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      一種支撐針及顯示面板生產(chǎn)設(shè)備的制作方法

      文檔序號(hào):2702210閱讀:196來(lái)源:國(guó)知局
      一種支撐針及顯示面板生產(chǎn)設(shè)備的制作方法
      【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種支撐針及顯示面板生產(chǎn)設(shè)備,用以降低基板背面的靜電離子,并且可以有效的防止摩擦產(chǎn)生的靜電離子和顆粒。所述支撐針為中空結(jié)構(gòu),其頂端和/或側(cè)面設(shè)置有開(kāi)口,所述開(kāi)口用于使流經(jīng)所述支撐針內(nèi)部的氣體通過(guò)所述開(kāi)口吹出,以消除與支撐針相鄰的設(shè)備的靜電。
      【專利說(shuō)明】一種支撐針及顯示面板生產(chǎn)設(shè)備
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及顯示器【技術(shù)領(lǐng)域】,尤其涉及一種支撐針及顯示面板生產(chǎn)設(shè)備。
      【背景技術(shù)】
      [0002]在半導(dǎo)體和液晶行業(yè)中,運(yùn)用外加離子氣體中和基板在傳送過(guò)程中產(chǎn)生的靜電離子從而消除靜電對(duì)產(chǎn)品造成的破壞是一種常用的方法。
      [0003]通過(guò)吹送離子氣體來(lái)消除靜電效應(yīng)是液晶行業(yè)廣泛應(yīng)用的用來(lái)降低和緩解靜電的方法,現(xiàn)有技術(shù)中的離子氣體裝置一般都位于機(jī)臺(tái)(Stage)上方,而靜電離子主要由基板與支撐針(Lift Pin)或Stage摩擦或者在傳送過(guò)程中產(chǎn)生,所以靜電離子多位于基板下方。
      [0004]如圖1所示,現(xiàn)有技術(shù)中離子氣體裝置10位于機(jī)臺(tái)(Stage) 11上方,但靜電離子主要位于基板12下方及Stage上,因此,現(xiàn)有技術(shù)的支撐針結(jié)構(gòu)不能除掉基板12背面的靜電離子,所以現(xiàn)有裝置的除靜電效果并不理想,會(huì)導(dǎo)致電路燒傷,良品率下降,并且在支撐針13升起過(guò)程中很容易與Stage通道發(fā)生摩擦產(chǎn)生額外的靜電離子和大量的顆粒(Particle)。
      [0005]綜上所述,現(xiàn)有的外置離子氣體裝置對(duì)于除靜電的效果不是很理想。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0006]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種支撐針,用以降低基板背面的靜電離子,并且可以有效的防止摩擦產(chǎn)生的靜電離子和顆粒。本發(fā)明還提供了一種顯示面板生產(chǎn)設(shè)備。
      [0007]根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例,提供的一種支撐針,所述支撐針為中空結(jié)構(gòu),其頂端和/或側(cè)面設(shè)置有開(kāi)口,所述開(kāi)口用于使流經(jīng)所述支撐針內(nèi)部的氣體通過(guò)該開(kāi)口吹出。
      [0008]由本發(fā)明實(shí)施例提供的所述支撐針為中空結(jié)構(gòu),可以將氣體通入到支撐針中,而該支撐針的頂端和/或側(cè)面設(shè)置有開(kāi)口,通過(guò)其開(kāi)口可以將通入到支撐針中的氣體吹出,這樣可有效的去除機(jī)臺(tái)和基板背面產(chǎn)生的靜電離子,提高產(chǎn)品的良率。
      [0009]較佳地,所述支撐針的側(cè)面設(shè)置有多個(gè)開(kāi)口。
      [0010]這樣,當(dāng)側(cè)面設(shè)置的多個(gè)開(kāi)口吹出氣體時(shí),可以有效的防止支撐針在上升過(guò)程中與機(jī)臺(tái)產(chǎn)生摩擦進(jìn)而產(chǎn)生新的靜電離子和大量顆粒。
      [0011]較佳地,所述多個(gè)開(kāi)口的大小相等。
      [0012]這樣,大小相等的開(kāi)口可以保證支撐針吹出的氣體均勻,且吹出的氣體的流量大小容易控制,便于控制支撐針在升起過(guò)程中側(cè)面與機(jī)臺(tái)通道產(chǎn)生的相互作用力,進(jìn)而有效的防止支撐針在上升過(guò)程中與機(jī)臺(tái)產(chǎn)生摩擦。
