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      光學膜的制作方法

      文檔序號:2714515閱讀:276來源:國知局
      光學膜的制作方法
      【專利摘要】本發(fā)明提供黑色顯示時的漏光抑制性優(yōu)異的光學膜。本發(fā)明的光學膜是具有第一相位差層和第二相位差層的光學膜,第二相位差層具有式(3)所示的光學特性,該光學膜具有式(1)及式(2)所示的光學特性。(式中,Re(450)表示在波長450nm下的面內(nèi)相位差值,Re(550)表示在波長550nm下的面內(nèi)相位差值,Re(650)表示在波長650nm下的面內(nèi)相位差值。nx表示在相位差層所形成的折射率橢圓體中與膜平面平行的方向的主折射率,ny表示與膜平面平行、且與該nx的方向正交的方向的折射率,nz表示與膜平面垂直的方向的折射率。)Re(450)/Re(550)≤1.00 (1),1.00≤Re(650)/Re(550) (2),nx≈ny<nz (3)。
      【專利說明】光學膜

      【技術領域】
      [0001] 本發(fā)明涉及一種光學膜。

      【背景技術】
      [0002] 在平板顯示裝置(FPD)中使用偏振板、相位差板等包含光學膜的部件。作為這樣 的光學膜,已知有通過將含有聚合性液晶的組合物涂布到基材上而制造的光學膜。例如,在 專利文獻1中記載了顯示逆波長分散性的該光學膜。
      [0003] 現(xiàn)有技術文獻
      [0004] 專利文獻
      [0005] 專利文獻1 :日本特表2010-537955號公報


      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0006] 發(fā)明所要解決的課題
      [0007] 然而,以往的光學膜在抑制黑色顯示時的漏光這樣的光學補償特性方面并不充 分。
      [0008] 用于解決課題的方案
      [0009] 本發(fā)明包含以下技術方案。
      [0010] [1] 一種光學膜,其是具有第一相位差層和第二相位差層的光學膜,其中,
      [0011] 第二相位差層具有式(3)所示的光學特性,
      [0012] 該光學膜具有式(1)及式(2)所示的光學特性。
      [0013] Re(450)/Re(550)彡I. 00 (1)
      [0014] 1. 00 ^Re(650)/Re(550) (2)
      [0015] nx^ny<nz(3)
      [0016] (式中,Re(450)表不在波長450nm下的面內(nèi)相位差值,Re(550)表不在波長550nm 下的面內(nèi)相位差值,Re(650)表示在波長650nm下的面內(nèi)相位差值。nx表示在相位差層所 形成的折射率橢圓體中的與膜平面平行的方向的主折射率。ny表示在相位差層所形成的折 射率橢圓體中的與膜平面平行且與該nx的方向正交的方向的折射率。nz表示在相位差層 所形成的折射率橢圓體中的與膜平面垂直的方向的折射率。)
      [0017] [2]根據(jù)[1]所述的光學膜,其中,第一相位差層具有式(4)所示的光學特性。
      [0018] 100 < Re(550) < 160 (4)
      [0019] (式中,Re(550)表不與上述相同的含義。)
      [0020] [3]根據(jù)[1]或[2]所述的光學膜,其中,第一相位差層具有式(1)及式(2)所示 的光學特性。
      [0021] Re(450)/Re(550) ^ 1. 00 (1)
      [0022] 1. 00 ^ Re(650)/Re(550) (2)
      [0023] (式中,Re(450)、Re(550)及Re(650)表不與上述相同的含義。)
      [0024] [4]根據(jù)[1]?[3]中任一項所述的光學膜,其中,第一相位差層具備:
      [0025]具有式(4)、(6)及式(7)所示的光學特性的層A;和
      [0026] 具有式(5)、(6)及式(7)所示的光學特性的層B。
      [0027] 100<Re(550)<160 (4)
      [0028] 200 < Re(550) < 320 (5)
