本發(fā)明涉及一種液晶顯示面板及液晶顯示面板的形成方法，特別是涉及一種可避免配向膜因摩擦脫落的液晶顯示面板及液晶顯示面板的形成方法。

背景技術：

在液晶顯示面板的制程中，液晶顯示面板的上基板或下基板上會形成有多個間隔單元，用以在上基板及下基板之間提供支撐。在現(xiàn)有技術中，液晶顯示面板的間隔單元是形成在同一平面上。然而，在液晶顯示面板薄型化的研磨過程中，形成于液晶顯示面板邊緣的非顯示區(qū)內(nèi)的間隔單元會和另一基板上的配向膜摩擦，導致配向膜脫落，進而影響液晶顯示面板的外觀及影像品質(zhì)。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明所要解決的技術問題是：為了彌補現(xiàn)有技術的不足，提供一種液晶顯示面板，包括一第一基板，包括一顯示區(qū)及一非顯示區(qū)；一彩色濾光層，形成于所述第一基板上的所述顯示區(qū)內(nèi)；一覆蓋層，覆蓋于所述彩色濾光層上；多個第一間隔單元，形成于所述顯示區(qū)內(nèi)的所述覆蓋層上；多個第二間隔單元，形成于所述第一基板上的所述非顯示區(qū)內(nèi)；一配向膜，形成于所述覆蓋層、所述多個第一間隔單元及所述多個第二間隔單元上；一第二基板，設置于所述第一基板的相對應位置；及多個液晶電極，形成于所述第二基板上；其中所述多個第一間隔單元的頂部到所述第一基板的距離大于所述多個第二間隔單元的頂部到所述第一基板的距離。

本發(fā)明還提供一種液晶顯示面板的形成方法，包括形成一彩色濾光層于一第一基板上的一顯示區(qū)內(nèi)；形成一覆蓋層于所述彩色濾光層上；形成多個 第一間隔單元于所述顯示區(qū)內(nèi)的所述覆蓋層上，且形成多個第二間隔單元于所述第一基板上的所述非顯示區(qū)內(nèi)；形成一配向膜于所述覆蓋層、所述多個第一間隔單元及所述多個第二間隔單元上；形成多個液晶電極于一第二基板上；及組合所述第一基板及所述第二基板；其中所述多個第一間隔單元的頂部到所述第一基板的距離大于所述多個第二間隔單元的頂部到所述第一基板的距離。

附圖說明

圖1是本發(fā)明液晶顯示面板第一實施例于組合前的示意圖。

圖2是本發(fā)明液晶顯示面板第一實施例于組合后的示意圖。

圖3是本發(fā)明液晶顯示面板第二實施例的示意圖。

圖4是本發(fā)明液晶顯示面板第三實施例的示意圖。

圖5是本發(fā)明液晶顯示面板的形成方法的流程圖。

其中，附圖標記說明如下：

110 第一基板

112 彩色濾光層

113 第一間隔單元的底部

114 第二間隔單元的底部

115 第一間隔單元的頂部

116 第二間隔單元的頂部

117 第一覆蓋層

118 第一配向膜

120 第二基板

122 液晶電極

124 第二覆蓋層

126 第二配向膜

130 液晶層

PS1 第一間隔單元

PS2 第二間隔單元

H1 第一間隔單元的高度

H2 第二間隔單元的高度

200 流程圖

210至260 步驟

具體實施方式

請同時參考圖1及圖2。圖1是本發(fā)明液晶顯示面板于組合前的示意圖。圖2是本發(fā)明液晶顯示面板于組合后的示意圖。如圖所示，本發(fā)明液晶顯示面板包括一第一基板110及一第二基板120。第一基板110包括一顯示區(qū)AA及一非顯示區(qū)NA。第二基板120是設置于第一基板110的相對應位置。第一基板110上的顯示區(qū)AA內(nèi)形成有一彩色濾光層112。彩色濾光層112可包括多個濾光區(qū)塊(例如紅色濾光區(qū)塊、綠色濾光區(qū)塊、藍色濾光區(qū)塊)及多個遮光區(qū)塊。濾光區(qū)塊是用以過濾光線，遮光區(qū)塊是用以阻隔光線。彩色濾光層112上還形成有一第一覆蓋層(over coating layer,OC層)117，第一覆蓋層117會于顯示區(qū)AA內(nèi)形成一平坦表面。在本實施例中,第一覆蓋層117是為了避免彩色濾光層112的離子進入液晶層130造成污染的保護層,并且可作為平坦層,使液晶排列不受彩色濾光層112中RGB彩色光阻的角斷差影響,以避免液晶排列不均而造成漏光。第一覆蓋層117的材料可為透明的樹脂材料(例如環(huán)氧樹脂或壓克力樹脂),但不以此為限。另外，多個第一間隔單元PS1是形成于顯示區(qū)AA內(nèi)的覆蓋層117上，且多個第二間隔單元PS2是形成于第一基板110上的非顯示區(qū)NA內(nèi)。由于第一間隔單元PS1是形成于第一覆蓋層117上，因此第一間隔單元PS1的底部113到第一基板110的距離大于第二間隔單元PS2的底部114到第一基板110的距離。一第一配向膜118會進一步形成于覆蓋層117、第一間隔單元PS1及第二間隔單元PS2上。另一方面，多個液晶電極122形成于第二基板120上，液晶電極122可以是面內(nèi)切換型(In-Plane Switching,IPS)液晶電極或邊界電場切換型(Fringe Field Switching,FFS)液晶電極。液晶電極122上還形成有一第二覆蓋層124，第二覆蓋層124會于第二基板120上形成一平坦表面。一第二配向膜126形成于第二覆蓋層124上。當?shù)谝换?10和第二基板120相互組合時，液晶材料可進一步填充于第一基板110及第二基板120之間的空隙，以形成一液晶層130。當形成液晶層130之后，液晶電極122可施加電壓于液晶層130，以驅(qū)動液晶轉(zhuǎn)動，進而顯示圖像。

