專利名稱：濾光器及其制造方法和具有該濾光器的等離子體顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
示例實(shí)施例涉及一種濾光器、 一種制造該濾光器的方法和一種具有該濾 光器的等離子體顯示裝置。更具體地講，示例實(shí)施例涉及一種厚度減小且透 射率高的濾光器、 一種制造該濾光器的方法和一種具有該濾光器的等離子體
顯示裝置。
背景技術(shù)：
作為平板顯示裝置的等離子體顯示裝置可以通過(guò)放電現(xiàn)象(即，通過(guò)產(chǎn) 生等離子體放電)而激發(fā)磷光體發(fā)光來(lái)顯示圖像和文本。與例如陰極射線管 (CRT)顯示裝置相比，等離子體顯示裝置可以具有大尺寸和減小的厚度。
在放電現(xiàn)象過(guò)程中，等離子體顯示裝置會(huì)由于高電壓而在等離子體顯示 面板(PDP)中產(chǎn)生電磁輻射和近紅外輻射。電磁輻射和近紅外輻射從PDP 到周圍環(huán)境(即，等離子體顯示裝置的外部環(huán)境)的發(fā)射可能對(duì)人體造成損 害、引發(fā)電子設(shè)備的故障并且使圖像品質(zhì)失真，例如，近紅外光可以通過(guò)降 低發(fā)射的光的色純度而降低圖像品質(zhì)。因此，PDP可能需要濾光器。
傳統(tǒng)的濾光器可以安裝在PDP的表面上，所以電》茲輻射和近紅外輻射從 PDP到周圍環(huán)境的發(fā)射可以被最少化。傳統(tǒng)的濾光器可以包括在基底上的多 個(gè)堆疊的層。例如，傳統(tǒng)的濾光器可以包括吸收層、反射防止層和電磁波屏 蔽層，并且在每?jī)蓚€(gè)連續(xù)的層之間具有粘附層。
然而，由于傳統(tǒng)的濾光器可以包括多個(gè)堆疊的層(即，多個(gè)功能層并且 在多個(gè)功能層之間具有粘附層)，所以傳統(tǒng)濾光器的重量和厚度可能相對(duì)大。 此外，由于傳統(tǒng)的濾光器可以與PDP的表面分隔開，例如，粘附層可以位于濾光器和PDP之間，所以可能在PDP和濾光器之間的界面上形成由于多次反 射造成的重復(fù)圖像，從而會(huì)使PDP的圖像品質(zhì)失真。另外，在傳統(tǒng)的濾光器 中，外部光從PDP的反射的減少會(huì)受到限制。

發(fā)明內(nèi)容
因此，示例實(shí)施例旨在提供基本上克服了現(xiàn)有技術(shù)的一個(gè)或多個(gè)缺點(diǎn)的 一種濾光器、 一種制造該濾光器的方法和一種具有該濾光器的等離子體顯示裝置。
因此，示例實(shí)施例的特征在于提供一種重量減輕且厚度減小的濾光器。 示例實(shí)施例的另 一特征在于提供一種對(duì)吸光率的控制改進(jìn)的濾光器。 示例實(shí)施例的又一特征在于提供一種對(duì)光表現(xiàn)出高透射率和低反射率的
濾光器。
示例實(shí)施例的又一特征在于提供一種表現(xiàn)出最少化的重復(fù)圖像的濾光器。
示例實(shí)施例的又一特征在于提供一種制造具有上述特征中的一個(gè)或多個(gè) 特征的濾光器的方法。
示例實(shí)施例的又一特征在于提供一種具有濾光器的等離子體顯示裝置， 所述濾光器具有上述特征中的一個(gè)或多個(gè)特征。
本發(fā)明的以上和其他特征和優(yōu)點(diǎn)中的至少 一種可以通過(guò)提供一種濾光器 來(lái)實(shí)現(xiàn)，所述濾光器包括支撐層；吸收?qǐng)D案，位于支撐層的第一表面上， 所述吸收?qǐng)D案彼此之間具有預(yù)定間隔；粘附構(gòu)件，位于支撐層的第一表面上， 所述粘附構(gòu)件埋在吸收?qǐng)D案之間的預(yù)定間隔中。
濾光器還可包括位于支撐層和吸收?qǐng)D案之間的粘附圖案。濾光器還可包 括位于支撐層上且彼此之間具有預(yù)定間隔的電磁波屏蔽圖案，所述電磁波屏 蔽圖案位于支撐層和吸收?qǐng)D案之間。支撐層可以表現(xiàn)出大約80%至大約90% 的透射率和大約1%至大約20%的反射率。支撐層可以具有多層結(jié)構(gòu)，所述多 層結(jié)構(gòu)中的層具有不同的折射率。吸收?qǐng)D案可以包含丙烯酸類聚合物、聚酯 類聚合物、聚氨酯(PUR)類聚合物、天然橡膠(NR)類聚合物、聚丁二烯 橡膠(BR)類聚合物、硅酮類聚合物、聚醚砜(PES)、聚丙烯酸酯(PAR)、 聚醚酰亞胺(PEI)、聚萘二曱酸乙二酯(PEN)、聚對(duì)笨二曱酸乙二酯(PET)、 聚苯硫醚(PPS)、聚烯丙基化物、聚酰亞胺、聚碳酸酯(PC)、三乙酰纖維素(TAC)和醋酸丙酸纖維素(CAP)中的一種或多種。吸收?qǐng)D案可以包含 黑色基著色劑。吸收?qǐng)D案可以布置成條狀圖案或格子圖案。粘附構(gòu)件可以包 括表現(xiàn)出選擇性光吸收的著色劑。