      [0029] Re(450)/Re(550)彡I. 00 (6)
      [0030] L00 彡Re(650)/Re(550) (7)
      [0031] (式中,Re(450)、Re(550)及Re(650)表不與上述相同的含義。)
      [0032] [5]根據(jù)[1]或[2]所述的光學膜,其是還具有第三相位差層的光學膜,其中,
      [0033] 第三相位差層具有式(5)所示的光學特性。
      [0034] 200 < Re(550) < 320 (5)
      [0035] (式中,Re(550)表不與上述相同的含義。)
      [0036] [6]根據(jù)[5]所述的光學膜,其中,第一相位差層及第三相位差層具有式(6)及式 (7)所示的光學特性。
      [0037] Re(450)/Re(550)彡I. 00 (6)
      [0038] L00 彡Re(650)/Re(550) (7)
      [0039] (式中,Re(450)、Re(550)及Re(650)表不與上述相同的含義。)
      [0040] [7]根據(jù)[5]或[6]所述的光學膜,其中,第三相位差層是通過使1種以上的聚合 性液晶聚合而形成的涂布層。
      [0041] [8]根據(jù)[5]?[7]中任一項所述的光學膜,其中,第三相位差層的厚度為5i!m以 下。
      [0042] [9]根據(jù)[5]?[8]中任一項所述的光學膜,其中,第三相位差層形成于取向膜上。
      [0043] [10]根據(jù)[1]?[9]中任一項所述的光學膜,其中,第一相位差層是通過使1種以 上的聚合性液晶聚合而形成的涂布層。
      [0044] [11]根據(jù)[1]?[10]中任一項所述的光學膜,其中,第二相位差層是通過使1種 以上的聚合性液晶聚合而形成的涂布層。
      [0045] [12]根據(jù)[1]?[11]中任一項所述的光學膜,其中,第一相位差層的厚度為 以下。
      [0046] [13]根據(jù)[1]?[12]中任一項所述的光學膜,其中,第二相位差層的厚度為 以下。
      [0047] [14]根據(jù)[1]?[13]中任一項所述的光學膜,其中,第一相位差層及第二相位差 層的厚度分別為5 以下。
      [0048] [15]根據(jù)[1]?[14]中任一項所述的光學膜,其中,第一相位差層形成于取向膜 上。
      [0049] [16]根據(jù)[1]?[15]中任一項所述的光學膜,其中,第二相位差層形成于取向膜 上。
      [0050] [17]根據(jù)[9]、[15]或[16]所述的光學膜,其中,取向膜是通過光照射而產(chǎn)生了 取向限制力的取向膜。
      [0051] [18]根據(jù)[9]、[15]或[16]所述的光學膜,其中,取向膜是產(chǎn)生垂直取向限制力 的取向膜。
      [0052] [19]根據(jù)[15]?[18]中任一項所述的光學膜,其中,取向膜的厚度為500nm以 下。
      [0053] [20]根據(jù)[1]?[19]中任一項所述的光學膜,其中,在基材上隔著或未隔著取向 膜地形成有第一相位差層,并且在第一相位差層上隔著或未隔著取向膜地形成有第二相位 差層。
      [0054] [21]根據(jù)[1]?[20]中任一項所述的光學膜,其中,在基材上隔著或未隔著取向 膜地形成有第二相位差層,并且在第二相位差層上隔著或未隔著取向膜地形成有第一相位 差層。
      [0055] [22]根據(jù)[5]?[21]中任一項所述的光學膜,其依次具有第一相位差層、第二相 位差層及第二相位差層。
      [0056] [23]根據(jù)[20]?[22]所述的光學膜,其中,在第一相位差層與第二相位差層之間 具有保護層。
      [0057] [24]根據(jù)[22]所述的光學膜,其中,在第二相位差層與第三相位差層之間具有保 護層。
      [0058] [25]根據(jù)[1]?[19]中任一項所述的光學膜,其中,在基材的一面隔著或未隔著 取向膜地形成有第一相位差層,并且在基材的另一面隔著或未隔著取向膜地形成有第二相 位差層。
      [0059] [26]根據(jù)[4]所述的光學膜,其中,層A是通過使1種以上的聚合性液晶聚合而形 成的涂布層。
