(chǎn)方法，使用包括光屏蔽層的基板， 所述基板具有在變成密封劑的連接部分的位置的透光部分(凹部或開 口)，而從該基板的側面進行光輻射。結果，防止在連接部分的不充分 的密封劑固化。此外，通過在密封劑的寬度可能變寬的角部或轉移部分 (例如公用轉移部分)提供透光部分，也能夠防止在這種角部或轉移區(qū) 域的密封劑固化失效。因此，由于透光部分僅僅設置在光屏蔽層的、密 封圖案的寬度預期變寬的部分中，因此非顯示區(qū)域的寬度能夠保持較 窄。此外，通過在另一個基板上(在與透光部分設置在第一基板上的位 置相對的位置處)提供光屏蔽層，將不會損害光屏蔽層的原始用途，即 防止光泄露。
由于不必在液晶顯示屏板的外部形成密封部分，因此防止了在母基 板切割期間的失效。此外，通過在液晶顯示屏板中提供兩個或更多個連 接部分，相對于密封部分的繪制順序獲得了增加的自由度，并且/或者可 利用多個分配器執(zhí)行同時繪制，由此可降低密封繪制處理的生產(chǎn)間歇時 間。通過在密封圖案中提供兩個或更多個連接部分，可以利用相對小的 密封圖案繪制裝置在大尺寸液晶顯示屏板上執(zhí)行密封圖案的繪制，由此 能夠抑制生產(chǎn)成本的增加。
通過將濾色片基板用作上述基板，能夠降低由于UV產(chǎn)生的對于TFT的損壞。此外，可以省去用于在光輻射處理中保護TFT的掩膜。通 過也從TFT基板側進行光輻射，能夠降低固化所需要的輻射時間。
根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示屏板生產(chǎn)方法，凹陷設置在基板的表面中、 密封預期具有加寬的寬度的部分處(例如，密封連接部分或轉移部 分)，凹陷限定了具有較大的基板之間的間隙的區(qū)域。結果，密封圖案 寬度的增加能夠自身被抑制。通過與上述透光部分一起采用這種凹陷， 可以獲得兩種效果。
本發(fā)明的其它特征、元件、過程、步驟、特點和優(yōu)點從下面結合附 圖對本發(fā)明的優(yōu)選實施例的詳細描述而變得更清楚。


. 圖1A、 1B、 1C和1D是描述根據(jù)本發(fā)明實施例的液晶顯示屏板中的密封連
接部分的結構的示意圖。
圖2是用于描述獲得六個濾色片基板的CF母基板的密封纟魏ij過程的示意圖。
圖3A和3B是描述在根據(jù)本發(fā)明實施例的液晶顯示屏板的角部的密封的結 構的示意圖。
圖4是描述典型液晶顯示屏板的平面圖。
圖5A至5C是描述在沿其上未設置信號線端子部分的邊設置透光部分的情 況下的光屏蔽層的示例性結構的示意圖。圖5A是平面圖；圖5B是沿圖5A中 的線5B-5B'的剖視圖；以及圖5C是沿圖5A中的線5C-5C'的剖視圖。
圖6A至6C是描述在沿其上未設置信號線端子部分的邊設置透光部分的情 況下的光屏蔽層的另一示例性結構的示意圖。圖6A是平面圖；圖6B是沿圖 6A中的線6B-6B怖剖視圖；以及圖6C是沿圖6A中的線6C-6C'的剖視圖。
圖7A至7C是描述在沿其上未設置信號線端子部分的邊設置透光部分的情 況下的光屏蔽層的又一示例性結構的示意圖。圖7A是平面圖；圖7B是沿圖 7A中的線7B-7B怖剖視圖；以及圖7C是沿圖7A中的線7C-7C'的剖視圖。
圖8A至8D是描述在沿液晶顯示屏板的短邊SE1頓應于柵極總線端子部 分GB1的區(qū)域中設置透光部分的情況下的光屏蔽層的示例性結構的示意圖。圖 8A是平面圖；圖8B是沿圖8A中的線8B-8B'的剖視圖；圖8C是沿圖8A中的線8C-8C'的剖視圖；以及圖8D是沿圖8A中的線8D-8D'的剖視圖9A至9D是描述在沿液晶顯示屏板的短邊SE1 W應于柵極總線端子部 分GB1的區(qū)域中設置透光部分的情況下的光屏蔽層的另一示例性結構的示意 圖。圖9A是平面圖；圖9B是沿圖9A中的線9B-9B'的剖視圖；圖9C是沿圖 9A中的線9C-9C'的剖視圖；以及圖9D是沿圖9A中的線9D-9D'的剖視圖。
圖10A至10C是描述在沿液晶顯示屏板的短邊SE1 應于柵極總線端子 部分GB1的區(qū)域中設置透光部分的情況下的光屏蔽層的又一示例性結構的示意 圖。圖10A是平面圖；圖10B是沿圖10A中的線10B-10B'的剖視圖；圖10C 是沿圖10A中的線10C-10C'的剖視圖。
圖11A至11D是描述在沿液晶顯示屏板的長邊LE1 ^) 寸應于源極總線端子 部分SB1的區(qū)域中設置透光部分的情況下的光屏蔽層的示例性結構的示意圖。 圖11A是平面圖；圖11B是沿圖11A中的線11B-11B怖剖視圖；圖11C是沿圖 11A中的線11C-11C'的剖視圖；以及圖11D是沿圖11A中的線11D-11D怖剖視 圖。
圖12A至12D是描述在沿液晶顯示屏板的長邊LE1頓應于源極總線端子 部分SB1的區(qū)域中設置透光部分的情況下的光屏蔽層的另一示例性結構的示意 圖。圖12A是平面圖；圖12B是沿圖12A中的線12B-12B'的剖視圖；圖12C 是沿圖12A中的線12C-12C'的剖視亂以及圖12D是沿圖12A中的線12D-12D怖剖視圖。
圖13A至13C是描述在沿液晶顯示屏板的長邊LE1在對應于源極總線端子 部分SB1的區(qū)域中設置透光部分的情況下的光屏蔽層的又一示例性結構的示意 圖。圖13A是平面圖；圖13B是沿圖13A中的線13B-13B'的剖視圖；圖13C 是沿圖13A中的線13C-13C怖剖視圖。
圖14是描述在根據(jù)本發(fā)明實施例的液晶顯示屏板中密封部分32和包括凹 部22a的光屏蔽層22的示意圖。
圖15A和15B是用于描皿常采用的液晶顯示屏板布置的示意平面圖。
圖16A、 16B、 16C和16D是描述傳統(tǒng)的共用轉移部分的結構的示意平面圖。
圖17A和17B是描述根據(jù)本發(fā)明實施例的液晶顯示屏板中的共用轉移部分 的結構的示意平面圖。圖18A、 18B、 18C和18D是每一個都描述根據(jù)本發(fā)明實施例的液晶顯示屏
板中的共用轉移部分的結構的示意圖。
圖19A、 19B、 19C和19D是每一個都描述根據(jù)本發(fā)明另一實施例的液晶顯
示屏板中的共用轉移部分的結構的示意圖。