粘附構(gòu)件可以僅僅位于吸收?qǐng)D案的側(cè)表面上，吸收?qǐng)D案的所述側(cè)表面不 與支撐層的第一表面平行。粘附構(gòu)件可以通過(guò)吸收?qǐng)D案而相互分開，粘附構(gòu) 件的第一表面背離支撐層且基本共面。粘附構(gòu)件可以彼此完全分開，每個(gè)粘 附構(gòu)件基本填充相鄰吸收?qǐng)D案之間的對(duì)應(yīng)的預(yù)定間隔。粘附構(gòu)件的第一表面 和吸收?qǐng)D案的第 一表面可以背離支撐層，粘附構(gòu)件的第 一表面和吸收?qǐng)D案的 第一表面基本共面。
本發(fā)明的以上和其他特征和優(yōu)點(diǎn)中的至少一種可以通過(guò)提供一種制造濾 光器的方法來(lái)實(shí)現(xiàn)，所述方法包括以下步驟在支撐層的第一表面上形成吸 收?qǐng)D案，所述吸收?qǐng)D案彼此之間具有預(yù)定間隔；在支撐層的第一表面上形成 粘附構(gòu)件，所述粘附構(gòu)件埋在吸收?qǐng)D案之間的預(yù)定間隔中?？梢栽谥螌拥?第一表面上形成粘附層之后形成吸收?qǐng)D案。所述方法還可以包括以下步驟 在支撐層的第一表面上順序地形成電磁波屏蔽層和吸收層；將吸收層和電磁 波屏蔽層圖案化以形成吸收?qǐng)D案和電磁波屏蔽圖案，支撐層的第一表面的部 分暴露在吸收?qǐng)D案和電磁波屏蔽圖案之間；在支撐層的第一表面的暴露部分 上沉積粘附構(gòu)件，所述粘附構(gòu)件與支撐層、吸收?qǐng)D案和電磁波屏蔽圖案直接 接觸。
本發(fā)明的以上和其他特征和優(yōu)點(diǎn)中的至少一種可以通過(guò)提供一種等離子 體顯示裝置來(lái)實(shí)現(xiàn)，所述等離子體顯示裝置包括等離子體顯示面板和位于等 離子體顯示面板上的濾光器，所述濾光器包括支撐層；吸收?qǐng)D案，位于支 撐層的第一表面上，所述吸收?qǐng)D案彼此之間具有預(yù)定間隔；粘附構(gòu)件，位于 支撐層的第一表面上，所述粘附構(gòu)件埋在吸收?qǐng)D案之間的預(yù)定間隔中。吸收 圖案可以位于支撐層和等離子體顯示面板之間，所述吸收?qǐng)D案直接面向等離 子體顯示面板。吸收?qǐng)D案可以與等離子體顯示面板直接接觸。


通過(guò)參照附圖詳細(xì)地描述示例性實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員而言， 上述和其他特征和優(yōu)點(diǎn)將變得更清楚，在附圖中 圖1示出了根據(jù)示例實(shí)施例的濾光器的透視圖；圖2示出了根據(jù)另 一 示例實(shí)施例的濾光器的透視圖； 圖3A至圖3C示出了在制造根據(jù)示例實(shí)施例的濾光器的方法中的連續(xù)步 驟的剖視圖4A至圖4C示出了在制造根據(jù)另 一 示例實(shí)施例的濾光器的方法中的連 續(xù)步驟的剖視圖5示出了具有根據(jù)示例實(shí)施例的濾光器的等離子體顯示裝置的局部分 解透視圖。
具體實(shí)施例方式
現(xiàn)在，將在下文參照附圖更充分地描述示例實(shí)施例；然而，示例實(shí)施例 可以以不同的形式來(lái)實(shí)施，而不應(yīng)該被理解為局限于在這里闡述的實(shí)施例。
充分地傳達(dá)給本領(lǐng)域的技術(shù)人員。
在附圖中，為了示出的清晰起見，可能夸大層和區(qū)域的尺寸。也應(yīng)該理 解，當(dāng)層或元件被稱作"在"另一層或基底"上"時(shí)，該層或元件可以直接 在另一層或基底上，或者也可以存在中間層。此外，應(yīng)該理解，當(dāng)層被稱作
"在"另一層"下，，時(shí)，該層可以直接在另一層下，也可以存在一個(gè)或多個(gè) 中間層。此外，還應(yīng)該理解，當(dāng)層被稱作"在"兩個(gè)層"之間"日于，該層可 以是這兩層之間唯一的層，或者也可以存在一個(gè)或多個(gè)中間層。相同的標(biāo)號(hào) 始終表示相同的元件。
