專利名稱：玻璃制品及其制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于一種玻璃制品及其制作方法。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有玻璃制品表面的圖案一般通過印刷的方法制作，但印刷的圖案容易褪色或油漆剝落。近年來，由于物理氣相沉積(PVD)技術(shù)綠色環(huán)保且由沉積形成在產(chǎn)品表面的膜層不易剝落的特點，在業(yè)界應(yīng)用越來越廣。然，該種方法制作的玻璃制品的圖案精度不高，且不利于制造尺寸較小的圖案。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述內(nèi)容，有必要提供一種工藝簡單、且圖案精度高的玻璃制品的制作方法。另外，有必要提供一種上述制作方法制得的玻璃制品。一種玻璃制品的制作方法，包括以下步驟提供一玻璃基體，對基體表面進行超聲波清洗；玻璃基體進行貼附感光干膜與遮蔽膜、然后曝光顯影以在玻璃基體上形成待加工的圖案區(qū)域；對玻璃基體上圖案區(qū)域進行反應(yīng)離子蝕刻以形成凹槽；將玻璃基體進行清洗以去除凹槽內(nèi)的殘留物；對凹槽進行烤漆從而在凹槽處形成圖案；用退鍍藥水清洗殘余在基體表面的感光干膜及遮蔽膜形成一具內(nèi)嵌圖案的玻璃制品。一種通過上述方法制得的玻璃制品，包括一玻璃基體，所述玻璃基體表面形成有至少一凹槽，所述至少一凹槽整體排布形成一圖案，每一所述凹槽內(nèi)對應(yīng)地填充有涂料，以于該玻璃基體上形成圖案層。相較于現(xiàn)有技術(shù)，本玻璃制品的制作方法將曝光顯影技術(shù)、反應(yīng)離子蝕刻技術(shù)應(yīng)用于玻璃基體上形成凹槽，可使得凹槽具備較高的精度，如可實現(xiàn)凹槽的寬度尺寸在1 2mm之間，且尺寸精度可控制在0. Olmm內(nèi)，深度在200 800nm之間；同時結(jié)合烤漆技術(shù)對凹槽進行烤漆，使得制作在玻璃表面的圖案具有高精度，同時，烤漆時可根據(jù)顏色的需求噴涂涂料，從而在玻璃表面形成色彩豐富的且具有立體質(zhì)感的圖案，且涂料填充在玻璃表面的凹槽內(nèi)不易脫落；該種制作方法工藝簡單，適用性強。


圖1是本發(fā)明較佳實施例一玻璃制品的截面示意圖。圖2是圖1所示的玻璃制品表面制作圖案的方法流程圖。主要元件符號說明玻璃制品 10
玻璃基體 11圖案層1具體實施例方式本發(fā)明較佳實施例玻璃制品10包括一玻璃基體11及形成在玻璃基體11表面的圖案層12，所述玻璃基體11上形成有至少一凹槽112，所述至少一凹槽112可為一自身形成圖案的凹槽或間隔排布的且整體形成圖案的多個凹槽，可根據(jù)形成圖案層12的需要制作。所述圖案層12對應(yīng)地填充于凹槽112內(nèi)，在玻璃基體11表面上形成整體的一圖案(未標示)。圖案層12的外表面大致與玻璃基體11的外表面平齊。根據(jù)玻璃制品10圖案的精細需求，每一凹槽112的寬度尺寸可達l_2mm，該寬度的尺寸精度在0.01mm內(nèi)，即制作該寬度的凹槽時寬度邊緣的公差可控制在0.01mm內(nèi)。對應(yīng)地形成在每一凹槽112內(nèi)的圖案層 12的寬度亦在可為1 2mm，且該寬度的尺寸精度在0. Olmm內(nèi)；凹槽112的深度可在300 400nm，對應(yīng)地形成在每一凹槽112內(nèi)的圖案層12的厚度在300 400nm。