      [0060] [27]根據(jù)[4]所述的光學膜,其中,層B是通過使1種以上的聚合性液晶聚合而形 成的涂布層。
      [0061] [28]根據(jù)[4]所述的光學膜,其中,層A的厚度為以下。
      [0062] [29]根據(jù)[4]所述的光學膜,其中,層B的厚度為以下。
      [0063] [30]根據(jù)[4]所述的光學膜,其中,層A及層B的厚度分別為以下。
      [0064] [31]根據(jù)[4]所述的光學膜,其中,在基材上隔著或未隔著取向膜地形成有層A, 在該層A上隔著或未隔著取向膜地形成有層B,并且在該層B上隔著或未隔著取向膜地形成 有第二相位差層。
      [0065] [32]根據(jù)[4]所述的光學膜,其中,在基材上隔著或未隔著取向膜地形成有層B, 在該層B上隔著或未隔著取向膜地形成有層A,并且在該層A上隔著或未隔著取向膜地形成 有第二相位差層。
      [0066] [33]根據(jù)[4]所述的光學膜,其中,在基材上隔著或未隔著取向膜地形成有第二 相位差層,在該第二相位差層上隔著或未隔著取向膜地形成有層A,并且在該層A上隔著或 未隔著取向膜地形成有層B。
      [0067] [34]根據(jù)[4]所述的光學膜,其中,在基材上隔著或未隔著取向膜地形成有第二 相位差層,在該第二相位差層上隔著或未隔著取向膜地形成有層B,在該層B上隔著或未隔 著取向膜地形成有層A。
      [0068] [35]根據(jù)[4]所述的光學膜,其中,在基材的一面隔著或未隔著取向膜地形成有 層A,在該層A上隔著或未隔著取向膜地形成有層B,并且在基材的另一面隔著或未隔著取 向膜地形成有第二相位差層。
      [0069] [36]根據(jù)[4]所述的光學膜,其中,在基材的一面隔著或未隔著取向膜地形成有 層B,在該層B上隔著或未隔著取向膜地形成有層A,并且在基材的另一面隔著或未隔著取 向膜地形成有第二相位差層。
      [0070] [37]根據(jù)[31]?[36]中任一項所述的光學膜,其中,在層A與層B之間具有保護 層。
      [0071] [38]根據(jù)[5]所述的光學膜,其中,在基材上隔著或未隔著取向膜地形成有第一 相位差層,在該第一相位差層上隔著或未隔著取向膜地形成有第二相位差層,并且在該第 二相位差層上隔著或未隔著取向膜地形成有第三相位差層。
      [0072] [39]根據(jù)[5]所述的光學膜,其中,在基材上隔著或未隔著取向膜地形成有第三 相位差層,在該第三相位差層上隔著或未隔著取向膜地形成有第二相位差層,并且在該第 二相位差層上隔著或未隔著取向膜地形成有第一相位差層。
      [0073] [40]根據(jù)[5]所述的光學膜,其中,在基材的一面隔著或未隔著取向膜地形成有 第一相位差層,在該第一相位差層上隔著或未隔著取向膜地形成有第二相位差層,并且在 基材的另一面隔著或未隔著取向膜地形成有第三相位差層。
      [0074] [41]根據(jù)[5]所述的光學膜,其中,在基材的一面隔著或未隔著取向膜地形成有 第二相位差層,在該第二相位差層上隔著或未隔著取向膜地形成有第一相位差層,并且在 基材的另一面隔著或未隔著取向膜地形成有第三相位差層。
      [0075] [42]根據(jù)[5]所述的光學膜,其中,在基材的一面隔著或未隔著取向膜地形成有 第三相位差層,在該第三相位差層上隔著或未隔著取向膜地形成有第二相位差層,并且在 基材的另一面隔著或未隔著取向膜地形成有第一相位差層。
      [0076] [43]根據(jù)[5]所述的光學膜,其中,在基材的一面隔著或未隔著取向膜地形成有 第二相位差層,在該第二相位差層上隔著或未隔著取向膜地形成有第三相位差層,并且在 基材的另一面隔著或未隔著取向膜地形成有第一相位差層。
      [0077] [44]-種圓偏振板,其具備[1]?[43]中任一項所述的光學膜和偏振板。
      [0078] [45]根據(jù)[44]所述的圓偏振板,其中,利用活性能量射線固化型粘接劑或水系粘 接劑將光學膜與偏振板貼合。
      [0079] [46]-種有機EL顯示裝置,其具備[44]或[45]所述的圓偏振板。
      [0080] [47]-種觸摸面板顯不裝置,其具備[44]或[45]所述的圓偏振板。