如這里所使用的，表達(dá)方式"至少一個(gè)"、"一個(gè)或多個(gè)"和"和/或"是 在操作中的合取和析取的開放式表達(dá)方式。例如，表達(dá)方式"A、 B和C中 的至少一個(gè)"、"A、 B或C中的至少一個(gè)"、"A、 B和C中的一個(gè)或多個(gè)"、
"A、 B或C中的一個(gè)或多個(gè)，，以及"A、 B和/或C"中的每個(gè)包括如下含義 只有A;只有B;只有C;同時(shí)有A和B兩個(gè)；同時(shí)有A和C兩個(gè)；同時(shí)有 B和C兩個(gè)；同時(shí)有A、 B和C所有這三個(gè)。此外，除非用術(shù)語(yǔ)"由...組成" 表示的它們的組合相反地明確指明，否則這些表達(dá)方式是開放式的。例如， 表達(dá)方式"A、 B和C中的至少一個(gè)"還可包括第n構(gòu)件，這里，n大于3， 而表達(dá)方式"從由A、 B和C組成的組中選擇的至少一個(gè)"并不包括第n構(gòu) 件。
如這里所使用的，單數(shù)形式是可以與單個(gè)項(xiàng)或與多個(gè)項(xiàng)結(jié)合使用的開放式術(shù)語(yǔ)。
圖1示出了根據(jù)示例實(shí)施例的濾光器的透視圖。如圖1所示，濾光器可
以包括支撐層11;吸收?qǐng)D案13，以預(yù)定間隔設(shè)置在支撐層11的一個(gè)表面 上；粘附構(gòu)件14，埋在吸收?qǐng)D案13之間。濾光器還可以包括在吸收?qǐng)D案13 和支撐層11之間的粘附圖案12。
支撐層11可以用作濾光器的基體層，并且可以防止反射或眩光。例如， 支撐層11可以具有例如大約80%至大約90%的高透射率，并且可以具有例如 大約1%至大約5%的低霧度(haze)，所以可以使被透射的光的損失最小化。 支撐層11可以具有例如大約1%至大約20%的低反射率，可以在其玻璃化轉(zhuǎn) 變溫度之上表現(xiàn)出耐熱性，并且可以具有大約1H至大約3H的硬度(即，通
最少化。
如圖1所示，吸收?qǐng)D案13可以設(shè)置在支撐層11上，并且可以吸收被透 射的光。例如，吸收?qǐng)D案13可以包含黑色基著色劑(例如，染料或顏料)， 以提高吸光率(light absorption rate )。吸收?qǐng)D案13可以在支撐層11上彼此分 隔開，并且可以按任何合適的排列來(lái)布置。例如，如圖l所示，吸收?qǐng)D案13 可以布置成格子圖案，所以可以使支撐層11的部分(例如，正方形部分或矩 形部分)暴露在相鄰的吸收?qǐng)D案13之間。
如圖1所示，粘附構(gòu)件14可以設(shè)置在支撐層11上并在吸收?qǐng)D案13之間。 換言之，粘附構(gòu)件14可以布置在支撐層11的在相鄰的吸收?qǐng)D案13之間的暴 露部分上，例如，粘附構(gòu)件14可以直接布置在所述暴露部分上。例如，如圖 1所示，如果吸收?qǐng)D案13布置成格子圖案，則粘附構(gòu)件14可以布置成矩陣 圖案，所以每個(gè)粘附構(gòu)件14可以是通過(guò)吸收?qǐng)D案13與相鄰的粘附構(gòu)件14分 開(例如，彼此完全斷開)的離散部分。例如，粘附構(gòu)件14可以只是在吸收 圖案13的側(cè)表面上，即，在吸收?qǐng)D案13的不與支撐層11平行的表面上，所 以粘附構(gòu)件14可以不與吸收?qǐng)D案13的上表面(即，吸收?qǐng)D案13的平行于支 撐層11并且背離支撐層11的表面)疊置。例如，粘附構(gòu)件14可以與支撐層 11的暴露部分完全疊置，所以每個(gè)粘附構(gòu)件14可以與吸收?qǐng)D案13的側(cè)表面 和支撐層11直接接觸。
粘附構(gòu)件14的上表面，即粘附構(gòu)件14的與支撐層11背離的表面，可以 基本上共面，從而利于使濾光器通過(guò)粘附構(gòu)件14附于期望的表面上。例如，吸收?qǐng)D案13的上表面和粘附構(gòu)件14的上表面可以基本上共面，所以如果吸 收?qǐng)D案13直接在支撐層11上(未示出)，則即，如沿著支撐層11的法線所 測(cè)量的，吸收?qǐng)D案13和粘附構(gòu)件14可以具有基本上相同的厚度。如果粘附 圖案12設(shè)置在吸收?qǐng)D案13和支撐層11之間，如圖1所示，則粘附構(gòu)件14 的厚度可以基本上等于吸收?qǐng)D案13與粘附圖案12的厚度之和。
