專利名稱：一種用于制備dfb激光器相移光柵的反射鏡裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
一種用于制備DFB激光器相移光柵的反射鏡裝置技術(shù)領(lǐng)域[0001]本實(shí)用新型屬于光電子技術(shù)領(lǐng)域。具體涉及一種用于制備DFB激光器相移光柵的反射鏡裝置，利用全息曝光方法，制作DFB激光器的光柵結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
[0002]DFB激光器(分布式反饋激光器)由于其穩(wěn)定的動(dòng)態(tài)單縱模和波長溫度特性好等優(yōu)點(diǎn)，被大量應(yīng)用于光纖通信系統(tǒng)。影響DFB激光器成品率的最大因素是光譜的雙模問題。光柵作為DFB激光器的選模機(jī)構(gòu)，其類型及質(zhì)量好壞直接影響成品率。光柵制作一般分為兩種:全息曝光法和E-beam曝光法。光柵類型分為兩種:均勻光柵和相移光柵。由于相移光柵的結(jié)構(gòu)中引入了、/4相移，能夠很好解決DFB激光器光譜中的雙模問題，可以大大提高DFB激光器芯片的成品率，被廣泛應(yīng)用于高端DFB激光器制作工藝中。傳統(tǒng)工藝中，全息曝光法只能制作均勻光柵，但制作成本低，制作速度快，一般用于中低端DFB激光器芯片的制作。E-beam曝光是通過電腦控制，可以刻寫任何類型的光柵，但是刻寫速度慢，設(shè)備成本高，通常用來制作高端DFB激光器芯片。實(shí)用新型內(nèi)容[0003]針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題，本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題為提供一種用于制備DFB激光器相移光柵的反射鏡裝置，既解決了 DFB激光器光譜雙模問題，又解決了采用E-beam制作相移光柵成本高，速度慢的問題。[0004]本實(shí)用新型提出一種用于制備DFB激光器相移光柵的反射鏡裝置，包括反射鏡，該反射鏡的反射膜表面具有增透膜，所述的增透膜由多個(gè)相間的條形結(jié)構(gòu)構(gòu)成。[0005]每個(gè)條形結(jié)構(gòu)的寬度L1與相鄰條形結(jié)構(gòu)的間距L2之間的比例滿足1:5 5:1。[0006]每個(gè)條形結(jié)構(gòu)的寬度L1與相鄰條形結(jié)構(gòu)的間距1^2之間的比例滿足1:1。[0007]所述的增透膜的周期為DFB激光器的腔長，該增透膜的周期為條形結(jié)構(gòu)的寬度L1與相鄰條形結(jié)構(gòu)的間距L2之和。[0008]所述的增透膜的厚度為d與增透膜的折射率為n之間的關(guān)系滿足As = 4t/ X (V"2 - sin: 6 - cos 6)，其中入s為全息曝光的紫外激光波長，0為入射角。[0009]所述的增透膜的厚度為10(T200nm，增透膜的折射率為1.4 1.5。[0010]本實(shí)用新型具有的優(yōu)點(diǎn)在于:[0011]本實(shí)用新型提 出一種采用全息曝光方法制備DFB激光器相移光柵的反射鏡裝置，通過在反射鏡上部分區(qū)域蒸鍍一層增透膜，引入A /2光程差改變干涉條紋的明暗線，獲得相移光柵。本實(shí)用新型既解決了 DFB激光器光譜雙模問題，又解決了采用E-beam制作相移光柵成本高，速度慢的問題。[0012]通過本實(shí)用新型的反射鏡裝置可以采用全息曝光的方法制作相移光柵。這樣，既具有全息曝光方法的低成本、高產(chǎn)出的優(yōu)點(diǎn)，又具有相移光柵單模成品率高的特點(diǎn)，適合DFB激光器的批量生產(chǎn)。


[0013]圖1表示本實(shí)用新型中用于制備DFB激光器相移光柵的裝置結(jié)構(gòu)示意圖；[0014]圖2表示本實(shí)用新型中用于制備DFB激光器相移光柵的反射鏡裝置的俯視圖；[0015]圖3表示本實(shí)用新型中用于制備DFB激光器相移光柵的反射鏡裝置的側(cè)視圖；[0016]圖4表示入射激光經(jīng)反射鏡不同位置反射后的示意圖；[0017]圖5為計(jì)算光程差的示意圖；[0018]圖6表示均勻光柵經(jīng)過掩埋后的示意圖；[0019]圖7表示由本實(shí)用新型的反射鏡裝置制作的相移光柵經(jīng)過掩埋后的示意圖；[0020]圖8表示光刻版的示意圖。
具體實(shí)施方式
[0021]