圖20是描述樹脂層61的厚度(通孔61a的深度)和降低密封部分32的寬
度的效果之間的關系的曲線。
圖21是描述用于滴下式注入技術中的密封圖案的特性的示意圖。
圖22A和22B是描述密封連接部分的附近的放大視圖。圖22A是平面圖，
而圖22B是剖視圖。
圖23是描述傳統(tǒng)密封圖案的例子的示意圖。
圖24是描述傳統(tǒng)密封圖案的另一個例子的示意圖。
圖25A和25B是用于說明傳統(tǒng)密封圖案的問題的示意圖。
圖26A和26B是用于說明傳統(tǒng)密封圖案的另一問題的示意圖。
具體實施例方式
下面將參照附圖描述根據(jù)本發(fā)明實施例的液晶顯示屏板和生產(chǎn)該液晶顯示 屏板的方法。
如圖1A和1B中所示，根據(jù)本發(fā)明實施例的液晶顯示屏板包括1TT Sl反 10，濾色片基板20，設置在TFT基板10和濾色片基板20之間的液晶層40，以 及圍繞液晶層40的密封部分32。液晶顯示屏板具有顯示區(qū)域和圍繞顯示部分的 非顯示區(qū)域。濾色片基板20具有第一光屏蔽層22A，該第一光屏蔽層22A在更 接近顯示區(qū)域的端部設置在非顯示區(qū)域內(nèi)。第一光屏蔽層22A具有接近外邊緣 設置的凹部(透光部分)22a。密封部分32的寬度被允許在光屏蔽層22A的凹 部22a變得更寬。假定光屏蔽層22A的凹部22a具有充分的寬度和長度，如果 連接部分32b形成在凹部22a內(nèi)，即使當連接部分32b具有增加的寬度連接部 分32b也不與光屏蔽22A交疊。因此，如圖1B中所示，即4彭人濾色片 20 的后面?zhèn)冗M行UV輻射密封劑也能夠充分固化。
注意密封劑不限于可UV固化的樹脂，可以是用任何波長的光(例如可見 光)固化的樹脂，并且各種可光致固化的樹脂可適用。這里所使用可光致固化 樹脂指其響應于預定波長的光的輻射進行固化反應的任何樹脂，并且包括在光固化之后能夠對其進一步進行熱固定的任何樹脂。通過這種熱固定的輔助使 用，固化的物質的物理特性(例如硬度和彈性模量)通常被提高。此外，用于 將散射能力賦予密封劑的顆粒(填充物)可以與可光致固化樹脂一起混合到密 封劑。顆粒分散其中的密封劑將弓虛光的散射或漫反射，因此允許光透過密封 劑的更寬區(qū)域。
圖1A中所示的濾色片基板20的光屏蔽層22A被示出為具有在連接部分 32b的旨長度延伸的單個凹部22a。代替這種凹部22a，只要凹部允許密封劑 用光充射昌射，可以4柳任何其它凹部。例如，如圖1C中所示的光屏蔽層22B 的示例，多個微小凹部22b可以以帶狀設置。作為選擇，如圖1D中所示的光屏 蔽層22C的示例，可以設置多個微小開口 (？L)22c。依凹部或開口，用于允許 密封劑接受光輻射的透光部分不需要形成有恒定的寬度，而是可以具有變化的 寬度，以根據(jù)需要容納連接部分32的擴展的寬度。在設置如圖1C或1D中所 示的凹部22b或開口 22c的情況下，密封劑比采用圖1A中所示的凹部22a的情 況更難于接受光輻射。因此，在這種情況下，優(yōu)選方式是采用不僅允許光以直 角入射到基板而且能夠通過反射鏡等弓l入一定的輻射角的類型的光輻射裝置， 頓用具有Mt能力(漫反射特性)的密封劑。
在最后的液晶顯示屏板中，顯示質量可能由于已經(jīng)穿過設置在光屏蔽層 22A中的凹部22a的光而降級。因此，優(yōu)選方式是，在與凹部22a相對的位置 設置另一個光屏蔽層。盡管可能在濾色片20的夕卜側(即更接近觀察者的一側) 連接光屏蔽帶等，但是這種設置不是優(yōu)選的，因為將增加生產(chǎn)步驟的數(shù)量，可 能發(fā)生定位問題，并且當液晶顯示屏板安裝在殼體內(nèi)時可能發(fā)生高度不同。因 此，如后面將在具體例子中戶腿， 方式是，在TFT凝反10Jl^應的位置設 置光屏蔽層。在這種情況下，M:利用與在TTFT凝^h設置的源極總線和/， 極總線的導電層相同的導電層形成光屏蔽層，可形成光屏蔽層且不增加步驟數(shù)
通過采用上述結構，即使密封連接部分形成在液晶顯示屏板內(nèi)也可允許密 封劑充分固化，而不會使生產(chǎn)步驟復雜。還可有效地防止光從設置在濾色片基 板的光屏蔽層中的透光部分泄露。因為光輻射從濾色片基板側進行，因此至少 當艦濾色片時輻射TFT的光被削弱，從而能夠斷氐由用于TFT的光輻射造成 的損壞。在可只用濾色片獲得充分削弱的情況下，不必采用用于防止TFT受到光輻射的掩膜，由itba—步提高了生產(chǎn)效率。
其次，將參照圖2描述根據(jù)本發(fā)明生產(chǎn)方法的實施例的液晶顯示屏板。
圖2是用于描^M其獲得六個濾色片S^及的CF母對反20的密封繪制過程
的示意圖。如下面所述，根據(jù)本發(fā)明的生產(chǎn)方法的實施例的液晶顯示屏板的一
個優(yōu)點是通過利用多個連接部分，利用其自身具有相對窄的可移動范圍的分 配器，可獲得大尺寸的液晶顯示屏板。另一個優(yōu)點是，通過在液晶顯示屏板內(nèi) 設置兩個或更多個連接部分，相對于密封圖案的繪制順序獲得增加的自由度， 并J7或可通過采用多個分配器同時繪制密封圖案，由此能夠降低密封繪制過程 的生產(chǎn)間歇時間。
對于從CF母S^反20獲得的六個濾色片St反20 (Al至A3和B1至B3 )中 的一個(例如，圖2中的Al)，涂敷密封劑可以例如從點Sl開始。因此，點 Sl用作密封圖案的開始點。點Sl在濾色片20的凹部22a的附,擇(注意圖 2僅僅示意地描述了凹部22a)。在密封繪制從點Sl開始之后，密封劑沿濾色 片對反20的光屏 22的外周(沿圖2中的實線)涂敷，并且密封劑涂敷在 另一凹部22a的附近(點S2)結束。點S2用作密封圖案的結束點。
然后，相對于濾色片基板Al，密封劑涂敷從開始點Sl再次開始，并且沿 圖2中的虛線，進行密封繪制，直到達到結束點S2。因此，會,形成圍繞顯示 區(qū)域的密封部分。
由此，通過采用其中設置多個連接部分的結構，不需在單個繪制中圍繞從 開始點Sl到結束點Sl的齡范圍。因此，S卩使分配器噴嘴(和/或母鎌)僅 僅能夠在相對較窄的可移動范圍移動也能夠進行密封繪制。在可獲得充分的可 移動范圍的情況下，當然可從例如開始點Sl開始密封繪制，沿濾色片基板20 的光屏蔽層22的外周涂敷密封劑，皿點S2，然后返回到開始點Sl，由此在 點Sl形成連接部分。在這種情況下，僅僅一個連接部分在開始點Sl形成。