粘附構(gòu)件14可以是透明的。粘附構(gòu)件14可以包含具有用于顏色校正的 選擇性吸收(例如，阻擋氖光或近紅外線)的著色劑(例如，染料或顏料)。 粘附構(gòu)件14可以由粘附材料形成，所以粘附構(gòu)件14可以附于顯示裝置上， 例如，附于PDP的表面上。
根據(jù)圖2中示出的另一示例實(shí)施例，除了具有電磁波屏蔽圖案之外，濾 光器可以基本上與前面參照?qǐng)D1所描述的濾光器相同。更具體地講，如圖2 所示，濾光器可以包括支撐層21、以預(yù)定間隔位于支撐層21上的電磁波屏 蔽圖案23、位于電磁波屏蔽圖案23上的吸收?qǐng)D案24以及埋在電磁波屏蔽圖 案23之間的粘附構(gòu)件25。濾光器還可以包括在電磁波屏蔽圖案23和支撐層 21之間的粘附圖案22。
支撐層21、吸收?qǐng)D案24、粘附構(gòu)件25和粘附圖案22可以基本上分別對(duì) 應(yīng)于前面參照?qǐng)D1描述的支撐層11、吸收?qǐng)D案13、粘附構(gòu)件14和粘附圖案 12,因此，將不再重復(fù)對(duì)它們的詳細(xì)描述。電磁波屏蔽圖案23的形狀可以與 吸收?qǐng)D案24的形狀基本相同，并且電磁波屏蔽圖案23可以與吸收?qǐng)D案24疊 置(例如，完全疊置)。電磁波屏蔽圖案23可以位于支撐層21和吸收?qǐng)D案 24之間，所以粘附構(gòu)件25可以與支撐層21、吸收?qǐng)D案24和電磁波屏蔽圖案 23接觸(例如，直接接觸)。
電磁波屏蔽圖案23可以阻擋電磁波(例如，從顯示裝置發(fā)射的電磁輻 射)，并且可以由具有高電磁波屏蔽率的透明金屬薄膜制成。例如，電磁波屏 蔽圖案23可以由鉑(Pt)、銀(Ag)、銅(Cu)、鋁(Al)、鎳(Ni)、鉬(Mo ) 或它們的合金中的一種或多種形成。因此，濾光器可以使電磁輻射和近紅外 輻射的發(fā)射最少化，而同時(shí)減少光反射并提高色純度。
根據(jù)另一示例實(shí)施例，可以根據(jù)圖3A至圖3C中示出的方法來(lái)制造濾光 器。圖3A至圖3C示出了在制造圖1的濾光器的方法中的連續(xù)步驟的沿圖1 中的11-12線的剖-f見圖。
參照?qǐng)D3A,可以在支撐層11的一個(gè)表面上形成吸收層13a。例如，可以直接在支撐層11上形成吸收層13a。在另一示例中，如圖3A所示，可以 在支撐層11上形成粘附層12a之后形成吸收層13a，即，可以在支撐層11和 吸收層13a之間形成粘附層12a，所以可以提高支撐層11和吸收層13a之間
的粘附性。
支撐層11可以是濾光器的基體層，并且可以表現(xiàn)出用于使光的損失最小 化的高透射率。支撐層11可以具有用于防止外部光反射的低反射率，并且可 以表現(xiàn)出預(yù)定的耐熱性和硬度。例如，為了在寬的波長(zhǎng)區(qū)域內(nèi)具有低反射率， 支撐層11可以具有包含折射率不同的材料的多層結(jié)構(gòu)。例如，支撐層ll可 以包含聚對(duì)苯二曱酸乙二酯(PET)、聚砜(PS)、聚醚砜(PES)、聚苯乙烯、 聚萘二曱酸乙二酯、多芳基化合物、聚醚醚酮、聚碳酸酯(PC)、聚丙烯(PP)、 聚酰亞胺、三乙酰纖維素(TAC)和聚曱基丙烯酸曱酯(PMMA)中的一種 或多種。
吸收層13a可以由滿足動(dòng)力學(xué)和光學(xué)平衡、機(jī)械硬度高、熱收縮低、在 加熱期間減少低聚物的產(chǎn)生等條件的任何合適的材料制成。例如，吸收層13a 可以由軟的丙烯酸類聚合物、聚酯類聚合物、聚氨酯(PUR)類聚合物、天 然橡膠(NR)類聚合物、聚丁二烯橡膠(BR)類聚合物、硅酮類聚合物等 中的一種或多種制成。在另一示例中，當(dāng)需要支撐力時(shí)，支撐層13a可以由 硬的聚醚砜(PES)、聚丙烯酸酯(PAR)、聚醚酰亞胺(PEI)、聚萘二曱酸乙 二酯(PEN)、聚對(duì)苯二曱酸乙二酯(PET)、聚苯硫醚(PPS)、聚烯丙基化 物(polyallylate)、聚酰亞胺、聚石灰酸酯(PC)、三乙酰纖維素(TAC)、醋酸 丙酸纖維素(CAP)等中的一種或多種制成。
