一種大臺面曝光的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種大臺面曝光機(jī)，它包括放板臺（1）、曝光室（2）、輸送導(dǎo)軌（3）、曝光平臺（4）和曝光燈（5），放板臺（1）的臺面與曝光室（2）的入口相對應(yīng)，曝光平臺（4）包括透光平臺座（6）和翻轉(zhuǎn)蓋（7），翻轉(zhuǎn)蓋（7）可轉(zhuǎn)動打開或合上的安裝在透光平臺座（6）上，翻轉(zhuǎn)蓋（7）內(nèi)設(shè)置有一層擋光膜（8），曝光室（2）內(nèi)水平設(shè)置有一伸縮氣缸（9），伸縮氣缸（9）的活塞桿與曝光平臺（4）連接，曝光室（2）內(nèi)設(shè)置有一燈光罩（10），曝光燈（5）安裝在燈光罩（10）內(nèi)。本實(shí)用新型的有益效果是：它具有結(jié)構(gòu)簡單、適用于大尺寸鋁基板曝光和曝光效果好的優(yōu)點(diǎn)。
【專利說明】一種大臺面曝光機(jī)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及曝光機(jī)，特別是一種大臺面曝光機(jī)。

【背景技術(shù)】
[0002]曝光機(jī)是集電子光學(xué)、電氣、機(jī)械、真空、計(jì)算機(jī)技術(shù)等于一體的復(fù)雜的半導(dǎo)體加工設(shè)備，70年代以后廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體集成電路制造業(yè)，是在計(jì)算機(jī)的控制下，利用聚焦電子束對有機(jī)聚合物(通常稱為電子抗蝕劑或光刻膠)進(jìn)行曝光，它常用于半導(dǎo)體制造，光電電子，平板，射頻微波，衍射光學(xué)，微機(jī)電系統(tǒng)，凹凸或覆晶設(shè)備和其他要求精細(xì)印制領(lǐng)域。
[0003]在鋁基板板加工過程中，需要對鋁基板進(jìn)行曝光，而目前最常用的曝光方式就是采用曝光機(jī)曝光，但是現(xiàn)有的曝光機(jī)曝光的尺寸較小，不適用于大尺寸的鋁基板曝光，若將現(xiàn)有的曝光機(jī)對大尺寸的鋁基板進(jìn)行曝光，其曝光的效果極差，鋁基板的曝光面曝光不均勻，特別是鋁基板邊緣地帶的曝光效果極差。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004]本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，提供一種結(jié)構(gòu)簡單、適用于大尺寸鋁基板曝光和曝光效果好大臺面曝光機(jī)。
[0005]本實(shí)用新型的目的通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn):一種大臺面曝光機(jī)，它包括放板臺、曝光室、輸送導(dǎo)軌、曝光平臺和曝光燈，所述的放板臺的臺面與曝光室的入口相對應(yīng)，所述的曝光平臺包括透光平臺座和翻轉(zhuǎn)蓋，所述的翻轉(zhuǎn)蓋可轉(zhuǎn)動打開或合上的安裝在透光平臺座上，所述的翻轉(zhuǎn)蓋內(nèi)設(shè)置有一層擋光膜，所述的曝光室內(nèi)水平設(shè)置有一伸縮氣缸，伸縮氣缸的活塞桿與曝光平臺連接，所述的曝光室內(nèi)設(shè)置有一燈光罩，所述的曝光燈安裝在燈光罩內(nèi)。
[0006]所述的曝光室上方設(shè)置有一控制室，控制室內(nèi)的控制元件控制伸縮氣缸。
[0007]所述的擋光膜為黑色擋光膜。
[0008]所述的燈光罩上方開口且其截面為弧形。
[0009]所述的曝光燈為多個，且并排的的設(shè)置在燈光罩內(nèi)。
[0010]本實(shí)用新型具有以下優(yōu)點(diǎn):本實(shí)用新型的大臺面曝光機(jī)，設(shè)置有燈光罩，燈光罩將曝光燈的光源進(jìn)行反射，放射后的光源形成平行光對鋁基板的曝光面進(jìn)行曝光，燈光罩降低了光源的流失，在相同曝光強(qiáng)度下，可以降低曝光燈數(shù)量，節(jié)約能耗；燈光罩將曝光燈的光源放射，保證了光源直射鋁基板的曝光面，實(shí)現(xiàn)鋁基板的全方位曝光，提高了鋁基板的曝光效果；通過燈光罩反射光源，使曝光機(jī)適用于大尺寸的鋁基板曝光，且曝光效果極好。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0011]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0012]圖2為本實(shí)用新型的剖視示意圖；
[0013]圖3為曝光平臺張開示意圖；
[0014]圖4為翻轉(zhuǎn)蓋俯視示意圖；
[0015]圖中，1-放板臺，2-曝光室，3-輸送導(dǎo)軌，4-曝光平臺，5-曝光燈，6_透光平臺座，7-翻轉(zhuǎn)蓋，8-擋光膜，9-伸縮氣缸，10-燈光罩，11-控制室。