      [0013]較佳地,所述側(cè)面設(shè)置的多個(gè)開(kāi)口以該支撐針的中心軸對(duì)稱分布。
      [0014]這樣,側(cè)面設(shè)置的對(duì)稱分布的多個(gè)開(kāi)口可以使得支撐針兩個(gè)側(cè)面與機(jī)臺(tái)通道產(chǎn)生的相互作用力相等,即容易控制支撐針在上升過(guò)程中與機(jī)臺(tái)產(chǎn)生的摩擦力。
      [0015]較佳地,所述支撐針的開(kāi)口為圓形開(kāi)口。[0016]這樣,圓形開(kāi)口的設(shè)計(jì)在支撐針開(kāi)口的設(shè)計(jì)中簡(jiǎn)單方便。
      [0017]較佳地,所述頂端設(shè)置的開(kāi)口的面積小于或等于1.7671平方毫米。
      [0018]這樣,由于支撐針的頂端設(shè)置有支撐針冒的結(jié)構(gòu),頂端設(shè)置的開(kāi)口面積不宜過(guò)大,頂端設(shè)置的開(kāi)口的面積設(shè)計(jì)為小于或等于1.7671平方毫米時(shí),更有利于降低基板背面的靜電離子。
      [0019]較佳地,所述側(cè)面設(shè)置的開(kāi)口的面積小于或等于0.7854平方毫米。
      [0020]這樣,為了保證支撐針的強(qiáng)度,側(cè)面設(shè)置的開(kāi)口面積不宜過(guò)大,側(cè)面設(shè)置的開(kāi)口的面積設(shè)計(jì)為小于或等于0.7854平方毫米時(shí),可以更加有效的防止摩擦產(chǎn)生的靜電離子和顆粒。
      [0021]較佳地,所述支撐針為中空的圓柱體。
      [0022]這樣,圓柱體的支撐針設(shè)置在機(jī)臺(tái)部件的設(shè)計(jì)中簡(jiǎn)單且容易實(shí)現(xiàn),同時(shí)通入中空的圓柱體的支撐針中的離子氣體的氣體流量容易控制。
      [0023]本發(fā)明的實(shí)施例還提供了一種顯示面板生產(chǎn)設(shè)備,所述設(shè)備包括:離子氣體裝置,以及多個(gè)上面所述的支撐針,所述離子氣體裝置設(shè)置有與每個(gè)支撐針一一對(duì)應(yīng)的通氣部件,用于將離子氣體輸出給對(duì)應(yīng)的支撐針,并通過(guò)支撐針上設(shè)置的開(kāi)口吹出。
      [0024]由上述實(shí)施例提供的顯示面板生產(chǎn)設(shè)備,由于所述顯示面板生產(chǎn)設(shè)備包括以上所述的支撐針,所以,該顯示面板生產(chǎn)設(shè)備能有效的降低基板背面的靜電離子,并且可以有效的防止摩擦產(chǎn)生的靜電離子和顆粒。
      [0025]較佳地,每個(gè)支撐針與對(duì)應(yīng)的通氣部件密閉連接。
      [0026]這樣,密閉連接有利于將所需的離子氣體完全輸入到對(duì)應(yīng)的支撐針內(nèi)部,避免離子氣體外漏,從而能夠準(zhǔn)確的控制輸入到支撐針內(nèi)的離子氣體流量。
      [0027]較佳地,所述通氣部件為通氣管道。
      [0028]這樣,當(dāng)通氣部件為通氣管道時(shí),較其它通氣部件,通氣管道更容易與所述支撐針密閉連接,且通氣管道的設(shè)置也方便簡(jiǎn)單。
      【專利附圖】

      【附圖說(shuō)明】
      [0029]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的一種顯示面板生產(chǎn)設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0030]圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種支撐針的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0031]圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示面板生產(chǎn)設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0032]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種支撐針及顯示面板生產(chǎn)設(shè)備,用以降低基板背面的靜電離子,并且可以有效的防止摩擦產(chǎn)生的靜電離子和顆粒。
      [0033]下面給出本發(fā)明實(shí)施例提供的技術(shù)方案的詳細(xì)介紹。