吸收層13a可以具有高的可見光吸收率(即，對(duì)大約400nm至大約700nm 的波長(zhǎng)范圍具有高的吸收率)。例如，吸收層13a可以包含黑色基著色劑，例 如，染料或顏料。如果包含黑色基著色劑，則可以根據(jù)期望的光學(xué)特性(例 如，吸收波長(zhǎng)、吸收系數(shù)、透射特征等)來(lái)調(diào)節(jié)黑色基著色劑的種類和濃度。 例如，吸收層13a可以包含按重量計(jì)為大約2.5%至按重量計(jì)為大約5%的固 體碳黑。黑色基著色劑(例如，碳黑顆粒)的粒度可以為納米(nm)級(jí)。隨 著吸收層13a內(nèi)的黑色基著色劑的含量增大，吸收層13a對(duì)光的吸收率可以 提高。
參照?qǐng)D3B,可以通過(guò)物理切割方法(例如，激光蝕刻)將吸收層13a圖 案化，從而形成吸收?qǐng)D案13?？梢詫⑽?qǐng)D案13布置成任何合適的形狀，以使其具有預(yù)定的寬度和間隔。例如，可以將吸收?qǐng)D案13布置成條狀圖案、
格子圖案等。吸收?qǐng)D案13的橫截面可以具有任一合適的形狀，例如，四邊形、 三角形、菱形等。如果粘附層12a形成在吸收層13a和支撐層11之間，則可 以將粘附層12a圖案化而形成粘附圖案12，如圖3B所示，所以粘附圖案12 和吸收?qǐng)D案13可以完全疊置，從而暴露支撐層11的表面。
參照?qǐng)D3C,可以在支撐層11的暴露表面上并在吸收?qǐng)D案13之間設(shè)置粘 附構(gòu)件14，所以粘附構(gòu)件14可以埋在吸收?qǐng)D案13之間。例如，可以通過(guò)將 粘附材料涂敷在支撐層11的整個(gè)暴露表面上而在吸收?qǐng)D案13之間埋入粘附 構(gòu)件14，例如，從而完全填充相鄰的吸收?qǐng)D案13之間的間隔。
可以包含透明的粘附材料或粘附性材料的粘附構(gòu)件14可以由軟的丙烯 酸類聚合物、聚酯類聚合物、PUR類聚合物、NR類聚合物、BR類聚合物、 硅酮類聚合物等中的一種或多種制成。粘附構(gòu)件14可以具有大約80%至大約 95%的可見光透射率，并且可以包含具有用于顏色校正的選擇性光吸收的著 色劑(例如，染料或顏料)，從而例如阻擋氖光或近紅外線?？梢愿鶕?jù)光的例 如吸收波長(zhǎng)、吸收系數(shù)、透射特征等來(lái)調(diào)節(jié)著色劑的種類和濃度。
根據(jù)圖4A至圖4C中示出的另一示例實(shí)施例，除了包括形成電^i波屏蔽 圖案之外，制造濾光器的方法可以與前面參照?qǐng)D3A至圖3C描述的方法基本 相同。圖4A至圖4C示出了在制造圖2的濾光器的方法中的連續(xù)步驟的沿圖 2中的111-112線的剖視圖。
參照?qǐng)D4A，可以在支撐層21的一個(gè)表面上順序地形成電磁波屏蔽層23a 和吸收層24a。為了提高支撐層21和電磁波屏蔽層23a之間的粘附，可以在 支撐層21上形成粘附層22a之后形成電磁波屏蔽層23a。支撐層21和吸收層 24a分別可以由與圖3A的支撐層11和吸收層13a的材料相同的材料制成。 電磁波屏蔽層23a可以由提供高電磁波屏蔽的透明金屬薄膜制成，例如，由 柏(Pt)、銀(Ag)、銅(Cu)、 4呂(Al)、鎳(Ni)、鉬(Mo)或它們的合金 中的一種或多種制成。例如，可以利用賊射方法、真空沉積方法、離子鍍方 法、化學(xué)氣相沉積(CVD)方法、物理氣相沉積(PVD)方法等制成電石茲波 屏蔽層23a。
參照?qǐng)D4B，可以將吸收層24a和電磁波屏蔽層23a圖案化，從而以堆疊 結(jié)構(gòu)分別形成吸收?qǐng)D案24和電磁波屏蔽圖案23。換言之，吸收?qǐng)D案24和電 磁波屏蔽圖案23可以具有基本相同的形狀，并且可以彼此疊置，例如，彼此完全疊置?？梢砸灶A(yù)定的寬度和間隔設(shè)置吸收?qǐng)D案24?？梢岳梦锢砬懈罘?法(例如，激光蝕刻)將吸收層24a和電^f茲波屏蔽層23a圖案化，例如，可 以按條狀圖案、格子圖案等形成吸收?qǐng)D案24和電磁波屏蔽圖案23。可以去 除粘附圖案22的暴露在吸收?qǐng)D案24和電磁波屏蔽圖案23之間的部分，從而 暴露支撐層21。
參照?qǐng)D4C，可以在吸收?qǐng)D案24和電^f茲波屏蔽圖案23的相鄰堆疊結(jié)構(gòu)之 間埋入粘附構(gòu)件25。粘附構(gòu)件25可以通過(guò)將粘附構(gòu)件25涂敷到支撐層21 上來(lái)埋入，以接觸吸收?qǐng)D案24和電磁波屏蔽圖案23的側(cè)表面。粘附構(gòu)件25 可以由與圖3C的粘附構(gòu)件14的材料基本相同的材料制成。