此外，根據(jù)本發(fā)明實施例的生產(chǎn)方法，不必在移動到另一個濾色片基板之 前在六個濾色片基板(Al至A3和Bl至B3)中的一個上完成旨密封部分 32。例如，對應于實線的密封圖案可以在濾色片對及Al至A3的每一個上同時 繪制，并且此后和與此同時，對應于實線的密封圖案可以在濾色片基板Bl至 B3的每一個上同時繪制。之后，對應于虛線的密封圖案可以在濾色片基板Al 至A3的每一個上同時纟魏ij，并且此后或與此同時，X寸應于虛線的密封圖案可以在濾色片皿B1至B3的每一個上同時纟魏U。
盡管該例子示出了凹部22a設置在具有矩形形狀的基板的短邊上，但是也 可以將凹部設置在基板的長邊上。此外，還可以將凹部設置在短邊和長邊上， 從而形成三個或更多的連接處。凹部22a (即透光部分)的定位可以根據(jù)分配器 的可移動范圍，母基板的尺寸和面板在母基板中的定位調節(jié)。不限于凹部22a， 可以采用如圖1C或1D中所示的凹部22b或開口 22c，或它們的任意混合。由 此，關于凹部或開口的形狀沒有限制，只要密封劑能用光充分輻射。然而，如 下所述，為了用設置在TFT基板上的光屏蔽層實現(xiàn)充分的光屏蔽，優(yōu)選方式 是，優(yōu)化凹部或開口的形狀禾啶位。
盡管上述例子示出了對CF母對及20進行密封鄉(xiāng)魏啲情況，但是也可以在 TFT母繊10的對應區(qū)域會賴嘧封圖案。換句話說，可以纟雜嘧封圖案，從而 當濾色片基阪20和TFT基板10連接在一起時將形成密封部分32的位置滿足相 對于濾色片S^反的光屏蔽層22中的透光部分22 (凹部22a)的上述關系。
在該實施例的液晶顯示屏板生產(chǎn)方法中，密封劑的連接部分形成在液晶顯 示屏板的內(nèi)側，并且由此與日本公開專利公布No. 2002-122870中不同，在本發(fā) 明中液晶顯示屏板的外側不存在密封部分。結果，當TFT母基板10和CF母基 板20切割自應于液晶顯示屏板的塊時防止切割失敗。即使在信號線端子部分 將設置在液晶顯示屏板的三個或多個邊上的情況下，也能防止諸如不能移去濾 色片基板的片段的問題。
注意，諸如凹部22的透光部分優(yōu)選不僅設置在連接部分而且也設置在角 部，如圖3A和3B中所示。M在光屏蔽層22D的角部設置凹部22d，可以防 止在角部已經(jīng)變厚的密封劑32a'與光屏蔽層22D交疊，從而使密封劑充分固 化。
盡管連接部分可形成在這種角部，但是從方便檢查連接部分的觀點，優(yōu)選 方式是，沿基板的邊(不包括角部)形成任何連接部分。沿邊形成的連接部分 能夠通過利用光技術檢測密封部分的寬度而對合格程度進行測試。換句話說， 如果連接部分沿邊形成能夠容易地檢測諸如連接部分的不完整(即破裂)或過 薄寬度的失效。
接下來，將參照圖4至13更詳細地描述根據(jù)本發(fā)明實施例的液晶顯示屏板 的結構。圖4是描述典型液晶顯示屏板的平面圖。液晶顯示屏板包括TFT基板
10';濾色片 20;以及用于在TFT基板10鄰濾色片基板20之間實現(xiàn)粘接的 密封部分32。 TFT基板10'具有兩個皿LE1和LE2，以及兩個短邊SE1和 SE2。在所示的例子中，微LE1和短邊SE1在濾色片鎌20的夕卜側延伸；源 極總線端子部分SB1設置在長邊LE1上；而柵極總線端子部分GB1設置在短 邊SE1上。因此，在這些信號總線端子部分SB1和GB1，密封部分32和濾色 片鎌20的光屏蔽部分(未示出)與信號總線交疊。從而，在TFTSI反需要具 有對應于設置在濾色片^^反20的光屏蔽層中的透光部分(例如，凹部)的光屏 蔽層的情況下，這種光屏蔽層的優(yōu)選結構將依線(例如，源極總線或柵極總 線)的J5S而變化。
圖4示出了信號線端子部分設置在基板的兩個邊上的例子。作為選擇，本 發(fā)明也可用于信號線端子部分設置在三個邊上的結構(例如，柵極總線端子部 分設置在兩個短邊上)，或信號線端子部分設置在四個邊上的結構(即柵極總 線端子部分設置在兩個i^而源極總線端子部分設置在其它兩個邊上)。
首先，將參照圖5A、 5B、 5C、 6A、 6B、 6C、 7A、 7B和7C描述沿其上未 設置信號線端子部分的邊(SE2或LE2)設置透光部分的情況下的光屏蔽層的 示例性結構。圖5A至5C是描述在沿其上未設置信號線端子部分的邊設置透光 部分的情況下的光屏蔽層的示例性結構的示意圖。圖5A是平面亂圖5B是沿 圖5A中的線5B-5B'的剖視圖；以及圖5C是沿圖5A中的線5C-5C'的剖視圖。 圖6A至6C是描述另一示例性結構的示意圖。圖6A是平面圖；圖6B是沿圖 6A中的線6B-6B'的剖視圖；以及圖6C是沿圖6A中的線6C-6C'的剖視圖。圖 7A至7C是描述又一示例性結構的示意圖。圖7A是平面圖；圖7B是沿圖7A 中的線7B-7B'的剖視圖；以及圖7C是沿圖7A中的線7C-7C的剖視圖。
圖5A至5C描述了在將形成密封連接部分32b的位置設置凹部22a的情 況。圖6A至6C描述了在這種位置設置多個凹部22b的情況。圖7A至7C描 述了在這種位置設置多個凹部22b'和多個開口22c'的情況。在任一種情況下，在 對應于濾色片基阪的光屏蔽層22中的透光部分(22a、 22b、 22b'、 22c')的TFT 10的區(qū)域內(nèi)不存在柵極總線端子部分或源極總線端子部分。因此，光屏蔽 層12a可以設置在招可需要的區(qū)域。TFT ^!及10包括玻璃^t反11 ，形鵬玻璃 基板ll上的柵極總線(未示出)，覆蓋柵極總線的柵極絕緣薄膜B，形成在柵極絕緣薄膜上的源極總線(未示出)，以及覆蓋源極總線的絕緣保護薄膜15。
當使構成柵極總線的導電層形成圖案時，該圖案形成可以以剩下光屏蔽層12a 完整的方式進行，從而使光屏蔽層12a通過形成柵極總線的同一過程形成。通 艦用這種構造，可以在ITT鎌10上形成光屏蔽層12a，而不增加生產(chǎn)步驟 的數(shù)量。