      [0034]如圖2所示,本發(fā)明實(shí)施例提供的一種用于生產(chǎn)顯示面板的支撐針20,所述支撐針20為中空結(jié)構(gòu),其頂端和/或側(cè)面設(shè)置有開(kāi)口,所述開(kāi)口用于使流經(jīng)所述支撐針內(nèi)部的氣體通過(guò)該開(kāi)口吹出。所述支撐針在側(cè)壁上設(shè)置的開(kāi)口用于避免支撐針的側(cè)面和與其相鄰的設(shè)備之間的摩擦,從而可以消除與支撐針相鄰的設(shè)備的靜電,同時(shí)側(cè)壁上吹出的氣流也有清除塵粒的作用,所述支撐針在頂部設(shè)置的開(kāi)口用以有效的降低基板背面的靜電離子,同時(shí)也可以用于清除塵粒。
      [0035]較佳地,所述支撐針20的側(cè)面設(shè)置有多個(gè)開(kāi)口。其中,圖2僅示出了所述支撐針側(cè)面的開(kāi)口 21、22、23和24,實(shí)際支撐針側(cè)面的開(kāi)口不限于本發(fā)明實(shí)施例提供的側(cè)面開(kāi)口,可以根據(jù)實(shí)際生產(chǎn)需要進(jìn)行側(cè)面開(kāi)口數(shù)量的設(shè)計(jì)。
      [0036]較佳地,所述開(kāi)口 21、22、23和24的大小相等。
      [0037]較佳地,所述側(cè)面設(shè)置的開(kāi)口 21與23以該支撐針20的中心軸25對(duì)稱分布,所述側(cè)面設(shè)置的開(kāi)口 22與24以該支撐針20的中心軸25對(duì)稱分布。
      [0038]較佳地,所述開(kāi)口 21、22、23與24為圓形開(kāi)口,當(dāng)然所述開(kāi)口的形狀還可以設(shè)置為其它形狀,而不限于本發(fā)明實(shí)施例提供的圓形。
      [0039]較佳地,所述頂端設(shè)置的開(kāi)口 26的面積小于或等于1.7671平方毫米,其中,圖2僅示出了所述支撐針頂端的開(kāi)口 26,實(shí)際支撐針頂端的開(kāi)口也不限于本發(fā)明實(shí)施例提供的頂端開(kāi)口,可以根據(jù)實(shí)際生產(chǎn)需要將其頂端開(kāi)口設(shè)置為多個(gè)開(kāi)口,其中,頂端開(kāi)口同樣也可以設(shè)計(jì)為圓形的開(kāi)口,當(dāng)頂端開(kāi)口設(shè)計(jì)為圓形的開(kāi)口時(shí),圓形開(kāi)口的半徑設(shè)置為不大于
      0.75毫米,當(dāng)然也可以設(shè)計(jì)為其它形狀的開(kāi)口。
      [0040]較佳地,所述側(cè)面設(shè)置的開(kāi)口 21、22、23與24的面積小于或等于0.7854平方毫米,開(kāi)口 21、22、23與24的半徑設(shè)置為不大于0.5毫米。
      [0041]較佳地,所述支撐針20為中空的圓柱體,其中,所述支撐針還可以是中空的長(zhǎng)方體等其它形狀,而不限于本發(fā)明實(shí)施例提供的圓柱體。
      [0042]如圖3所示,本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示面板生產(chǎn)設(shè)備,所述設(shè)備包括:離子氣體裝置30,以及以上所述的多個(gè)支撐針31,其中,具體所需的支撐針個(gè)數(shù)按照生產(chǎn)設(shè)備實(shí)際的需要設(shè)置,所述離子氣體裝置30設(shè)置有與每個(gè)支撐針31—一對(duì)應(yīng)的通氣部件32,用于將離子氣體輸出給對(duì)應(yīng)的支撐針,并通過(guò)支撐針31上設(shè)置的開(kāi)口吹出。
      [0043]較佳地,所述支撐針31與其對(duì)應(yīng)的通氣部件32密閉連接,同樣地,所述顯示面板生產(chǎn)設(shè)備中的多個(gè)支撐針中的每一個(gè)支撐針均與對(duì)應(yīng)的通氣部件密閉連接,其中,圖3僅示出了與所述每一個(gè)支撐針對(duì)應(yīng)的通氣部件的位置,并沒(méi)有示出與支撐針具體連接的通氣部件。
      [0044]較佳地,所述通氣部件32為通氣管道。
      [0045]如圖3所示,將傳統(tǒng)的支撐針設(shè)計(jì)為中空結(jié)構(gòu),并在支撐針內(nèi)通以離子氣體,可以去除機(jī)臺(tái)34及基板33背面的靜電離子,同時(shí),在支撐針側(cè)面設(shè)置的對(duì)稱開(kāi)口可以緩解支撐針上升過(guò)程中與機(jī)臺(tái)通道產(chǎn)生的摩擦,進(jìn)而可以有效的防止由摩擦而產(chǎn)生的靜電離子和大