通過(guò)相對(duì)于吸收?qǐng)D案13和24的寬度(即，沿著與連接兩個(gè)相鄰吸收?qǐng)D 案的線平行的方向測(cè)量的水平距離)調(diào)節(jié)吸收?qǐng)D案13和24的高度(即，沿 著相應(yīng)的支撐層11和21的法線測(cè)量的距離)，根據(jù)示例實(shí)施例的濾光器可以 從兩側(cè)控制吸光率，即，經(jīng)過(guò)濾光器的面向PDP的表面和濾光器的相對(duì)表面 的吸收率。例如，入射在濾光器的一個(gè)表面上的光的吸收率可隨著吸收?qǐng)D案 13和24的高度增大而提高，入射在濾光器的相對(duì)表面上的光的吸收率可隨 著吸收?qǐng)D案13和24的寬度增大而提高。因此，將濾光器調(diào)整成具有吸收?qǐng)D 案的高度/寬度之間的預(yù)定比可以使從周圍環(huán)境入射的光(即，PDP外部的 光)的吸收率高，并且可以使PDP產(chǎn)生的光(即，將要發(fā)射的形成圖像的內(nèi) 部光)的吸收率低。這樣，可以通過(guò)濾光器吸收入射在PDP上的外部光的大 部分，而使在PDP內(nèi)部產(chǎn)生的光的大部分可透射穿過(guò)濾光器而形成圖像，所 以可以顯著提高PDP的亮室對(duì)比度。此外，由于根據(jù)示例實(shí)施例的濾光器可 以包括被構(gòu)造成防止從濾光器反射光或基本上使從濾光器反射的光最少化的 支撐層11和21，所以PDP的顯示特性(例如，可見度)可以通過(guò)表現(xiàn)出降 低的反光率而得以進(jìn)一步改善。
此外，可以通過(guò)粘附構(gòu)件14和25將根據(jù)示例實(shí)施例的濾光器直接附于 顯示面板(例如，附于PDP )。換言之，粘附構(gòu)件14和25可以直接接觸濾光 器的對(duì)應(yīng)的吸收?qǐng)D案13和24及顯示面板，即，吸收?qǐng)D案13和24的接觸相 應(yīng)的粘附構(gòu)件14和25的表面與顯示面板可以相互垂直，從而將吸收?qǐng)D案13 和24固定到顯示面板。由于粘附構(gòu)件14和25可以是僅僅位于相應(yīng)的吸收?qǐng)D 案13和24之間的單獨(dú)構(gòu)件，所以吸收?qǐng)D案13和24可以直4妻面向顯示面4反， 例如，可以直接接觸顯示面板，而在吸收?qǐng)D案和顯示面板之間沒有附加的界面層。因此，與傳統(tǒng)的濾光器相比，可以防止重復(fù)圖像，并且可以顯著減小 濾光器的整體厚度。相反，當(dāng)粘附層涂敷于顯示面板的整個(gè)表面時(shí)，即，當(dāng) 粘附層在顯示面板和吸收?qǐng)D案之間而限定顯示面板和吸收?qǐng)D案之間的界面層 時(shí)，由于穿過(guò)界面層的折射而會(huì)導(dǎo)致界面層(即，粘附層)形成重復(fù)圖像， 并且界面層會(huì)增加濾光器的整體厚度，即，傳統(tǒng)的濾光器會(huì)包括至少一個(gè)附 加的層。
圖5示出了包括圖1的濾光器的等離子體顯示面板(PDP)的局部分解 透視圖。然而，要指出的是，其他構(gòu)造，例如，具有圖2的濾光器的PDP或 具有根據(jù)示例實(shí)施例的任一濾光器的其他類型的顯示裝置是在本發(fā)明的范圍 內(nèi)的。還要指出的是，雖然圖5示出了三電極表面發(fā)射型PDP，但是其他類 型的PDP也在本發(fā)明的范圍內(nèi)。
參照?qǐng)D5, PDP可以包括設(shè)置成彼此相對(duì)的第 一基底110和第二基底120。
被電介質(zhì)111和鈍化膜112覆蓋的多條維持電極線X和掃描電極線Y可 以相互平行地形成在第一基底110上。維持電4及線X和掃描電極線Y中的每 條可以包括由例如氧化銦錫(ITO )制成的各自的透明電極Xa和Ya以及用 來(lái)提高傳導(dǎo)性的各自的金屬電極Xb和Yb。
被電介質(zhì)121覆蓋的多條尋址電極線A可以形成在第二基底120上。障 肋122可以形成在電介質(zhì)121上，以限定放電室。障肋122可以位于尋址電 極線A之間，并且可以包括與尋址電極線A平行的縱向部分。磷光體層130 可以形成在電介質(zhì)121和障肋122的表面上，即，形成在放電室的內(nèi)表面上。