      [0081] 發(fā)明效果
      [0082] 根據(jù)本發(fā)明,能夠提供黑色顯示時的漏光抑制性優(yōu)異的光學膜。

      【專利附圖】

      【附圖說明】
      [0083] 圖1是本發(fā)明的光學膜的剖面示意圖。
      [0084] 圖2是本發(fā)明的光學膜的剖面示意圖。
      [0085] 圖3是包含本發(fā)明的光學膜的圓偏振板的剖面示意圖。
      [0086] 圖4是包含本發(fā)明的光學膜的圓偏振板的剖面示意圖。
      [0087] 圖5是包含本發(fā)明的光學膜的有機EL顯示裝置的剖面示意圖。
      [0088] 圖6是包含本發(fā)明的光學膜的有機EL顯示裝置的示意圖。

      【具體實施方式】
      [0089] 本發(fā)明的光學膜(以下,有時稱為本光學膜。)具有第一相位差層和第二相位差 層。此外,還可以具有第三相位差層。所謂第一相位差層、第二相位差層及第三相位差層是 指具有一定的光學特性的相位差層,第一相位差層、第二相位差層及第三相位差層也可以 分別由2個以上的層構(gòu)成。
      [0090] 本光學膜具有式(1)及式(2)所示的光學特性。為了使本光學膜具有上述的光學 特性,只要使第一相位差層、第二相位差層或第三相位差層具有式(1)及式(2)所示的光學 特性,或者通過將選自第一相位差層、第二相位差層及第三相位差層中的至少2個組合而 表現(xiàn)出式(1)及式(2)所示的光學特性即可。
      [0091] Re(450)/Re(550) ^ 1. 00 (1)
      [0092] 1. 00 ^Re(650)/Re(550) (2)
      [0093] 本說明書中,Re(450)表不在波長450nm下的面內(nèi)相位差值,Re(550)表不在波長 550nm下的面內(nèi)相位差值,Re(650)表示在波長650nm下的面內(nèi)相位差值。
      [0094] [相位差層]
      [0095] 作為相位差層,例如可列舉出通過使聚合性液晶聚合而形成的層及拉伸膜。相位 差層的光學特性可以利用聚合性液晶的取向狀態(tài)或拉伸膜的拉伸方法來進行調(diào)節(jié)。
      [0096] 〈通過使聚合性液晶聚合而形成的層〉
      [0097] 本發(fā)明中,將使聚合性液晶的光軸相對于基材平面水平地取向定義為水平取向, 將使聚合性液晶的光軸相對于基材平面垂直地取向定義為垂直取向。所謂光軸是指:在利 用聚合性液晶的取向而形成的折射率橢圓體中,在與光軸正交的方向上切出的剖面成為圓 的方向、即3個方向的折射率全部變得相等的方向。
      [0098] 作為聚合性液晶,可列舉出棒狀的聚合性液晶及圓盤狀的聚合性液晶。
      [0099] 在棒狀的聚合性液晶相對于基材發(fā)生水平取向或垂直取向時,該聚合性液晶的光 軸與該聚合性液晶的長軸方向一致。
      [0100] 在圓盤狀的聚合性液晶發(fā)生取向時,該聚合性液晶的光軸存在于與該聚合性液晶 的圓盤面正交的方向。
      [0101] 拉伸膜的慢軸方向根據(jù)拉伸方法而不同,根據(jù)單軸、雙軸或斜向拉伸等拉伸方法 來確定慢軸及光軸。
      [0102] 為了使通過使聚合性液晶聚合而形成的層表現(xiàn)出面內(nèi)相位差,只要使聚合性液晶 沿合適的方向發(fā)生取向即可。在聚合性液晶為棒狀時,通過使該聚合性液晶的光軸相對于 基材平面水平地發(fā)生取向來表現(xiàn)出面內(nèi)相位差,這種情況下,光軸方向與慢軸方向一致。在 聚合性液晶為圓盤狀時,通過使該聚合性液晶的光軸相對于基材平面水平地發(fā)生取向來表 現(xiàn)出面內(nèi)相位差,這種情況下,光軸與慢軸正交。聚合性液晶的取向狀態(tài)可以通過取向膜與 聚合性液晶的組合來進行調(diào)整。
      [0103] 相位差層的面內(nèi)相位差值可以通過相位差層的厚度來進行調(diào)整。由于面內(nèi)相位差 值由式(10)而決定,所以為了得到所期望的面內(nèi)相位差值(ReU)),只要調(diào)整AnU)和 膜厚d即可。
      [0104] Re(A)=dXAn(A) (10)
      [0105] 式中,Re(X)表不在波長Xnm下的面內(nèi)相位差值,d表不膜厚,An(X)表不波長 入nm下的雙折射率。