在短邊SE2上，存儲電容線的主線用于為存儲電容供纟舒頁定信號，戶脫存 儲電容為各個像素設置，備用線用于修正己斷的任何信號線的電連接。這種主 線或備用線相對厚，由此能夠用作光屏蔽層。通常，存儲電容線的主線和備用 線由構成柵極總線的相同導電層構成，并且由形成柵極總線的同一過程形成。 因此，由于在液晶顯示屏板的短邊存在用于形成光屏蔽層的高的設計自由度， 因此!M方式是在短邊上形成任何密封連接部分。
具體而言，通過下面的過程倉,制造TFT基板。
在玻璃基板ll上，ffiil利用濺射裝置產(chǎn)生Ti/Al/TiN堆疊薄膜。通過諸如光 刻工藝和干蝕刻的蝕刻工藝，形成柵極總線和柵極電極，并且光屏蔽層12a也 同時形成。例如，在存儲電容線將與柵極總線等一起同時形成的情況下，存儲 電容線的主線可以設置在短邊SE2，由此使得可以利用存儲電容線的主線作為 光屏蔽層12a。
其次，在這些層上，Mil等離子CVD技術生成氮化硅(SiNx)等柵極絕緣 薄膜13。之后，形成諸如TFT的有源元件。此外，通過利用濺射裝置生成 Ti/Al/HN堆疊薄膜，并且通過諸如光亥江藝和干蝕亥啲蝕亥'j工藝，形成源極總 線和漏電極。
然后，通過旋涂技術等形成諸如透明樹脂的絕緣保護薄膜15。在絕緣保護 薄膜15中，制造用于在其上將形成的像素電極與漏電極之間建立接觸的接觸
孔，并且制造用于形，儲電容的通 L。在絕緣保護薄膜is上，通iait生成
透明電極(例如，rro)，并且M光亥iJ工藝和蝕刻工藝形成像素電極。
例如，濾色片對反可以如下制造。
通過干式薄膜技術、旋涂技術、噴墨技術等，光屏蔽層形成在對應于RGB (紅、綠、藍)的濾色片的玻璃基板21的區(qū)域以及其它必要的區(qū)域內(nèi)，RGB (紅、綠、藍)的濾色片與TFT Sl反的像素對應。由于光屏蔽層ffiii利用黑色 可光致固化樹脂形成，因此透光部分(凹部和/或開口)能夠在形成圖案期間通過相同的工藝形成。
其次，將參照圖8A、 8B、 8C、 8D、 9A、 9B、 9C、 9D、 IOA、 IOB、 10C
描述在沿短邊SE1 應于柵極總線端子部分GB1的區(qū)域中設置透光部分的情 況下的光屏蔽層的示例性結構。圖8A至8C是描述在沿短邊SE1在對應于柵極 總線端子部分GB1的區(qū)域中將設置透光部分的情況下的光屏蔽層的示例性結構 的示意圖。圖8A是平面圖；圖8B是沿圖8A中的線8B-8B'的剖視圖；圖8C 是沿圖8A中的線8C-8C'的剖視圖；以及圖8D是沿圖8A中的線8D-8D怖剖視 圖。圖9A至9C是描述另一示例性結構的示意圖。圖9A是平面圖；圖9B是 沿圖9A中的線9B-9B'的剖視亂圖9C是沿圖9A中的線9C-9C'的剖視圖；以 及圖9D是沿圖9A中的線9D-9D'的剖視圖。圖10A至10C是描述又一示例性 結構的示意圖。圖10A是平面圖；圖10B是沿圖10A中的線IOB-IOB'的剖視 圖；圖10C是沿圖10A中的線10C-10C'的剖視圖。
柵極總線12b形成在TFT SM 10的玻璃SM上。柵極總線12b用作光屏蔽 層。然而，在形成如圖8A所示的凹部22a的情況下，光將在柵極總線12b之間 穿過。因此，如圖8D所示，與源極總線在同一層高度中的導電層14a用于形成 用于確保在柵極總線12b之間的空隙中光屏蔽的光屏蔽部分14a?？梢砸耘c柵極 總線12b交疊的單個光屏蔽層的形式構造光屏蔽部分14a和{對可其間的空隙。 然而，在這種光屏^MM柵極絕緣薄膜13與柵極總線交疊的情況下，可能由 于異物等出現(xiàn)絕緣不充分的問題，在一些情況下，在柵極總線之間可能發(fā)生短 路。因此，從產(chǎn)量的觀點，優(yōu)選方式是，形成對應于柵極總線12b之間的空隙 的離散光屏蔽部分14a，因此在產(chǎn)生的光屏蔽層和柵極總線12b之間沒有交疊。
如圖9A中所示，多個凹部22b可以設置為與柵極總線12b相對。在這種情 況下，單獨用柵極總線12b能夠實現(xiàn)充分的光屏蔽，由此提供簡化的結構的優(yōu) 點。
如圖10A中所示，可以設置多個凹部22b'和多個開口 22c'并且開口 22c'與柵 極總線12b相對，并且光屏蔽層14a可以設置為與凹部22b對應。結果，穿過 透光部分的光旨灘被屏蔽。
其次，將參照圖IIA、 IIB、 IIC、 IID、 12A、 12B、 12C、 12D、 13A、 13B、 13C描述在沿長邊LE1 應于源極總線端子部分SB1的區(qū)域中將設置 透光部分的情況下的光屏蔽層的示例性結構。圖IIA至11C是描述在沿長邊LE1在對應于源極總線端子部分SB1的區(qū)域 中將設置透光部分的情況下的光屏蔽層的示例性結構的示意圖。圖11A是平面 圖；圖11B是沿圖11A中的線11B-11B怖剖視圖；圖11C是沿圖11A中的線 11C-IIC的剖視圖；以及圖11D是沿圖11A中的線IID-IID怖剖視圖。圖12A 至12C是描述另一示例性結構的示意圖。圖12A是平面圖；圖12B是沿圖12A 中的線12B-12B'的剖視圖；圖12C是沿圖12A中的線12C-12C的剖視圖；以及 圖12D是沿圖12A中的線12D-12D'的剖視圖。圖13A至13C是描述又一示例 性結構的示意圖。圖13A是平面圖；圖13B是沿圖13A中的線13B-13B'的剖視 圖；圖13C是沿圖13A中的線13C-13C的剖視圖。
源極總線14b形i^S TFT基板10的玻璃基板11上。源極總線14b用作光 屏蔽層。然而，在如圖11A所示形成凹部22a的情況下，光將穿過源極總線 14b之間。因此，如圖11D所示，與柵極總線12b在同一層高度中的導電層12a 用于形自于確保在源極總線14b之間的空隙中光屏蔽的多個光屏蔽部分12a。 可以以與源極總線14b交疊的單個光屏蔽層的形式構造光屏蔽部分12a和任何 其間的空隙。然而，由于上述原因，從產(chǎn)量的觀點，優(yōu)選方式是，形成對應于 源極總線14b之間的空隙的離散光屏蔽部分12a。盡管圖11D示出了光屏蔽部 分12a在柵極絕緣薄膜13之下形成，而源極總線14b形 柵極絕緣薄膜上的 例子，但是這不是淮一的可能結構。例如，依TFT的形成過程，可以具有下述 情況，有源區(qū)域(顯示區(qū)域)內(nèi)的源極總線在連接至贓框架區(qū)域中的源端子部 分之前連接到柵極金屬(即構成柵極總線的導電材料)，由此通過柵極金屬實 現(xiàn)源極端子部分中的線。在這種情況下，盡管線14b和光屏蔽部分12a之間相 對于柵極絕緣薄膜13的堆疊關系(即哪一個線在另一個之上)將與圖11D中所 示的情況相反，但將仍然能夠獲得，效果。任何其它實施方式也是這樣。