第一基底110和第二基底120可以彼此結(jié)合，所以尋址電極線A可以面 向維持電極線X和掃描電極線Y。此外，尋址電極線A可以與維持電極線X 和掃描電極線Y垂直，用于形成等離子體的氣體可以密封在放電室中，即， 密封在與多個(gè)像素對(duì)應(yīng)的氣密性放電空間中。
根據(jù)示例實(shí)施例的濾光器可以附于PDP。例如，圖l的濾光器可以附于 第一基底110。如圖5所示，吸收?qǐng)D案13和粘附構(gòu)件14中的每個(gè)可以直接 接觸第一基底110，所以外部光可以入射在支撐層11上。
例如，濾光器的吸收?qǐng)D案13可以形成為與障肋122對(duì)應(yīng)，即，與障肋 122疊置，如圖5所示。在另一示例中，濾光器的吸收?qǐng)D案13可以形成為與 PDP的金屬電極Xb和Yb對(duì)應(yīng)，即，與金屬電極Xb和Yb疊置，或者濾光 器的吸收?qǐng)D案13可以與PDP的金屬電極Xb和Yb非對(duì)稱地形成。當(dāng)吸收?qǐng)D案13與障肋122或金屬電極Xb和Yb疊置時(shí)，可以使發(fā)光區(qū)域最大化，從 而提高了 PDP的發(fā)光效率。另外，如果在吸收?qǐng)D案13的表面上形成反射膜 (未示出)，則反射膜可以接觸第一基底110，所以可以使從PDP發(fā)射的光的 吸收最小化，從而提高發(fā)光效率。
在根據(jù)示例實(shí)施例的濾光器中，可以通過(guò)調(diào)節(jié)吸收?qǐng)D案13和24的高度 與寬度的比例來(lái)控制吸光量。因此，通過(guò)控制吸收?qǐng)D案13和24的高度和寬
光的吸收率低，從而提高亮室對(duì)比度。另外，由于根據(jù)示例實(shí)施例的濾光器 包括可以被構(gòu)造成防止反射的支撐層11和21,所以濾光器由于低反射率而 可提供高的可見度。此外，由于濾光器可以直接接觸顯示面板而無(wú)需附加的 界面，所以由于最少化的折射而可防止重復(fù)圖像的形成。由于粘附構(gòu)件14和 25可以埋在吸收?qǐng)D案13和24之間，所以與傳統(tǒng)的濾光器(即，整個(gè)表面會(huì) 堆疊有粘附層的濾光器)相比，根據(jù)示例實(shí)施例的濾光器的整體厚度可以更 薄。
對(duì)于根據(jù)示例實(shí)施例的濾光器，可以以預(yù)定的間隔設(shè)置吸收?qǐng)D案，從而 可以使發(fā)光區(qū)域最大化。由于可以使堆疊結(jié)構(gòu)最小化而具有提高了大約70% 的透射率，所以可以以低成本將根據(jù)示例實(shí)施例的濾光器制造得輕且薄。另 外，可以通過(guò)調(diào)節(jié)吸收?qǐng)D案的高度與寬度之比來(lái)控制吸光率，所以可以提高 亮室對(duì)比度和可見度，并且可以防止重復(fù)圖像。
已經(jīng)在此公開了本發(fā)明的示例實(shí)施例，雖然采用了特定術(shù)語(yǔ)，但是僅僅 以一般的且描述性的意義來(lái)使用和解釋這些術(shù)語(yǔ)，而不是出于限制性的目的。 因此，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)該明白，在不脫離由權(quán)利要求所闡述的本發(fā) 明的精神和范圍的情況下，可以做出形式和細(xì)節(jié)上的各種改變。
權(quán)利要求
1、一種濾光器，所述濾光器包括支撐層；吸收?qǐng)D案，位于支撐層的第一表面上，所述吸收?qǐng)D案沿著第一表面彼此之間具有預(yù)定間隔；粘附構(gòu)件，位于支撐層的第一表面上，所述粘附構(gòu)件埋在吸收?qǐng)D案之間的預(yù)定間隔中。
2、 如權(quán)利要求1中所述的濾光器，還包括位于支撐層和吸收?qǐng)D案之間的 粘附圖案。
3、 如權(quán)利要求1中所迷的濾光器，還包括位于支撐層上且彼此之間具有 所述預(yù)定間隔的電磁波屏蔽圖案，所述電磁波屏蔽圖案位于支撐層和吸收?qǐng)D 案之間。
4、 如權(quán)利要求1中所述的濾光器，其中，支撐層表現(xiàn)出80%至90%的 透射率和1%至20%的反射率。
5、 如權(quán)利要求l中所述的濾光器，其中，支撐層具有多層結(jié)構(gòu)，所述多 層結(jié)構(gòu)中的層具有不同的折射率。
