用于改變多個(gè)輻射束的性質(zhì)的組件、光刻儀器、改變多個(gè)輻射束的性質(zhì)的方法以及器件制 ...的制作方法
【專利摘要】一種改變多個(gè)輻射束的性質(zhì)的組件，該組件包括多個(gè)波導(dǎo)，其被配置為引導(dǎo)多個(gè)輻射束更靠近在一起；和倍頻器件，其被配置為接收由多個(gè)波導(dǎo)引導(dǎo)的多個(gè)輻射束并且生成頻率為整數(shù)倍高的相應(yīng)的多個(gè)輻射束。還描述了相應(yīng)的光刻儀器、改變多個(gè)輻射束的性質(zhì)的方法和器件制造方法。
【專利說明】用于改變多個(gè)輻射束的性質(zhì)的組件、光刻儀器、改變多個(gè)輻射束的性質(zhì)的方法以及器件制造方法
[0001]相關(guān)串請的交叉引用
[0002]本申請要求2012年6月I日提交的美國臨時(shí)申請61/654，575以及2012年7月6日提交的美國臨時(shí)申請61/668，924的權(quán)益，其每個(gè)全部內(nèi)容通過參考合并于此。

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0003]本發(fā)明涉及改變多個(gè)輻射束的一個(gè)或多個(gè)性質(zhì)的組件、光刻儀器、改變多個(gè)輻射束的一個(gè)或多個(gè)性質(zhì)的方法和器件制造方法。