如圖12A所示，多個凹部22b可以設置為與源極總線14b相對。在這種情 況下，只用源極總線14b就能夠實現(xiàn)充分的光屏蔽，因此提供簡化的結構的優(yōu) 占。
y 、、、 0
如圖13A中所示，可以設置多個凹部22b'和多個開口 22c'并且開口 22c'與源 極總線14b相對，而光屏蔽層12a可以設置為與凹部22b'對應。結果，穿^3t 光部分的光能夠被屏蔽。
在利用根據(jù)本發(fā)明生產(chǎn)方法的液晶顯示屏板生產(chǎn)17"SXGA型液晶顯示屏板的情況下，例如，下面的結構可以是雌的。
圖14是描述在17"SXGA型液晶顯示屏板中密封部分32和包括凹部22a的 光屏蔽層22的示意圖。
如圖14中所示，在該例子中采用了具有如圖1中所示的凹部22a的結構。 該液晶顯示屏板與圖4中所示的液晶顯示屏板具有相同的結構，凹部22a設置 在短邊SE2上。設置在TFT 上的存儲電容的主線被用于凹部22a內(nèi)的光屏 蔽°
在光屏re22A的周邊和切割線之間的間隙Ws是2.3 mm。凹部22a的深 度D是0.3 mm，長度W是10.0 mm。光屏,22A的寬度(在除了凹部22a 意外的區(qū)域內(nèi))是大約3mm。下面描 用這種尺寸的原因。
曾發(fā)現(xiàn)，當在使用的特定分配器上設定1.2 mm的密封寬度(即主伸展32a 的寬度)時，將產(chǎn)te0,3mm的變化。分配器的噴嘴的定位精度fe0.15mm。 基于母繊的切割精度確定大約士 0.2 mm的邊緣部分。因此，基于1.2 mm+0.3 mm+ (0.15 mmx2)+0.2 mm,從光屏蔽層22A的周邊到切割線的間隙Ws必須 是2mm或更大。在該特定的例子中，Ws設定為2.3mm。
密封連接部分32b的寬度具有大約2.1 mm的最大值。其中加上了噴嘴的定 位精度0.15mmx2，并且此外考慮到切割邊緣部分0.2 mm，從光屏,22A的 周邊到在凹部22a的切割線的間隙設定為2.6 mm。換句話說，凹部22a的"深 度"設定為0,3誦。
此外，由于任何角部會比主伸展32厚0.1mm至0.15mm，光屏蔽層在每一 個角部凹入0.15的"深度"，而密封圖案被繪制為在光屏蔽層的周邊和切割線 之間的最小間隙等于2.45mm (見圖3A)。
在液晶顯示屏板的構造中，如參照圖2己經(jīng)戶，，對CF母基板20執(zhí)行密
封纟魏ij。然后，通過已知的方法，液晶材料m滴下式注入技術滴落到CF母基
板20上。在TFT母繊10在預定的位置連接至U其上之后，從濾色片對反側執(zhí) 行UV輻射，以固化密封劑。在以幾J/cn^執(zhí)行UV輻射之后還通過在120°C執(zhí) 行熱固一小時補充密封劑的固化。
產(chǎn)生的液晶顯示屏板在切割期間沒有出現(xiàn)切割失效，并且沒有觀察到穩(wěn)定 性的退化，例如由于密封劑的固化失效或方位偏轉引起的電壓保持率的降低。 此外，沒有觀察到由于通過凹部光泄露引起的顯示質量降低。ilil采用涉及將液晶材料滴落到CF母M 20上，連接TFT母基板10和 從下面(即從CF母繊20側)進行光輻射的過程，可以執(zhí)行從密封g魏倒光 輻射的所有步驟，同時保持CF母基板20在顯示屏板的下側(而承載濾色片的 表面朝上)，由此使得可以使用簡單的裝置和過程。
對于圖1C和ID中所示的圖案，當用于固化密封劑的光輻射僅僅從基板的 一個的側面執(zhí)行時，依透光部分的面積比可能延長實現(xiàn)充分固化所需要的輻射 時間(偶爾三倍或更高)。
另一方面，上述結構的特點是設置在CF ^^及的光屏蔽層中的多個凹部或開 口，其中源極總線和/或柵極總線等用作選擇性地屏蔽穿過凹部或開口的光的 TFT基板的光屏蔽層，由此可以也從TFT 側進行密封劑的光輻射，因為光 被允許穿過源極總線和/ 極總線之間的間隙。因此M31確保TFT ^t反側的光 屏蔽層包括對應于在CF基板的光屏蔽層中的凹部或開口之間或圍繞凹部或開口 的周邊的透光部分，可以從兩個基板的側面進行密封劑的光輻射。結果，能夠 降低用于密封齊睏化所需要的輻射時間。
作為用于從顯示屏板的兩側執(zhí)行光輻射的方法，光源可以簡單地分別設置 在顯示屏板之上和之下。作為選擇，用于翻轉顯示屏板的機構可以設置用于所 使用的裝置；在這種情況下，光輻射時間將是在從顯示屏板的兩側進行輻射的 情況所需要最小輻射時間的大約兩倍，但將仍然比僅僅從顯示屏板的一側進行 輻射的情況所需要輻射時間短。 一些密封材料能夠從每一個開口的邊緣朝向光 屏蔽部分在大約幾十微米的距離上光固化，由此 方式是利用這種材料。
凹部或開口的圖案不限于帶，而可以是如圖1D中所示的網(wǎng)孔圖案。盡管圖 1D描述了由圓形開口組成的網(wǎng)孔陣列，但是開口的形狀不限于圓形，而可以是 例如矩形。圖案的一部分可以形成圓角或包括彎曲。特別是，在光屏蔽由在 TFT基板上的信號線實現(xiàn)的情況下，可能信號線的形狀受到涉及的約束。由
此，i^方式M用開口圖案作為線圖案。
作為用于封密固化的光輻射裝置，具有釆用反射鏡等以使不僅在顯示屏板 的正常方向而且在傾斜方向也能夠進行光輻射的已知裝置。通過采用這種能夠 也從傾斜方向進行光輻射的，，即使在CF基板的光屏蔽層和TFT基板的光 屏蔽層之間具有稍稍的交疊也可以獲得密封劑的充分固化。例如，以及得到實 驗證實，即使具有大約與在基板之間的間隙一樣大的交疊，產(chǎn)生的液晶顯示屏板在與沒有交疊的情況下相同的輻射條件(輻射強度和輻射時間)下被輻射后 也不展現(xiàn)穩(wěn)定性的顯著差異。