      [0106] 雙折射率An( A)通過測定面內(nèi)相位差值并用該面內(nèi)相位差值除以相位差層的 厚度而獲得。具體的測定方法在實施例中示山,此時,通過對在像玻璃基板那樣本身沒有面 內(nèi)相位差的基材上制成的膜進行測定,由此可以測定出實質(zhì)上的相位差層的特性。
      [0107]在本發(fā)明中,將通過聚合性液晶的取向或膜的拉伸而形成的折射率橢圓體中的3 個方向的折射率表示為nx、ny及nz。nx表示在相位差層所形成的折射率橢圓體中與膜平 面平行的方向的主折射率。ny表示在相位差層所形成的折射率橢圓體中與膜平面平行、且 與該nx的方向正交的方向的折射率。nz表示在相位差層所形成的折射率橢圓體中與膜平 面垂直的方向的折射率。
      [0108] 在棒狀的聚合性液晶的光軸相對于基材平面水平地發(fā)生取向時,所得到的相位差 層的折射率關系變成nx>ny?nz(正型A板),使折射率橢圓體中的nx的方向的軸與慢 軸一致。
      [0109] 此外,在圓盤狀的聚合性液晶的光軸相對于基材平面水平地發(fā)生取向時,所得到 的相位差層的折射率關系變成nx<ny?nz(負型A板),使折射率橢圓體中的ny的方向 的軸與慢軸一致。
      [0110] 為了使通過使聚合性液晶聚合而形成的層表現(xiàn)出厚度方向的相位差,只要使聚合 性液晶沿合適的方向發(fā)生取向即可。在本發(fā)明中,所謂"表現(xiàn)出厚度方向的相位差"定義為 顯示在式(20)中Rth(厚度方向的相位差值)成為負值時的特性。Rth可以由以面內(nèi)的快 軸作為傾斜軸傾斜40度而測定的相位差值(R4tl)和面內(nèi)的相位差值(Re)來計算。即,利用 以下的式(21)?(23),由Re、R4(l、d(相位差層的厚度)及n0 (相位差層的平均折射率)求 出nx、ny及nz,并將它們代入式(20)中,從而可以算出Rth。
      [0111] Rth= [ (nx+ny)/2-nz]Xd (20)
      [0112] Re= (nx-ny)Xd (21)
      [0113] R40 = (nx-ny' )Xd/cos( ) (22)
      [0114] (nx+ny+nz)/3 =nO (23)
      [0115]其中,
      [0116] =sirfl〔sin(40° )/nO〕
      [0117] ny' = nyXnz/ (ny2X sin2 ( ) +nz2X cos2 ( ) ) 1/2
      [0118] 此外,nx、ny及nz與上述的定義相同。
      [0119] 在聚合性液晶為棒狀時,通過使該聚合性液晶的光軸相對于基材平面垂直地發(fā)生 取向而表現(xiàn)出厚度方向的相位差。在聚合性液晶為圓盤狀時,通過使該聚合性液晶的光軸 相對于基材平面水平地發(fā)生取向而表現(xiàn)出厚度方向的相位差。在圓盤狀的聚合性液晶的 情況下,由于該聚合性液晶的光軸與基材平面平行,所以若Re確定,則厚度被固定,從而唯 一地地確定Rth,但在棒狀的聚合性液晶的情況下,由于該聚合性液晶的光軸與基材平面垂 直,所以可以通過調(diào)節(jié)相位差層的厚度而在不使Re發(fā)生變化的情況下調(diào)節(jié)Rth。
      [0120] 在棒狀的聚合性液晶的光軸相對于基材平面垂直地發(fā)生取向時,所得到的相位差 層的折射率關系變成nx?ny<nz(正型C板),使折射率橢圓體中的nz的方向的軸與慢 軸方向一致。
      [0121] 此外,在圓盤狀的聚合性液晶的光軸相對于基材平面平行地發(fā)生取向時,所得到 的相位差層的折射率關系變成nx<ny?nz(負型A板),使折射率橢圓體中的ny的方向 的軸與慢軸方向一致。
      [0122] 〈聚合性液晶〉
      [0123] 所謂聚合性液晶是指具有聚合性基團、且具有液晶性的化合物。所謂聚合性基團 是指參與聚合反應的基團,優(yōu)選為光聚合性基團。其中,所謂光聚合性基團是指可利用由后 述的光聚合引發(fā)劑產(chǎn)生的活性自由基或酸等參與聚合反應的基團。作為聚合性基團,可列 舉出乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧 基、環(huán)氧乙基、氧雜環(huán)丁基等。其中,優(yōu)選丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯氧基、環(huán)氧乙基 及氧雜環(huán)丁基,更優(yōu)選丙烯酰氧基。對于聚合性液晶所具有的液晶性而言,聚合性液晶可以 是熱致性液晶,也可以是溶致性液晶,若將熱致液晶以有序度進行分類,則可以是向列型液 晶,也可以是近晶型液晶。