需特別說明的是在本實施例中，第一基板110是液晶顯示面板中的彩色濾光層基板，而第二基板120是液晶顯示面板中的薄膜晶體管(Thin Film Transistor,TFT)陣列基板。因此雖然圖1及2未繪示設置于第二基板120的薄膜晶體管，惟其為該技術領域具有通常知識者所習知，因此于圖1及2不再繪示。此外，對于面內(nèi)切換型(IPS)液晶顯示面板，圖1及2的液晶電極122為交錯設置的像素電極(pixel electrode)及共同電極(common electrode)。對于邊界電場切換型(FFS)液晶顯示面板，圖1及2的液晶電極122為像素電極，而共同電極則設置于較像素電極更接近第二基板120處(圖未繪示)。

依據(jù)上述配置，第一間隔單元PS1的頂部115至第一基板110的距離大于第二間隔單元PS2的頂部116至第一基板110的距離，也就是說，第二基板120和非顯示區(qū)NA內(nèi)的第二間隔單元PS2的頂部116之間的距離大于第二基板120和顯示區(qū)AA內(nèi)的第一間隔單元PS1的頂部115之間的距離，因此在液晶顯示面板薄型化的研磨過程中，位于第一基板110上非顯示區(qū)NA內(nèi)的第二間隔單元PS2的頂部116上方的配向膜118較不易和第二基板120的配向膜126摩擦，以避免配向膜118、126脫落，影響液晶顯示面板的外觀及影像品質(zhì)。

另外，在上述實施例中，第一覆蓋層117是形成于部分非顯示區(qū)NA內(nèi),而第二間隔單元PS2是形成于不具第一覆蓋層117的部分非顯示區(qū)NA內(nèi)。舉例來說，在形成第一覆蓋層117后，非顯示區(qū)NA內(nèi)對應欲形成第二間隔單元PS2的區(qū)域的第一覆蓋層會117被蝕刻，以完全移除非顯示區(qū)NA內(nèi)對應 欲形成第二間隔單元PS2的區(qū)域的第一覆蓋層117。接下來請參圖3,在本發(fā)明其他實施例中，第一覆蓋層117也可以形成于非顯示區(qū)NA內(nèi)，而第二間隔單元PS2是形成于非顯示區(qū)NA內(nèi)的第一覆蓋層117上,其中第一覆蓋層117于顯示區(qū)AA內(nèi)的上表面高度是高于第一覆蓋層117于非顯示區(qū)NA內(nèi)的上表面高度。舉例來說，在形成第一覆蓋層時，非顯示區(qū)NA內(nèi)形成的第一覆蓋層會被部分蝕刻，以使第一覆蓋層于顯示區(qū)AA內(nèi)的上表面高度高于第一覆蓋層于非顯示區(qū)NA內(nèi)對應欲形成第二間隔單元PS2的區(qū)域的上表面高度。

在此需特別說明的是,上述實施例雖以面內(nèi)切換型(In-Plane Switching,IPS)液晶顯示面板或邊界電場切換型(Fringe Field Switching,FFS)液晶顯示面板作為例示,但不以此為限,本發(fā)明亦可應用至扭向數(shù)組型(Twisted Nematic,TN)液晶顯示面板、多域垂直配向型(Multi-domain Vertical Alignment,MVA)液晶顯示器面板、或是半透半反(transflective)液晶顯示器面板。舉例來說,共同電極(common electrode)可形成于第一覆蓋層117上,而第一間隔單元PS1是形成于堆棧的第一覆蓋層117及共同電極上,第一配向膜118進一步形成于覆蓋層117、共同電極、第一間隔單元PS1及第二間隔單元PS2上。而多個畫素電極(pixel electrode)則形成于第二基板120上，畫素電極上還形成有一第二覆蓋層124，第二覆蓋層124會于第二基板120上形成一平坦表面。一第二配向膜126形成于第二覆蓋層124上。