該玻璃制品10的制作方法包括以下步驟Sl 提供一玻璃基體11，將玻璃基體11表面進行超聲波清洗，如采用無水乙醇或丙酮對基體進行超聲波清洗，以除去玻璃基體11表面的油污。S2 玻璃基體11進行貼附感光干膜與遮蔽膜、然后曝光顯影以形成待加工的圖案區(qū)域；具體過程可為在清洗后的玻璃基體11的表面利用熱壓貼膜機貼覆感光干膜，并在感光干膜表面貼附遮蔽膜，使得感光干膜表面僅露出需曝光的區(qū)域，該露出的區(qū)域與圖案區(qū)域?qū)?yīng)，然后將該基體需曝光的區(qū)域置于光照下，所述露出的曝光區(qū)域曝光形成待加工的圖案區(qū)域，然后利用清洗液清洗該圖案區(qū)域，從而將感光干膜顯影后形成的殘留物去除。S3 將基體表面的圖案區(qū)域進行反應(yīng)離子蝕刻(RIE)以形成對應(yīng)圖案區(qū)域的凹槽；具體過程可為將基體置RIE蝕刻機的腔體中，使蝕刻機腔體壓強保持在5 左右，射頻電源的功率為400w，反應(yīng)腔體溫度為40°C，基體表面溫度為5°C左右，往腔體中沖入蝕刻氣體，蝕刻氣體可為CF4或者NF3。氣體蝕刻所述露出于基體表面的圖案區(qū)域，且氣體不與所述遮蔽膜反應(yīng)，從而在基體表面對應(yīng)該圖案區(qū)域形成相對應(yīng)的凹槽，本實施例中，所述對應(yīng)圖案區(qū)域的凹槽可以為一個、兩個或者兩個以上，且該凹槽可為連續(xù)分布或者不連續(xù)分布。 將蝕刻后的玻璃基體進行去離子水噴淋及表面化學(xué)超聲波清洗，使形成在凹槽內(nèi)的殘留物清除。根據(jù)制作圖案的需要，通過該方法制作的每一凹槽的寬度可在1 2mm，且該寬度的尺寸精度可控制在0. Olmm內(nèi)，深度可為200 800nm。S4 對凹槽進行烤漆填充，具體過程可為調(diào)制所需顏色的涂料，通過離心力靜電霧化設(shè)備將涂料噴涂于凹槽，使涂料填充于凹槽從而形成預(yù)定的圖案。噴涂后，檢測噴涂的效果并對噴涂缺陷區(qū)進行補漆，然后將玻璃基體進行烘烤，烘烤溫度在80 150°C之間。S5:用退鍍藥水清洗殘余在基體表面的遮蔽膜及感光干膜，遮蔽膜、感光干膜將被去除。如此，在玻璃基體表面制作圖案的工序完成。本案玻璃制品的制作方法，通過將傳統(tǒng)中制作印刷電路板(PCB)的曝光顯影技術(shù)結(jié)合反應(yīng)離子蝕刻技術(shù)應(yīng)用于玻璃基體上形成凹槽，可使得凹槽具備較高的精度，使得凹槽的寬度可達成在1 2mm之間，且該寬度的尺寸精度可控制在0.01mm內(nèi)，深度達成在 300 400nm之間；同時結(jié)合烤漆技術(shù)對凹槽進行烤漆，使得制作在玻璃表面的圖案具有高精度。另外，烤漆時可根據(jù)顏色的需求噴涂涂料，從而在玻璃表面形成色彩豐富的且具有立體質(zhì)感的圖案，且涂料填充在玻璃表面的凹槽內(nèi)不易脫落。該種玻璃制品制作方法工藝簡單，圖案精度高，適用性強。 本案玻璃制品的制作方法可應(yīng)用于制作電子裝置的殼體或電子裝置的視窗等。如一種電子裝置的視窗，該視窗為玻璃基體制作，如有機玻璃。該玻璃基體通過才用上述制作方法可在表面形成一精細的圖案，該圖案可為該電子裝置的商標等，先通過曝光顯影技術(shù)結(jié)合反應(yīng)離子蝕刻技術(shù)在玻璃基體上形成凹槽，然后結(jié)合烤漆技術(shù)在凹槽內(nèi)填充涂料以形成圖案。如此，圖案的每一線條寬度可在1 2mm，且該寬度的尺寸精度在0. Olmm內(nèi)，圖案的厚度可在200 800nm。
權(quán)利要求