      [0124] 作為棒狀的聚合性液晶,可列舉出例如下述式(A)所示的化合物(以下,有時稱為 聚合性液晶(A)。)及包含下述式(X)所示的基團的化合物(以下,有時稱為聚合性液晶 ⑶)。
      [0125]

      【權(quán)利要求】
      1. 一種光學膜,其是具有第一相位差層和第二相位差層的光學膜,其中, 第二相位差層具有式(3)所示的光學特性, 該光學膜具有式(1)及式(2)所示的光學特性, Re (450)/Re 巧50)《1. 00 (1) 1. 00《Re 化50)/Re 巧50) (2) nx > ny < nz 做 式中,Re (450)表示在波長450nm下的面內(nèi)相位差值,Re (550)表示在波長550nm下的 面內(nèi)相位差值,Re(650)表示在波長650nm下的面內(nèi)相位差值;nx表示在相位差層所形成的 折射率楠圓體中與膜平面平行的方向的主折射率;ny表示在相位差層所形成的折射率楠 圓體中與膜平面平行、且與該nx的方向正交的方向的折射率;nz表示在相位差層所形成的 折射率楠圓體中與膜平面垂直的方向的折射率。
      2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學膜,其中,第一相位差層具有式(4)所示的光學特性, 100 < Re 巧50) < 160 (4) 式中,Re(550)表示與上述相同的含義。
      3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學膜,其中,第一相位差層具有式(1)及式(2)所示的 光學特性, Re (450)/Re 巧50)《1. 00 (1) 1. 00《Re 化50)/Re 巧50) (2) 式中,Re (450)、Re巧50)及Re化50)表示與上述相同的含義。
      4. 根據(jù)權(quán)利要求1?3中任一項所述的光學膜,其中,第一相位差層具備: 具有式(4)、做及式(7)所示的光學特性的層A ;和 具有式巧)、(6)及式(7)所示的光學特性的層B, 100. Re 巧50) < 160 (4) 200. Re (550) < 320 妨 Re (450)/Re 巧50) > 1. 00 (6) 1. 00 > Re 化50)/Re 巧50) (7) 式中,Re (450)、Re巧50)及Re化50)表示與上述相同的含義。
      5. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學膜,其是還具有第H相位差層的光學膜,其中, 第H相位差層具有式(5)所示的光學特性, 200. Re (550) < 320 妨 式中,Re(550)表示與上述相同的含義。
      6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學膜,其中,第一相位差層及第H相位差層具有式(6)及式 (7)所示的光學特性, Re (450)/Re 巧50) > 1. 00 (6) 1. 00 > Re 化50)/Re 巧50) (7) 式中,Re (450)、Re巧50)及Re化50)表示與上述相同的含義。
      7. 根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的光學膜,其中,第H相位差層是通過使1種W上的聚合性 液晶聚合而形成的涂布層。
      8. 根據(jù)權(quán)利要求5?7中任一項所述的光學膜,其中,第H相位差層的厚度為5 y m W 下。
      9. 根據(jù)權(quán)利要求5?8中任一項所述的光學膜,其中,第H相位差層形成于取向膜上。
      10. 根據(jù)權(quán)利要求1?9中任一項所述的光學膜,其中,第一相位差層是通過使1種W 上的聚合性液晶聚合而形成的涂布層。