其次，將描述過渡部分(即在一個基板上的電極的電位轉移到包括用于提 供至拼部的連接的端子的另一個基板上的電極的部分)可能出現(xiàn)的問題。下面 將針對共用的轉移部分描述示例問題，該共用轉移部分是構鵬于將CF繊上
的反電極(也稱為"共用電極")連接到TFT基板上的端子的路徑的類型的轉
移部分。
圖15A和15B示意示出了通常采用的TFT液晶顯示屏板布置。圖15B示出 了 TFT液晶顯示屏板的單個像素的等效電路。
如圖15B中所示，艦用柵極總線63驅動TFT64，而源極總線62連接到 TFT64，預定的信號電壓施加到像素電極65。像素電極65與共用電極66相 對，而液晶層40置于其間，由此構成液晶電容(電容器)。當信號電壓通過 TFT64橫跨液晶層40施加時，改變液晶層40的光學特性，由此顯示屏板用作 顯示器驢。
形成在朝向液晶層40的CF基板20的表面上的共用電極66具有其M31共 用轉移部分60轉移到TFT 10'側的電位，由此連接到共用電極端子66a。 如圖15A中所示，源極總線62a和柵極總線端子63a設置在TTFT基阪IO怖非顯 示區(qū)域中。通常，共用電極端子66a和源極總線62a將設置在顯示屏板的相同 邊(即四個邊中的一個邊)。
作為構成共用轉移部分的轉移材料，使用包含可光致固化樹脂和導電顆粒 的轉移材料。例如，導電顆?？梢允橇６葹榇蠹s4至10微米的金屬顆?；蚱渖?具有金屬涂層的顆粒狀珠子。作為將包含在轉移材料中的可光致固化樹脂，使 用類似于密封劑中使用的樹脂的可 固化樹脂。
在利用包含可光致固化樹脂的轉移材料形成共用轉移部分的情況下，框架 區(qū)域需要足夠寬，以提供用于允許共用轉移部分用光輻射的透光區(qū)域。由此， 每一個共用轉移部分可以制造為至少部分與密封部分交疊。然而，即使每一個 共用轉移部分將形成在密封部分內(nèi)，密封部分的寬度也在密封部分包含共用轉 移部分處變得更厚，再一次導致較大框架區(qū)域的問題。
下面將參照圖16A至16D描述該問題。在上文描述中出現(xiàn)的任何構^;件 將由相同的標號表示，并且這里將省略其描述。共用轉移部分60設置在密封部分32的附近，以將CF基板(未示出)上的 反電極(未示出)電連接到TFT 上的共用墊60a。如圖16D中所示，如果 共用轉移部分60設置在遠離密封部分32的位置，非顯示區(qū)域(框架區(qū)域)必 須具有較寬的寬度。因此，如圖16A至16C中所示，普通的實踐是允許共用轉 移部分60至少部分與密封部分32交疊。然而，在圖16A至16C中所示的任何 一種情況下，密封劑將由共用轉移部分60推出，由此導致密封圖案的寬度加寬 的部分32c (也可稱作"共用轉移密封部分")。因此，存在下述問題，即對以 于上^接部分32b，共用轉移密封部分32c的寬度比主伸展32a (例如，見圖 1)的寬度更寬。
因此，根據(jù)該實施例，透光部分(凹部或開口)設置在基板的光屏蔽部分 中，從該Slfcim行用于固化共用轉移密封部分32c的光輻射。
圖17A和17B是描述根據(jù)本發(fā)明實施例的液晶顯示屏板中的共用轉移部分 的結構的示意圖。圖17A是平面圖；而圖17B是圖17A中沿線17B-17B'的剖視 圖。
濾色片基板20包括在更接近顯示區(qū)域的端部設置在非顯示區(qū)域內(nèi)的第一光 屏蔽層22A。第一光屏蔽層22A包括接近外部邊界設置的凹部(透光部分) 22a。允許密封部分32的寬度在光屏蔽層22A的凹部22a變得更寬。假定光屏 M 22A的凹部22a具有充分的寬度和長度，如果共用轉移密封部分32c形成 在凹部22a內(nèi)，即使當共用轉移密封部分32c具有增加的寬度，共用轉移密封 部分32c也將不與光屏蔽層22A交疊。因此，如圖17B中所示，即使UV輻射 從濾色片基板20的后面?zhèn)冗M行也能充分固化密封劑。只要密封劑受到充分的光 輻射，透光部分不限于凹部22a。例如，如在圖lC中所示的光屏re22B中， 可以提供包含多個微小凹部22b的帶。作為選擇，如在圖1D中所示的光屏蔽層 22C中，可以設置多個微小開口 (孔)22c，或如在上述實施例中，可采用任何 其它形狀。
其次，將描述其中密封部分的寬度的加寬本身受到抑制的實施例。在下述 實施例中，寬間隙區(qū)域，即其中CF Sfe和TFT g^及之間的間隙局部增加的區(qū) 域，設置在液晶顯示屏板的非顯示區(qū)域內(nèi)。密封圖案的寬度預期增加的任何部 分形成在該寬間隙區(qū)域內(nèi)，由此抑制了密封圖案的加寬。寬間隙區(qū)域通過在朝 向液晶層的CF基板或TFT基板的表面上形成凹陷而產(chǎn)生。當轉移材料或密封劑涂覆到這種凹陷時，密封劑在顯示區(qū)域的擴散被抑制，因為凹陷構成了寬間 隙區(qū)域。
具有各種用于在基板表面上形成凹陷的方法。例如，在樹脂薄膜將形成在 TFT基板上的情況下，可以在樹脂薄膜中在預定的位置形成凹陷或通孔。例
如，這種樹脂薄膜可以用于形働每設置在形成在TFT對反上的TFT或信號線和 像素電極之間的間層絕緣薄膜。作為選擇，也可以利用各種將形成在濾色片基 豐^h的樹脂層(例如，彩色樹脂層)。
下面將描Mii利用作為層間絕緣薄膜形成在TFT 上的樹脂層產(chǎn)生寬 間隙區(qū)域的例子。盡管上述共用轉移密封部分32c將描述為密封部分加寬的可 能地點，但是將理解，同一原理可廣泛應用于密封圖案的寬度被期望增加處的 密封部分的任何部分，例如連接部分或角部。此外，寬間隙區(qū)域可以與任何其 中如上述實施例中所示光屏蔽層包括透光部分的結構結合使用。
圖18A、 18B、 18C和18D是每一個都描述根據(jù)本發(fā)明實施例的液晶顯示屏 板中的共用轉移密封部分的結構的示意圖。圖18A、 18C和18D是平面圖；而 圖18B沿圖18A中的18B-18B'的剖視圖。
如圖18A中所示，樹脂層61設置在密封部分32上，而通孔61a形成在與 共用轉移部分60對應的樹脂層61的部分處。通孔61a限定了寬間隙區(qū)域。盡 管描述了通孔61a的尺寸類似于共用墊60a的例子，但是本實施例不限于此。