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明，以使本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以更好的理解本實(shí)用新型并能予以實(shí)施，但所舉實(shí)施例不作為對本實(shí)用新型的限定。[0022]全息曝光方法制作光柵原理如圖1所示，為全息曝光干涉原理圖，其中反射鏡裝置I采用單純的反射鏡，一般為300nm 400nm的紫外光反射鏡，反射鏡裝置I與水平面的夾角為e，入射的平行光線垂直于水平面。外延片2為DFB激光器外延片，與反射鏡垂直。有兩種平行光線分別為照射到反射鏡的平行光線3和直接照射到DFB激光器外延片2的平行光線4，反射鏡的出射光線為出射光線5。M、N兩點(diǎn)是紫外激光在反射鏡的入射點(diǎn)，P、Q兩點(diǎn)為相鄰的兩條干涉明條紋或者干涉暗條紋。L點(diǎn)為由P點(diǎn)向入射光引垂線的垂足，R、S分別為由N、Q點(diǎn)向反射光MP引垂線的垂足。[0023]P 點(diǎn)干涉點(diǎn)的光程差 AP 為 AP=PM+LM=PMX (l+cos2 0 )=PMX2cos2 0 ；[0024]Q點(diǎn)干涉點(diǎn)的光程差A(yù) Q為A Q=QNX 2cos2 0 ；[0025]其中，PM為P點(diǎn)和Q點(diǎn)之間 的距離，LM為L點(diǎn)和M點(diǎn)之間的距離，QN為Q點(diǎn)和N電之間的距離。[0026]P、Q兩點(diǎn)距離為光柵節(jié)距為A ；
權(quán)利要求1.一種用于制備DFB激光器相移光柵的反射鏡裝置，其特征在于，包括反射鏡，該反射鏡的反射膜表面具有增透膜，所述的增透膜由多個(gè)相間的條形結(jié)構(gòu)構(gòu)成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于制備DFB激光器相移光柵的反射鏡裝置，其特征在于，每個(gè)條形結(jié)構(gòu)的寬度L1與相鄰條形結(jié)構(gòu)的間距L2之間的比例滿足1:5 5:1。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于制備DFB激光器相移光柵的反射鏡裝置，其特征在于，每個(gè)條形結(jié)構(gòu)的寬度L1與相鄰條形結(jié)構(gòu)的間距1^2之間的比例滿足1:1。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于制備DFB激光器相移光柵的反射鏡裝置，其特征在于，所述的增透膜的周期為DFB激光器的腔長，該增透膜的周期為條形結(jié)構(gòu)的寬度L1與相鄰條形結(jié)構(gòu)的間距L2之和。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于制備DFB激光器相移光柵的反射鏡裝置，其特征在于，所述的增透膜的厚度為d與增透膜的折射率為n之間的關(guān)系滿足Xs=Adx (Vn2 - sin2 O - cos 6)，其中入s為全息曝光的紫外激光波長，0為入射角。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于制備DFB激光器相移光柵的反射鏡裝置，其特征在于，所述的增透膜的厚度為100~200nm，增透膜的折射率為1.4~1.5。
專利摘要本實(shí)用新型提出一種用于制備DFB激光器相移光柵的反射鏡裝置，該反射鏡裝置中反射鏡的反射膜表面具有增透膜，該增透膜由多個(gè)相間的條形結(jié)構(gòu)構(gòu)成，每個(gè)條形結(jié)構(gòu)的寬度與相鄰條形結(jié)構(gòu)的間距之間的比例滿足1:5～5:1。本實(shí)用新型通過設(shè)置有增透膜，進(jìn)而可以采用全息曝光方法，通過在反射鏡上部分區(qū)域引入λ/2光程差改變干涉條紋的明暗線，進(jìn)而獲得相移光柵。本實(shí)用新型既解決了DFB激光器光譜雙模問題，又解決了采用E-beam制作相移光柵成本高，速度慢的問題。
文檔編號(hào)G02B1/11GK203084226SQ201220700648
公開日2013年7月24日 申請日期2012年12月17日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月17日
發(fā)明者劉應(yīng)軍, 王任凡, 陽紅濤, 胡忞遠(yuǎn) 申請人:武漢電信器件有限公司