      11. 根據(jù)權(quán)利要求1?10中任一項所述的光學膜,其中,第二相位差層是通過使1種W 上的聚合性液晶聚合而形成的涂布層。
      12. 根據(jù)權(quán)利要求1?11中任一項所述的光學膜,其中,第一相位差層的厚度為Sum W下。
      13. 根據(jù)權(quán)利要求1?12中任一項所述的光學膜,其中,第二相位差層的厚度為Sum W下。
      14. 根據(jù)權(quán)利要求1?13中任一項所述的光學膜,其中,第一相位差層及第二相位差層 的厚度分別為Sum W下。
      15. 根據(jù)權(quán)利要求1?14中任一項所述的光學膜,其中,第一相位差層形成于取向膜 上。
      16. 根據(jù)權(quán)利要求1?15中任一項所述的光學膜,其中,第二相位差層形成于取向膜 上。
      17. 根據(jù)權(quán)利要求9或15所述的光學膜,其中,取向膜是通過光照射而產(chǎn)生了取向限制 力的取向膜。
      18. 根據(jù)權(quán)利要求9或16所述的光學膜,其中,取向膜是產(chǎn)生垂直取向限制力的取向 膜。
      19. 根據(jù)權(quán)利要求15?18中任一項所述的光學膜,其中,取向膜的厚度為500nm W下。
      20. 根據(jù)權(quán)利要求1?19中任一項所述的光學膜,其中,在基材上隔著或未隔著取向膜 地形成有第一相位差層,并且在第一相位差層上隔著或未隔著取向膜地形成有第二相位差 層。
      21. 根據(jù)權(quán)利要求1?19中任一項所述的光學膜,其中,在基材上隔著或未隔著取向膜 地形成有第二相位差層,并且在第二相位差層上隔著或未隔著取向膜地形成有第一相位差 層。
      22. 根據(jù)權(quán)利要求5?21中任一項所述的光學膜,其依次具有第一相位差層、第二相位 差層及第H相位差層。
      23. 根據(jù)權(quán)利要求20?22中任一項所述的光學膜,其中,在第一相位差層與第二相位 差層之間具有保護層。
      24. 根據(jù)權(quán)利要求22所述的光學膜,其中,在第二相位差層與第H相位差層之間具有 保護層。
      25. 根據(jù)權(quán)利要求1?19中任一項所述的光學膜,其中,在基材的一面隔著或未隔著取 向膜地形成有第一相位差層,并且在基材的另一面隔著或未隔著取向膜地形成有第二相位 差層。
      26. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學膜,其中,層A是通過使1種W上的聚合性液晶聚合而 形成的涂布層。
      27. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學膜,其中,層B是通過使1種W上的聚合性液晶聚合而 形成的涂布層。
      28. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學膜,其中,層A的厚度為5 y m W下。
      29. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學膜,其中,層B的厚度為5 y m W下。
      30. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學膜,其中,層A及層B的厚度分別為5 y m W下。
      31. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學膜,其中,在基材上隔著或未隔著取向膜地形成有層A, 在該層A上隔著或未隔著取向膜地形成有層B,并且在該層B上隔著或未隔著取向膜地形成 有第二相位差層。
      32. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學膜,其中,在基材上隔著或未隔著取向膜地形成有層B, 在該層B上隔著或未隔著取向膜地形成有層A,并且在該層A上隔著或未隔著取向膜地形成 有第二相位差層。
      33. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學膜,其中,在基材上隔著或未隔著取向膜地形成有第二 相位差層,在該第二相位差層上隔著或未隔著取向膜地形成有層A,并且在該層A上隔著或 未隔著取向膜地形成有層B。