也就是說,對于具有第一覆蓋層117的液晶顯示面板,本發(fā)明可以利用第一覆蓋層117在第一基板110的不同區(qū)域具有不同的上表面高度(或是在第一基板110的一區(qū)域形成第一覆蓋層117,另一區(qū)域則無第一覆蓋層117),將第一間隔單元PS1形成于上表面較高的第一覆蓋層117上,而將第二間隔單元PS2形成于上表面較低的第一覆蓋層117上(或是沒有第一覆蓋層117的區(qū)域),使得第一間隔單元PS1的頂部115至第一基板110的距離大于第二間隔單元PS2的頂部116至第一基板110的距離，也就是說，第二基板120和非顯示區(qū)NA內(nèi)的第二間隔單元PS2的頂部116之間的距離大于第二基板120和顯示區(qū)AA內(nèi)的第一間隔單元PS1的頂部115之間的距離。因此,本發(fā)明 可應用于彩色濾光層基板具有覆蓋層的液晶顯示面板。

需特別說明的是,因為本發(fā)明的第一間隔單元PS1是形成于顯示區(qū)AA內(nèi)的覆蓋層117上,使得第一間隔單元PS1的底部113到第一基板110的距離大于第二間隔單元PS2的底部114到第一基板110的距離,因此液晶顯示面板的第一間隔單元PS1及第二間隔單元PS2的高度H1及H2可以相同或是不同,只要可以達成第一間隔單元PS1的頂部115至第一基板110的距離大于第二間隔單元PS2的頂部116至第一基板110的距離(或是第二基板120和非顯示區(qū)NA內(nèi)的第二間隔單元PS2的頂部116之間的距離大于第二基板120和顯示區(qū)AA內(nèi)的第一間隔單元PS1的頂部115之間的距離)即可。因此本實施例的第一間隔單元PS1及第二間隔單元PS2可使用具有相同光罩開口透光率的光罩在同一個制程中同時形成,以減少生產(chǎn)成本及簡化制程。

接下來請參閱圖4,在本發(fā)明的另一實施例中,可以將第一覆蓋層117同時形成于顯示區(qū)AA及非顯示區(qū)NA內(nèi),其中第一覆蓋層117在顯示區(qū)AA及非顯示區(qū)NA內(nèi)具有相同的上表面高度,接著形成一負型光阻層形成于第一基板110及第一覆蓋層117上,接下來以光罩對光阻層中對應欲形成第一間隔單元PS1及第二間隔單元PS2的區(qū)域曝光,其中光罩為半色調(diào)光罩(halftone mask),并且位于非顯示區(qū)NA內(nèi)的第二間隔單元PS2對應的光罩開口透光率小于顯示區(qū)AA內(nèi)的第一間隔單元PS1對應的光罩開口透光率,使得第一間隔單元PS1的高度H1大于第二間隔單元PS2的高度H2,進而使得第一間隔單元PS1的底部113及第二間隔單元PS2的底部114位于同一高度,而第一間隔單元PS1的頂部115至第一基板110的距離大于第二間隔單元PS2的頂部116至第一基板的距離，也就是說，第二基板120和非顯示區(qū)NA內(nèi)的第二間隔單元PS2的頂部116之間的距離大于第二基板120和顯示區(qū)AA內(nèi)的第一間隔單元PS1的頂部115之間的距離。

接下來請參考圖5，圖5是本發(fā)明液晶顯示面板的形成方法的流程圖200。本發(fā)明液晶顯示面板的像素形成方法的流程如下列步驟：

步驟210：形成一彩色濾光層于一第一基板上的一顯示區(qū)內(nèi)；

步驟220：形成一覆蓋層于所述彩色濾光層上；

步驟230：形成多個第一間隔單元于所述顯示區(qū)內(nèi)的所述覆蓋層上，且形成多個第二間隔單元于所述第一基板上的所述非顯示區(qū)內(nèi)；

步驟240：形成一配向膜于所述覆蓋層、所述多個第一間隔單元及所述多個第二間隔單元上；

步驟250：形成多個液晶電極于一第二基板上；及

步驟260：組合所述第一基板及所述第二基板,其中一液晶層位于該第一基板和該第二基板之間。

另外，在本發(fā)明方法中，上述步驟并不一定要依照的流程圖200執(zhí)行順序。換句話說，上述步驟的順序可以變動，且其他步驟也可以介于上述步驟之間。舉例來說,步驟210～240可在一產(chǎn)線內(nèi)(例如彩色濾光片產(chǎn)線)進行,而步驟250可在另一產(chǎn)線(例如TFT數(shù)組產(chǎn)線)進行,而步驟260最后再于又一產(chǎn)線(例如Cell產(chǎn)線)進行。因為步驟210～240及步驟250分別在不同產(chǎn)線進行,因此并非以步驟210～250依序進行。

相較于現(xiàn)有技術，本發(fā)明液晶顯示面板增加了第二基板120和非顯示區(qū)NA內(nèi)的第二間隔單元PS2之間的距離，以避免配向膜因摩擦而脫落，影響液晶顯示面板的外觀及影像品質(zhì)。

以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例而已，并不用于限制本發(fā)明，對于本領域的技術人員來說，本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。