以密封部分32在間隙等于由液晶顯示屏板的設計確定的間隙值(即液晶層 的厚度)的任何部分呈預定線寬的方式，涂敷密封劑，從而形成密封部分。由 于通孔61a，形成共用轉移密封部分32c的區(qū)域中的間隙增加的距離等于柳旨層 61的薄膜厚度。由于以線狀正被涂敷的密封劑具有恒定的截面面積，因此密封 寬度在樹脂層61中的通 L 61a處將變得相對較小；例如，如果不是由于共用轉 移部分60，密封的線寬將如圖18C所示在凹陷(通孔61a)斷氐。當涂敷共用 轉移物質時，密封劑由于共用轉移物質的體積支配而擴散，由于產(chǎn)生圖18A中 所示的結構。
例如，共用轉移密封部分32c在以下面的條件進行的實驗例子中最大寬度 是1100微米樹脂層的薄膜厚度是2.5微米；密封部分32的寬度是大約1000 ;密封部分在存在樹脂層處的間隙是5.5微米；樹脂層中的通 L61a的寬度 是1200微米；以及共用轉移部分60的目標直徑(在不存在密封的理論情況下)是500微米。
，方式是，本實施例的柳旨層60中的通孔61a的寬度大于共用轉移部分 60的直徑或主密封部分(主伸展)的寬度的最大值。在柳旨層中不制3t31孔的 類似的實驗中，共用轉移密封部分呈大約1400 的最大寬度。由此，根據(jù)本 發(fā)明的實施例，包括共用轉移部分60的共用轉移密封部分32c的寬度與傳統(tǒng)的 情況相比斷氐了 300 mXe。光屏蔽層的凹部22a的寬度的300 的斷氐表明 與上述實施例相比可制itiS—步變窄的框架區(qū)域。
此外，在共用轉移部分60的目標直徑(不存在密封部分的理i侖瞎況下)設 定為400〗 的情況下，共用轉移密封部分32c具有大約1000 的最大線 寬。在這種情況下，由于最大線寬等于主密封部分32的寬度(1000微米)，因 此如圖18D中的示例可省略光屏蔽層22A中的凹部22a。
樹脂層61中的通 L61a不必如此寬以包圍密封部分的整個寬度。這點將參 照圖19A、 19B、 19C和19D進行描述。
圖19A、 19B、 19C和19D是每一個都描述根據(jù)本發(fā)明另一實施例的液晶顯 示屏板中的共用轉移密封部分的結構的示意圖。圖19A、 19C和19D是平面 圖；而圖19B沿圖19A中的19B-19B'的剖視圖。
例如，S卩使在樹脂層61中的通 L 61a如圖19A所示僅僅延伸密封的一部分 的寬度也能獲得充分的效果。這種結構在共用轉移部分的最終直徑小于密封部 分的寬度的情況下特別有效。原因是在這種情況下，可以忽略由于共用轉移部 分60朝向樹脂層61缺少通 L的一側(或凹陷)61a (即從圖19中的顯示區(qū)域 朝向相對側)推出密封劑弓胞的任何寬度增加。
在用于另一 目形成的樹脂層方便地用作上述樹脂層并且必須具有較大薄膜 厚度的情況下，增加通孔61a頓使密封部分的寬度太薄。然而，如圖19A中 所示的結構能夠消除這種問題并且獲得充分的密封寬度。注意，過薄的密封寬 度可導致與密封部分強度不充分的問題。
圖20是描述樹脂層61的厚度(通孔61a的深度)和降低密封部分32的寬
度的效果之間的關系的曲線。
從圖20中可以看出，當樹脂薄膜厚度較大(即寬間隙區(qū)域的間隙較寬)并 且主密封寬度較大時獲得更好的效果。在簡單的模擬中，線寬降低效果可通過 下面的等式表示{(主密封寬度X主密封部分的間隙)/ (主密封部分的間隙+樹脂中的凹陷的 深度)}+共用轉移直徑-(共用轉移直纟^主密封線寬度)。
用在上述等式中的"共用轉移直徑"是共用轉移物質沒有與密封接觸的情 況下的共用轉移物質的最終直徑。盡管上述模擬等式不考慮共用轉移物質的形 狀并且由此將不精確匹配實際結果，但是將獲得實質上對以的效果。
為了實際獲得上述效果，優(yōu)選方式是，在寬間隙區(qū)域中的間隙應當大于密 封部分的間隙(即除了寬間隙區(qū)域以外的密封部分的任何區(qū)域的間隙)至少大 約10%,因為在生產(chǎn)期間發(fā)生的線寬的變化必須在一定程度上被吸收。盡管上
述例子示出了通孔61a設置在樹脂層61中的例子，可以代替通孔設置凹陷 (孔)。例如，凹陷可以利用光敏樹脂(感光性樹脂)通過半曝光技術形成。 當凹陷將禾傭正型光敏樹脂通過半曝光技術形成時，在達到實現(xiàn)全部光分解的 輻射之前進行曝光和顯影，從而形成凹陷(孔)。另一方面，在利用負型光敏 樹脂的情況下，在達到實現(xiàn)完全光固化的輻射時間之前進行曝光和顯影，以形 成凹陷(孔)。通過半曝光技術形成凹陷提供了凹陷深度可控制的優(yōu)點。注 意，在設置在光敏樹脂層之上和之下的導電層之間的泄漏不能容許的情況下通 孔不許在光敏樹脂層中形成；在這種情況下，與完全的通孔相反，形成孔(凹 陷)適合。
其中形成通孔或凹陷(孔)的層不限于間層絕緣薄膜，而也可以是用于形 成黑色陣列的樹脂層或保護樹脂層。如果使用光敏樹脂層，通孔或凹陷可通過 簡單的工藝形成。作為選擇，可以使用無機材料層，盡管這將使形成深通孔或 凹陷困難。當考慮到諸如密封寬度變得太薄的缺點時，通常優(yōu)選方式是，形成 在表面中的任何凹陷的深度在大約1 至大約3〗M的范圍內(nèi)。
優(yōu)選方式是，規(guī)定樹脂層中通孔或凹陷的尺寸(即寬間隙區(qū)域的尺寸)小 于共用轉移區(qū)域的最終寬度的最大值。在圖19A至19D中所示的實施例中，密 封部分的寬度的減薄能夠也基于通 L 61a的圖案和布置控制，從而可從較寬的 范圍選擇最優(yōu)結構。例如，在通 L 61a的邊緣位于沿寬度方向的密封部分32的 中心的外部300微米的位置的情況下，在與上述情況相同的情況下證實了類似 的效果。優(yōu)選方式是，通孔61a的邊緣位于某一位置，以便即使給定處理變化 密封部分具有最小線寬的情況下，密封部分的外部邊緣也落AS L 61a中。
根據(jù)本發(fā)明，提供了一種方法，即使部分形成在液晶顯示屏板內(nèi)該方法也能有效地生產(chǎn)具有不降低可靠性的液晶顯示屏板，所述部分在傳統(tǒng)的生產(chǎn)方法 下將導致厚密封圖案寬度(例如，密封連接部分或轉移部分)。特別是本發(fā)明 可以M使用滴下式注入技術有效地生產(chǎn)大尺寸液晶顯示屏板。