      34. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學膜,其中,在基材上隔著或未隔著取向膜地形成有第二 相位差層,在該第二相位差層上隔著或未隔著取向膜地形成有層B,并且在該層B上隔著或 未隔著取向膜地形成有層A。
      35. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學膜,其中,在基材的一面隔著或未隔著取向膜地形成有 層A,在該層A上隔著或未隔著取向膜地形成有層B,并且在基材的另一面隔著或未隔著取 向膜地形成有第二相位差層。
      36. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學膜,其中,在基材的一面隔著或未隔著取向膜地形成有 層B,在該層B上隔著或未隔著取向膜地形成有層A,并且在基材的另一面隔著或未隔著取 向膜地形成有第二相位差層。
      37. 根據(jù)權(quán)利要求31?36中任一項所述的光學膜,其中,在層A與層B之間具有保護 層。
      38. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學膜,其中,在基材上隔著或未隔著取向膜地形成有第一 相位差層,在該第一相位差層上隔著或未隔著取向膜地形成有第二相位差層,并且在該第 二相位差層上隔著或未隔著取向膜地形成有第H相位差層。
      39. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學膜,其中,在基材上隔著或未隔著取向膜地形成有第H 相位差層,在該第H相位差層上隔著或未隔著取向膜地形成有第二相位差層,并且在該第 二相位差層上隔著或未隔著取向膜地形成有第一相位差層。
      40. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學膜,其中,在基材的一面隔著或未隔著取向膜地形成有 第一相位差層,在該第一相位差層上隔著或未隔著取向膜地形成有第二相位差層,并且在 基材的另一面隔著或未隔著取向膜地形成有第H相位差層。
      41. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學膜,其中,在基材的一面隔著或未隔著取向膜地形成有 第二相位差層,在該第二相位差層上隔著或未隔著取向膜地形成有第一相位差層,并且在 基材的另一面隔著或未隔著取向膜地形成有第H相位差層。
      42. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學膜,其中,在基材的一面隔著或未隔著取向膜地形成有 第H相位差層,在該第H相位差層上隔著或未隔著取向膜地形成有第二相位差層,并且在 基材的另一面隔著或未隔著取向膜地形成有第一相位差層。
      43. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學膜,其中,在基材的一面隔著或未隔著取向膜地形成有 第二相位差層,在該第二相位差層上隔著或未隔著取向膜地形成有第H相位差層,并且在 基材的另一面隔著或未隔著取向膜地形成有第一相位差層。
      44. 一種圓偏振板,其具備權(quán)利要求1?43中任一項所述的光學膜和偏振板。
      45. 根據(jù)權(quán)利要求44所述的圓偏振板,其中,利用活性能量射線固化型粘接劑或水系 粘接劑將光學膜與偏振板貼合。
      46. -種有機電致發(fā)光顯示裝置,其具備權(quán)利要求44或45所述的圓偏振板。
      47. -種觸摸面板顯示裝置,其具備權(quán)利要求44或45所述的圓偏振板。
      【文檔編號】G02B5/30GK104345374SQ201410386838
      【公開日】2015年2月11日 申請日期:2014年8月7日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月9日
      【發(fā)明者】幡中伸行, 橫田明 , 小林忠弘, 佐瀨光敬, 小松慶史 申請人:住友化學株式會社
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