1.一種玻璃制品的制作方法，包括以下步驟提供一玻璃基體，對玻璃基體表面進行超聲波清洗；玻璃基體進行貼附感光干膜與遮蔽膜、然后曝光顯影以在玻璃基體上形成待加工的圖案區(qū)域；對玻璃基體上圖案區(qū)域進行反應(yīng)離子蝕刻以形成凹槽；將玻璃基體進行清洗以去除凹槽內(nèi)的殘留物；對凹槽進行烤漆從而在凹槽處形成圖案；用退鍍藥水清洗殘余在基體表面的感光干膜及遮蔽膜形成一具內(nèi)嵌圖案的玻璃制品。
2.如權(quán)利要求1所述的玻璃制品的制作方法，其特征在于所述超聲波清洗過程包括采用無水乙醇或丙酮對基體進行超聲波清洗。
3.如權(quán)利要求1所述的玻璃制品的制作方法，其特征在于所述形成待加工的圖案區(qū)域的過程包括將感光干膜曝利用熱壓貼膜機貼覆玻璃基體表面，將遮蔽膜貼附于感光干膜表面，使感光干膜表面僅露出需曝光的區(qū)域，該露出的區(qū)域與所述圖案區(qū)域?qū)?yīng)，將所述露出的區(qū)域曝光并清洗。
4.如權(quán)利要求1所述的玻璃制品的制作方法，其特征在于所述對圖案區(qū)域進行蝕刻的方式為氣體蝕刻。
5.如權(quán)利要求4所述的玻璃制品的制作方法，其特征在于所述氣體蝕刻包括提供一蝕刻機，蝕刻機腔體壓強保持在5 左右，射頻功率為400w，反應(yīng)腔體溫度為40°C，基體表面溫度為5°C。
6.如權(quán)利要求5所述的玻璃制品的制作方法，其特征在于所述蝕刻機中沖入的蝕刻氣體為CF4或NF3。
7.如權(quán)利要求1所述的玻璃制品的制作方法，其特征在于所述對凹槽進行烤漆過程包括調(diào)制涂料，通過離心力靜電霧化設(shè)備將涂料噴涂于凹槽，噴涂后檢測并補漆，然后將基體進行烘烤。
8.如權(quán)利要求7所述的玻璃制品的制造方法，其特征在于所述烘烤溫度在80 150°C之間。
9.一種權(quán)利要求1至8任意一項所述的制作方法制作的玻璃制品，包括一玻璃基體，其特征在于所述玻璃基體表面形成有至少一凹槽，所述至少一凹槽整體排布形成一圖案，每一所述凹槽內(nèi)對應(yīng)地填充有涂料，以于該玻璃基體上形成圖案層。
10.如權(quán)利要求9所述的玻璃制品，其特征在于每一所述凹槽的寬度尺寸在1 2mm， 凹槽的深度在200 800nm，且寬度的尺寸精度在0. Olmm內(nèi)。
11.如權(quán)利要求9所述的玻璃制品，其特征在于所述玻璃制品為一電子裝置的視窗， 對應(yīng)地形成在每一所述凹槽內(nèi)圖案層的寬度尺寸在1 2mm，深度在200 800nm，且寬度的尺寸精度在0.01mm內(nèi)。
全文摘要
本發(fā)明公開一種玻璃制品及其制作方法，玻璃制品的制作方法包括以下步驟在玻璃基體表面貼覆一層感光干膜；將感光干膜曝光顯影出待制備的圖案區(qū)域；將圖案區(qū)域進行反應(yīng)離子蝕刻(RIE)；及利用烤漆技術(shù)對圖案進行顏色修飾，制得該玻璃制品。該方法工藝簡單、且圖案精度高。通過上述方法制得的玻璃制品，包括一玻璃基體，所述玻璃基體表面形成有凹槽，所述凹槽內(nèi)填充有涂料，以于該玻璃基體上形成一圖案層。
文檔編號G03F7/00GK102464452SQ201010544009
公開日2012年5月23日 申請日期2010年11月12日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月12日
發(fā)明者張新倍, 李聰, 蔣煥梧, 陳文榮, 陳正士 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司