盡管針對優(yōu)選實施例描述了本發(fā)明，但是對于本領域所述技術人員而言很 明顯，所披露的發(fā)明可以以多種方式進行修改并且可以呈現(xiàn)許多實施方式，而 不是上面具體描述的實施方式。因此，權利要求旨在覆蓋落入本發(fā)明的真實精 神和范圍內(nèi)的所有對本發(fā)明的修改。
權利要求
1、一種用于生產(chǎn)液晶顯示屏板的方法，該液晶顯示屏板包括第一基板、第二基板和置于第一基板和第二基板之間的液晶層，所述液晶顯示屏板具有顯示區(qū)域，圍繞顯示區(qū)域的非顯示區(qū)域，和在非顯示區(qū)域內(nèi)的寬間隙區(qū)域，所述寬間隙區(qū)域是其中第一基板和第二基板之間的間隙局部增加的區(qū)域，所述寬間隙區(qū)域包括在第一基板或第二基板的表面中的凹陷，所述方法包括以下步驟(A)提供第一基板或包含第一基板的第一母基板，和第二基板或包含第二基板的第二母基板，其中第一基板包括在更接近顯示區(qū)域的端部設置在非顯示區(qū)域內(nèi)的第一光屏蔽層；(B)利用包含可光致固化樹脂的密封劑繪制密封圖案，所述密封圖案被繪制在具有凹陷的第一基板的第一光屏蔽層外部，或所述密封圖案被繪制在當具有凹陷的第二基板連接到第一基板時將位于第一基板的第一光屏蔽層外部的第二基板的區(qū)域內(nèi)，所述密封圖案被繪制為圍繞顯示區(qū)域，繪制密封圖案包括下面的子步驟(B1)在接近第一基板或第二基板的凹陷開始密封劑的涂覆，(B2)沿第一基板的第一光屏蔽層的外周，或沿對應于第一基板的第一光屏蔽層的外周的第二基板上的區(qū)域涂覆密封劑；以及(B3)形成與已經(jīng)接近所述凹陷涂覆的密封劑的連接部分；(C)在由密封劑圍繞的顯示區(qū)域內(nèi)涂覆液晶材料；(D)將第一基板和第二基板連接在一起，而液晶材料置于它們之間；以及(E)在步驟(D)之后，進行光輻射，以固化密封劑。
2、 一種用于生產(chǎn)液晶顯示屏板的方法，該液晶顯示屏板包括第一基 板、第二基板和置于第一基板和第二基板之間的液晶層，所述液晶顯示 屏板具有顯示區(qū)域，圍繞顯示區(qū)域的非顯示區(qū)域，和在非顯示區(qū)域內(nèi)的 寬間隙區(qū)域，所述寬間隙區(qū)域是其中第一基板和第二基板之間的間隙局 部增加的區(qū)域，所述寬間隙區(qū)域包括在第一基板或第二基板的表面中的凹陷，所述方法包括以下步驟(A) 提供第一基板或包含第一基板的第一母基板，和第二基板或包 含第二基板的第二母基板，其中第一基板包括在更接近顯示區(qū)域的端部 設置在非顯示區(qū)域內(nèi)的第一光屏蔽層；(B) 利用包含可光致固化樹脂的密封劑繪制密封圖案，所述密封圖 案被繪制在具有凹陷的第一基板的第一光屏蔽層外部，或所述密封圖案 被繪制在當具有凹陷的第二基板連接到第一基板時將位于第一基板的第 一光屏蔽層外部的第二基板的區(qū)域內(nèi)，所述密封圖案被繪制為圍繞顯示 區(qū)域；(B')將包含可光致固化樹脂的轉移材料涂覆到第一基板或第二基 板，形成用于在第一基板和第二基板之間建立電連接的轉移部分，轉移 材料涂覆在凹陷中；(C) 在由密封劑圍繞的顯示區(qū)域內(nèi)涂覆液晶材料；(D) 將第一基板和第二基板連接在一起，而液晶材料置于它們之 間；以及(E) 在步驟(D)之后，進行光輻射，以固化密封劑。
3、 根據(jù)權利要求2所述的液晶顯示屏板生產(chǎn)方法，其中步驟(B)包括 子步驟(Bl):從第一基板或第二基板的凹陷開始涂覆密封劑。
4、 根據(jù)權利要求2所述的液晶顯示屏板生產(chǎn)方法，還包括形成凹陷的步 驟，其中形成凹陷的步驟包括在正型或負型的光敏樹脂層中形成通孔或 孔的子步驟。
5、 根據(jù)權利要求4所述的液晶顯示屏板生產(chǎn)方法，還包括形成凹陷的步 驟，其中形成凹陷的步驟包括通過利用半曝光技術在光敏樹脂層中形成 孔的子步驟。
6、 一種液晶顯示屏板，包括第一基板、第二基板，置于第一基板和 第二基板之間的液晶層，圍繞液晶層的密封部分，以及用于在第一基板 和第二基板之間建立電連接的轉移部分，所述液晶顯示屏板具有顯示區(qū) 域和圍繞顯示區(qū)域的非顯示區(qū)域，其中，所述液晶顯示屏板包括在非顯示區(qū)域內(nèi)的寬間隙區(qū)域，所述寬間隙 區(qū)域是其中第一基板和第二基板之間的間隙局部增加的區(qū)域，所述寬間隙區(qū)域包括在第一基板或第二基板的表面中的凹陷； 轉移部分設置在凹陷中。
7、 一種液晶顯示屏板，包括第一基板、第二基板，置于第一基板和 第二基板之間的液晶層，以及圍繞液晶層的密封部分，所述液晶顯示屏 板具有顯示區(qū)域和圍繞顯示區(qū)域的非顯示區(qū)域，其中，所述液晶顯示屏板包括在非顯示區(qū)域內(nèi)的寬間隙區(qū)域，所述寬間隙 區(qū)域是其中第一基板和第二基板之間的間隙局部增加的區(qū)域，所述寬間 隙區(qū)域包括在第一基板或第二基板的表面中的凹陷；以及密封部分的一部分設置在凹陷中。
8、 根據(jù)權利要求6所述的液晶顯示屏板，其中凹陷包括形成在正型或負 型的光敏樹脂層中的通孔或孔。
全文摘要
本發(fā)明的方法包括以下步驟(A)提供第一基板和第二基板，其中第一基板包括設置在非顯示區(qū)域內(nèi)的第一光屏蔽層，第一光屏蔽層包括接近第一光屏蔽層的外部邊界設置的透光部分，透光部分包括凹部或開口；(B)利用密封劑繪制密封圖案，所述密封圖案被繪制在第一光屏蔽層外部，以圍繞顯示區(qū)域，繪制密封圖案包括以下子步驟(B1)在接近透光部分開始密封劑的涂覆，(B2)沿第一光屏蔽層的外周涂覆密封劑；以及(B3)形成與已經(jīng)接近透光部分涂覆的密封劑的連接部分；(C)在密封劑圍繞的顯示區(qū)域內(nèi)涂覆液晶材料；(D)將第一基板和第二基板連接在一起；及(E)從第一基板側進行光輻射，以固化密封劑。
文檔編號G02F1/1339GK101424831SQ20081018460
公開日2009年5月6日 申請日期2005年7月12日 優(yōu)先權日2004年7月15日
發(fā)明者山口英彥, 山田直, 津幡俊英, 辻雅之, 黑住幸生 申請人:夏普株式會社