【具體實(shí)施方式】
[0016]下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型做進(jìn)一步的描述，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍不局限于以下所述:
[0017]如圖1所示，一種大臺面曝光機(jī)，它包括放板臺1、曝光室2、輸送導(dǎo)軌3、曝光平臺4和曝光燈5，所述的放板臺I的臺面與曝光室2的入口相對應(yīng)，如圖3所示，所述的曝光平臺4包括透光平臺座6和翻轉(zhuǎn)蓋7，所述的翻轉(zhuǎn)蓋7可轉(zhuǎn)動打開或合上的安裝在透光平臺座6上，在本實(shí)施例中，為保證翻轉(zhuǎn)蓋7不漏光，增加鋁基板的曝光效果，所述的翻轉(zhuǎn)蓋7內(nèi)設(shè)置有一層擋光膜8，如圖4所示，為進(jìn)一步地保證翻轉(zhuǎn)蓋7不漏光，擋光膜8選用黑色擋光膜，如圖2所示，所述的曝光室2內(nèi)水平設(shè)置有一伸縮氣缸9，伸縮氣缸9的活塞桿與曝光平臺4連接，通過伸縮氣缸9的活塞桿的來回移動，實(shí)現(xiàn)曝光平臺4的來回移動，所述的曝光室2內(nèi)設(shè)置有一燈光罩10,所述的曝光燈5安裝在燈光罩10內(nèi)，在本實(shí)施例中，所述的燈光罩10上方開口且其截面為弧形，曝光燈5為多個,且并排的的設(shè)置在燈光罩10內(nèi)，曝光燈5發(fā)出的光源經(jīng)過燈光罩10的弧形面放射形成平行光，且對鋁基板進(jìn)行曝光，降低了光源的流失，增加了光源的強(qiáng)度，在相同曝光強(qiáng)度時(shí)，可以節(jié)約曝光燈5的數(shù)量，降低能耗。通過燈光罩10的反射，保證了光源直射鋁基板的曝光面，解決了大尺寸鋁基板曝光不均勻，鋁基板四周曝光質(zhì)量不高的問題。
[0018]在本實(shí)施例中為了提高曝光機(jī)的自動化，所述的曝光室2上方設(shè)置有一控制室11，控制室11內(nèi)的控制元件控制伸縮氣缸9。
[0019]本實(shí)用新型的工作過程如下:操作人員手動打開曝光平臺4，將電路板放置在透光平臺座6的固定區(qū)域內(nèi)，然后合上曝光平臺4，點(diǎn)動啟動按鈕，伸縮氣缸9運(yùn)動，將曝光平臺4移動到曝光區(qū)域，然后伸縮氣缸9停止工作，曝光燈5打開，曝光燈5的光源在燈光罩10的反射作用下，降低了光源的流失，增加了光源的強(qiáng)度，保證了光源直射鋁基板的曝光面，實(shí)現(xiàn)鋁基板的全方位曝光，提高了鋁基板的曝光效果，曝光完成后，為降低能耗，曝光燈5關(guān)閉，伸縮氣缸9運(yùn)動，將曝光平臺4移出曝光室2，取出曝光好的鋁基板，再重復(fù)上述動作。
【權(quán)利要求】
1.一種大臺面曝光機(jī)，其特征在于:它包括放板臺(I)、曝光室(2)、輸送導(dǎo)軌(3)、曝光平臺(4)和曝光燈(5)，所述的放板臺(I)的臺面與曝光室(2)的入口相對應(yīng)，所述的曝光平臺(4)包括透光平臺座(6)和翻轉(zhuǎn)蓋(7)，所述的翻轉(zhuǎn)蓋(7)可轉(zhuǎn)動打開或合上的安裝在透光平臺座(6)上，所述的翻轉(zhuǎn)蓋(7)內(nèi)設(shè)置有一層擋光膜(8)，所述的曝光室(2)內(nèi)水平設(shè)置有一伸縮氣缸(9)，伸縮氣缸(9)的活塞桿與曝光平臺(4)連接，所述的曝光室(2)內(nèi)設(shè)置有一燈光罩(10),所述的曝光燈(5)安裝在燈光罩(10)內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種大臺面曝光機(jī)，其特征在于:所述的曝光室(2)上方設(shè)置有一控制室(11 )，控制室(11)內(nèi)的控制元件控制伸縮氣缸(9)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種大臺面曝光機(jī)，其特征在于:所述的擋光膜(8)為黑色擋光膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種大臺面曝光機(jī)，其特征在于:所述的燈光罩(10)上方開口且其截面為弧形。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種大臺面曝光機(jī)，其特征在于:所述的曝光燈(5)為多個，且并排的設(shè)置在燈光罩(10)內(nèi)。
【文檔編號】G03F7/20GK204229117SQ201420691290
【公開日】2015年3月25日 申請日期:2014年11月18日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月18日
【發(fā)明者】帥紅 申請人:四川珩必鑫電子科技有限公司