      量顆粒。
      [0046]綜上所述,本發(fā)明實(shí)施例提供的一種用于生產(chǎn)顯示面板的支撐針及顯示面板生產(chǎn)設(shè)備,其中,所述支撐針為中空結(jié)構(gòu),其頂端和/或側(cè)面設(shè)置有開(kāi)口,所述開(kāi)口用于使流經(jīng)所述支撐針內(nèi)部的氣體通過(guò)該開(kāi)口吹出,用以降低基板在生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的靜電,并且可以有效的防止摩擦產(chǎn)生的靜電離子和顆粒。
      [0047]顯然,本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣,倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi),則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
      【權(quán)利要求】
      1.一種支撐針,其特征在于,所述支撐針為中空結(jié)構(gòu),其頂端和/或側(cè)面設(shè)置有開(kāi)口,所述開(kāi)口用于使流經(jīng)所述支撐針內(nèi)部的氣體通過(guò)該開(kāi)口吹出。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的支撐針,其特征在于,所述支撐針的側(cè)面設(shè)置有多個(gè)開(kāi)口。
      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的支撐針,其特征在于,所述多個(gè)開(kāi)口的大小相等。
      4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的支撐針,其特征在于,所述側(cè)面設(shè)置的多個(gè)開(kāi)口以該支撐針的中心軸對(duì)稱分布。
      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的支撐針,其特征在于,所述開(kāi)口為圓形開(kāi)口。
      6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的支撐針,其特征在于,所述頂端設(shè)置的開(kāi)口的面積小于或等于1.7671平方毫米。
      7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的支撐針,其特征在于,所述側(cè)面設(shè)置的開(kāi)口的面積小于或等于0.7854平方毫米。
      8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的支撐針,其特征在于,所述支撐針為中空的圓柱體。
      9.一種顯示面板生產(chǎn)設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備包括:離子氣體裝置,以及多個(gè)權(quán)利要求1-8任一權(quán)項(xiàng)所述的支撐針,所述離子氣體裝置設(shè)置有與每個(gè)支撐針一一對(duì)應(yīng)的通氣部件,用于將離子氣體輸出給對(duì)應(yīng)的支撐針,并通過(guò)支撐針上設(shè)置的開(kāi)口吹出。
      10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示面板生產(chǎn)設(shè)備,其特征在于,每個(gè)支撐針與對(duì)應(yīng)的通氣部件密閉連接。
      11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示面板生產(chǎn)設(shè)備,其特征在于,所述通氣部件為通氣管道。
      【文檔編號(hào)】G02F1/1333GK103472603SQ201310424982
      【公開(kāi)日】2013年12月25日 申請(qǐng)日期:2013年9月17日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月17日
      【發(fā)明者】龔磊, 王濤, 郭光龍, 丁振勇, 張振宇 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 北京京東方顯示技術(shù)有限公司
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