【背景技術(shù)】
[0004]光刻或曝光儀器是將所需要的圖形施加到襯底上或部分襯底上的機(jī)器。例如，該儀器可以用于制造集成電路(1C)、平板顯示器及其他器件或具有精細(xì)特征的結(jié)構(gòu)。在常規(guī)光刻或曝光儀器中，可以被稱作掩?；蜓谀０?reticle)的圖案形成器件可以用于生成電路圖案，其相應(yīng)于1C、平板顯示器、或其他器件的個(gè)體層。這個(gè)圖案可以被轉(zhuǎn)移在(部分)襯底(例如硅片或玻璃板)上，例如經(jīng)由成像到在襯底上提供的輻射敏感材料(抗蝕劑)的層上。
[0005]圖案形成器件代替電路圖案可以被用于生成其他圖案，例如濾色器圖案、或點(diǎn)的矩陣。該圖案形成器件代替常規(guī)掩膜可以包括圖案形成陣列，其包括生成電路或其他適用圖案的單獨(dú)可控元件的陣列。與常規(guī)的基于掩模系統(tǒng)相比，這種“無掩?！毕到y(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)是該圖案能夠更快且更少成本地提供和/或變化。
[0006]因此，無掩模系統(tǒng)包括可編程圖案形成器件(例如，空間光調(diào)制器、對比度器件等)?？删幊虉D案形成器件被(例如，電子或光學(xué)編程)為使用單獨(dú)可控元件的陣列形成所期望的圖案化光束。可編程圖案形成器件的類型包括微鏡陣列、液晶顯示(IXD)陣列、光柵光閥陣列、自發(fā)射對比度器件的陣列等?？删幊虉D案形成器件也能夠由電光偏轉(zhuǎn)器形成，例如其被配置為移動(dòng)被投影到目標(biāo)(例如，襯底)上的輻射的斑點(diǎn)，或者間斷地將輻射束引導(dǎo)遠(yuǎn)離目標(biāo)(例如，襯底)，例如引導(dǎo)到輻射束吸收體。在任意一個(gè)這種布置中，該輻射束可以連續(xù)的。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]405nm單模激光二極管可以用作可編程圖案形成器件的自發(fā)射對比度器件。在這種布置中，一個(gè)或多個(gè)單模光纖(一種波導(dǎo))可以用于傳輸和/或引導(dǎo)福射。高功率405nm單模激光二極管能夠是昂貴的，并且可能具有有限的壽命。此外，可能存在光纖壽命的問題。例如，光纖的入口和/或出射表面可能快速惡化(例如，在無特別保護(hù)的數(shù)日之內(nèi))。具有保護(hù)，壽命可以根據(jù)帶尾纖的激光器壽命而延長到大約3000小時(shí)。
[0008]對于可能使用高頻輻射的未來應(yīng)用，纖維或波導(dǎo)壽命和/或激光二極管成本/可用性的問題可能增加。
[0009]激光二極管在激光閾值以上連續(xù)運(yùn)行時(shí)出現(xiàn)另一個(gè)問題。例如，這可能需要實(shí)現(xiàn)迅速且精確的切換。保持該激光二極管在閾值以上可能增加背景輻射水平，這可能甚至不均勻。這個(gè)效果可能導(dǎo)致對比度損耗。
[0010]進(jìn)一步問題是激光二極管的光束指向穩(wěn)定性，尤其是對于多個(gè)激光二極管并且當(dāng)激光二極管之間的間距顯著縮微，以至達(dá)到目標(biāo)上斑點(diǎn)的所要求的間距。這是由于光束指向誤差以與激光二極管間距的縮小成反比的方式轉(zhuǎn)化為在目標(biāo)水平的遠(yuǎn)心度誤差所導(dǎo)致的情況。
[0011]期望例如解決如上所述的問題或本領(lǐng)域中的其他問題中的至少一個(gè)問題。
[0012]根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，提供了一種改變多個(gè)輻射束的性質(zhì)的組件，該組件包括多個(gè)波導(dǎo)，其被配置為將多個(gè)輻射束引導(dǎo)更靠近在一起；和倍頻器件，其被配置為接收由多個(gè)波導(dǎo)引導(dǎo)的多個(gè)輻射束并且生成頻率為整數(shù)倍高的相應(yīng)的多個(gè)輻射束。
[0013]根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，提供了一種曝光儀器，包括:輻射源，其提供多個(gè)單獨(dú)可控輻射束，該輻射源包括多個(gè)波導(dǎo)和倍頻器件，波導(dǎo)被配置為將多個(gè)輻射束引導(dǎo)更靠近在一起，倍頻器件被配置為接收由多個(gè)波導(dǎo)引導(dǎo)的多個(gè)輻射束并且生成頻率為整數(shù)倍高的相應(yīng)的多個(gè)輻射束；和投影系統(tǒng)，其用于將每個(gè)輻射束投影到目標(biāo)上的各自位置上。
[0014]根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，提供了一種曝光儀器，包括:輻射源，其提供多個(gè)單獨(dú)可控的輻射束，該輻射源包括多個(gè)豎直外腔表面發(fā)射激光器(VECSEL);和投影系統(tǒng)，其被配置為將每個(gè)輻射束投影到目標(biāo)上的各自位置上。
[0015]根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，提供了一種改變多個(gè)輻射束的性質(zhì)的方法，該方法包括使用多個(gè)波導(dǎo)將多個(gè)輻射束引導(dǎo)更靠近在一起；和使用倍頻器件接收由多個(gè)波導(dǎo)引導(dǎo)的多個(gè)輻射束并且生成頻率為整數(shù)倍高的相應(yīng)的多個(gè)輻射束。
[0016]根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，提供了器件制造方法，包括:使用多個(gè)波導(dǎo)將多個(gè)單獨(dú)可控輻射束引導(dǎo)更靠近在一起；使用倍頻器件接收由多個(gè)波導(dǎo)引導(dǎo)的多個(gè)輻射束并且生成頻率為整數(shù)倍高的相應(yīng)的多個(gè)輻射束；和將每個(gè)輻射束投影到目標(biāo)上的各自位置上。
[0017]根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，提供了一種器件制造方法，包括:使用多個(gè)豎直外腔表面發(fā)射激光器(VECSEL)提供多個(gè)單獨(dú)可控的輻射束；和將每個(gè)輻射束投影到目標(biāo)上的各自位置上。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0018]現(xiàn)在將僅僅通過示例參考附圖描述本發(fā)明的實(shí)施例,其中相應(yīng)的參考標(biāo)記指示相應(yīng)部件，并且其中:
[0019]圖1描繪了根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的光刻或曝光儀器的部件；
[0020]圖2描繪了根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的圖1的儀器的部件的頂視圖；
[0021]圖3描繪了根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的光刻或曝光儀器的部件的高度示意的透視圖；
[0022]圖4描繪了根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的由根據(jù)圖3的儀器投影到襯底上的示意頂視圖；
[0023]圖5以橫截面描繪了本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的部件；
[0024]圖6描繪了多個(gè)波導(dǎo)和倍頻器件；
[0025]圖7描繪了包括VECSEL陣列的輻射源；
[0026]圖8描繪了包括VECSEL和倍頻器件的輻射源的組合；和
[0027]圖9描繪了示例VECSEL配置。

【具體實(shí)施方式】
[0028]本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例涉及一種儀器，其可以包括可編程圖案形成器件，該器件例如可以由自發(fā)射對比度器件的(多個(gè))陣列組成。關(guān)于這種儀器的進(jìn)一步信息可以在PCT專利申請
【發(fā)明者】H·瑪爾德, P·德加格 申請人:Asml荷蘭有限公司