6、 如權(quán)利要求1中所述的濾光器，其中，吸收?qǐng)D案包含丙烯酸類聚合物、 聚酯類聚合物、聚氨酯類聚合物、天然橡膠類聚合物、聚丁二烯橡膠類聚合 物、硅酮類聚合物、聚醚砜、聚丙烯酸酯、聚醚酰亞胺、聚萘二曱酸乙二酯、 聚對(duì)苯二曱酸乙二酯、聚笨硫醚、聚烯丙基化物、聚酰亞胺、聚碳酸酯、三 乙酰纖維素和醋酸丙酸纖維素中的一種或多種。
7、 如權(quán)利要求1中所述的濾光器，其中，吸收?qǐng)D案包含黑色基著色劑。
8、 如權(quán)利要求l中所述的濾光器，其中，吸收?qǐng)D案布置成條狀圖案或格 子圖案。
9、 如權(quán)利要求l中所述的濾光器，其中，粘附構(gòu)件包括表現(xiàn)出選擇性光 吸收的著色劑。
10、 如權(quán)利要求1中所述的濾光器，其中，粘附構(gòu)件僅僅位于吸收?qǐng)D案 的側(cè)表面上，吸收?qǐng)D案的所述側(cè)表面不與支撐層的第一表面平行。
11、 如權(quán)利要求1中所述的濾光器，其中，粘附構(gòu)件通過(guò)吸收?qǐng)D案而相 互分開，粘附構(gòu)件的第一表面背離支撐層且共面。
12、 如權(quán)利要求ll中所述的濾光器，其中，粘附構(gòu)件彼此完全分開，每 個(gè)粘附構(gòu)件填充相鄰吸收?qǐng)D案之間的對(duì)應(yīng)的預(yù)定間隔。
13、 如權(quán)利要求1中所述的濾光器，其中，粘附構(gòu)件的第一表面和吸收 圖案的第 一表面背離支撐層，粘附構(gòu)件的第 一表面和吸收?qǐng)D案的第 一表面共面。
14、 一種制造濾光器的方法，所述方法包括以下步驟 在支撐層的第一表面上形成吸收?qǐng)D案，所述吸收?qǐng)D案沿著第一表面彼此之間具有預(yù)定間隔；在支撐層的第一表面上形成粘附構(gòu)件，所述粘附構(gòu)件埋在吸收?qǐng)D案之間 的預(yù)定間隔中。
15、 如權(quán)利要求14中所述的方法，還包括在支撐層的第一表面上形成粘附層。
16、 如權(quán)利要求15中所述的方法，其中，形成吸收?qǐng)D案的步驟包括在粘 附層上設(shè)置吸收層。
17、 如權(quán)利要求14中所述的方法，還包括以下步驟 在支撐層的第一表面上順序地形成電磁波屏蔽層和吸收層； 將吸收層和電磁波屏蔽層圖案化以形成吸收?qǐng)D案和電磁波屏蔽圖案，支撐層的第一表面的部分暴露在吸收?qǐng)D案和電磁波屏蔽圖案之間；在支撐層的第一表面的暴露部分上沉積粘附構(gòu)件，所述粘附構(gòu)件與支撐 層、吸收?qǐng)D案和電磁波屏蔽圖案直接接觸。
18、 一種等離子體顯示裝置，所述等離子體顯示裝置包括等離子體顯示 面板和位于等離子體顯示面板上的濾光器，所述濾光器包括支撐層；吸收?qǐng)D案，位于支撐層的第一表面上，所述吸收?qǐng)D案沿著第一表面彼此 之間具有預(yù)定間隔；粘附構(gòu)件，位于支撐層的第一表面上，所述粘附構(gòu)件埋在吸收?qǐng)D案之間 的預(yù)定間隔中。
19、 如權(quán)利要求18中所述的等離子體顯示裝置，其中，吸收?qǐng)D案位于支 撐層和等離子體顯示面板之間，所述吸收?qǐng)D案直接面向等離子體顯示面板。
20、 如權(quán)利要求18中所述的等離子體顯示裝置，其中，吸收?qǐng)D案與等離 子體顯示面板直接接觸。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種濾光器、一種制造該濾光器的方法和一種具有該濾光器的等離子體顯示裝置。該濾光器包括支撐層；吸收?qǐng)D案，位于支撐層的第一表面上，吸收?qǐng)D案彼此之間具有預(yù)定間隔；粘附構(gòu)件，位于支撐層的第一表面上，粘附構(gòu)件埋在吸收?qǐng)D案之間的預(yù)定間隔中。
文檔編號(hào)G02B5/22GK101493540SQ20091000324
公開日2009年7月29日 申請(qǐng)日期2009年1月21日 優(yōu)先權(quán)日2008年1月22日
發(fā)明者樸哉映, 樸哲皓, 權(quán)度赫, 李壯雨, 李性龍, 李振榮, 李相美, 洪種基, 鄭鏞祐, 金知錫, 黃且源 申請(qǐng)人:三星Sdi株式會(huì)社