1.一種用于在一曝光裝置中使用以供照明一表面的曝光頭，該曝光頭包含：一或多個輻射源，其用于提供一或多道射束；一光學(xué)掃描單元，其經(jīng)配置以用于接收該一或多道射束且用于朝向該表面指引所述射束，以用于使所述射束中的每一個撞擊于一撞擊光點上；一旋轉(zhuǎn)致動單元，其連接至該光學(xué)掃描單元以用于至少部分地旋轉(zhuǎn)該光學(xué)掃描單元，其中該一或多道射束的所述撞擊光點藉由該光學(xué)掃描單元的該至少部分旋轉(zhuǎn)而掃描跨于該表面，其中該光學(xué)掃描單元包含一透射性組件，該透射性組件包括用于接收該一或多道射束、及用于在所述射束輸送通過該透射性組件之后輸出所述射束的一或多個小面，以用于在該透射性組件的該旋轉(zhuǎn)時使所述射束移位從而允許所述撞擊光點的該掃描。
2.如權(quán)利要求1所述的曝光頭，其中該透射性組件為包括該一或多個小面的一多角棱鏡。
3.如權(quán)利要求2所述的曝光頭，其中該多角棱鏡的所述小面在數(shù)目上為偶數(shù)，其中該多角棱鏡的相對側(cè)面上的每兩個小面合作，使得在使用中，所述相對小面中的一第一小面接收所述射束中的至少一射束，且所述相對小面中的一第二小面輸出經(jīng)接收的該至少一射束。
4.如權(quán)利要求3所述的曝光頭，其中所述相對小面為平行的，以便在一角度下輸出該至少一射束，而該角度與該至少一射束在所述相對小面中的接收用第一小面上的一入射角相同。
5.如前述權(quán)利要求中任一項所述的曝光頭，其中該一或多個輻射源包括一或多個雷射二極管。
6.如前述權(quán)利要求中任一項所述的曝光頭，其中所述多個輻射源中的兩個或兩個以上在一方向上彼此鄰近地配置，而該方向垂直于該透射性組件藉由該旋轉(zhuǎn)致動單元的該至少部分旋轉(zhuǎn)的名義旋轉(zhuǎn)軸線。
7.如權(quán)利要求6所述的曝光頭，其中呈鄰近地配置的所述多個雷射二極管中的兩個或兩個以上的雷射束，經(jīng)指引于該透射性組件上的一實質(zhì)上相同的撞擊位置處。
8.如權(quán)利要求6或7所述的曝光頭，其中呈鄰近地配置的該兩個或兩個以上的雷射二極管經(jīng)置放以便允許所述雷射束掃描跨于數(shù)個彼此對準的掃描線，且其中所述鄰近雷射二極管的該置放、或該透射性組件的所述小面的至少一小面的尺寸中的至少一個，使得所述鄰近雷射束的所述掃描線至少部分地重疊。
9.如權(quán)利要求6或7所述的曝光頭，其中呈鄰近地配置的該兩個或兩個以上的雷射二極管經(jīng)配置以便允許所述雷射二極管掃描跨于數(shù)個平行而并非彼此對準的掃描線，且其中所述雷射二極管的該配置、或該透射性組件的所述小面的至少一小面的尺寸中的至少一個，使得所述鄰近雷射束的所述掃描線至少部分地重疊，以允許藉由來自所述雷射二極管的光的強度操縱而以子像素精度來曝光一影像。
10.如權(quán)利要求5至9中任一項所述的曝光頭，其中所述多個雷射二極管中的另外兩個或兩個以上在一方向上彼此鄰近地配置，而該方向平行于該透射性組件藉由該旋轉(zhuǎn)致動單元的該至少部分旋轉(zhuǎn)的一名義旋轉(zhuǎn)軸線。
11.如權(quán)利要求5至10中任一項所述的曝光頭，其中在使用中，該曝光頭在一運動方向上相對于經(jīng)照明的該表面而移動，經(jīng)照明的該表面為一基板表面，其中所述多個雷射二極管中的兩個或兩個以上在該運動方向上彼此鄰近地配置，以便允許在該運動方向上于一同一路徑中同時照明該表面。
12.如權(quán)利要求5至11中任一項所述的曝光頭，其中在使用中，該曝光頭在一運動方向上相對于經(jīng)照明的該表面而移動，經(jīng)照明的該表面為一基板表面，其中所述多個雷射二極管中的兩個或兩個以上與該運動方向成一角度而彼此鄰近地配置，以便在該運動方向上于數(shù)個重疊或平行的路徑中同時地照明該基板表面。
13.如前述權(quán)利要求中任一項所述的曝光頭，其中該透射性組件，在所述小面之間的一或多個邊緣處，包含一反射性涂層。
14.一種曝光裝置，其包含如前述權(quán)利要求中任一項所述的至少一曝光頭，該曝光裝置進一步包含一運動驅(qū)動器，該運動驅(qū)動器用于使該至少一曝光頭及該基板表面相對于彼此移動，以便描述用于曝露該基板表面的跨于該基板表面上的一曝光軌跡，該曝光裝置進一步包含一影像控制器，該影像控制器經(jīng)配置以依照曝光影像數(shù)據(jù)將一電信號提供至該至少一曝光頭，從而允許該至少一曝光頭的所述雷射二極管的控制。
15.如權(quán)利要求14的曝光裝置，其中該曝光頭為如權(quán)利要求11或12所述的一曝光頭，且其中該運動驅(qū)動器經(jīng)配置以用于調(diào)適該曝光頭的運動速度，使得該兩個或兩個以上鄰近雷射二極管在時間上的后續(xù)照明圖案至少部分地重疊。
16.如權(quán)利要求14或15的曝光裝置，其中該至少一曝光頭中的一個或多個包含在一方向上呈彼此鄰近地配置的至少兩個雷射二極管，而該方向垂直于該透射性組件藉由該曝光頭的該旋轉(zhuǎn)致動單元的該至少部分旋轉(zhuǎn)的一名義旋轉(zhuǎn)軸線，其中所述至少兩個鄰近地配置的雷射二極管經(jīng)置放以便允許所述雷射束掃描跨于數(shù)個彼此對準的掃描線，且其中所述鄰近雷射二極管的該置放、或該曝光頭的該透射性組件的所述小面的至少一小面的尺寸中的至少一個，使得所述鄰近雷射束的所述掃描線至少部分地重疊，
其中該裝置的該影像控制器、或該曝光頭的一曝光控制單元中的至少一個經(jīng)配置以依照曝光影像數(shù)據(jù)來定時操作所述雷射二極管。
17.如權(quán)利要求14至16中任一項所述的曝光裝置，該曝光裝置為一群組中的至少一個，該群組包含：
一印刷電路板-PCB-制造系統(tǒng)，其中如權(quán)利要求1至13中任一項所述的一或多個曝光頭用于選擇性地照射數(shù)個輻射敏感層；
一立體微影系統(tǒng)，其中如權(quán)利要求1至13中任一項所述的一或多個曝光頭用于選擇性地照射輻射敏感液體材料的數(shù)個順序?qū)右孕纬梢挥行挝锛?；以?/p>
一粉末床熔合系統(tǒng)，其中如權(quán)利要求1至13中任一項所述的一或多個曝光頭用于選擇性地照射、且藉此熔融及/或燒結(jié)固體粉末材料的數(shù)個順序?qū)右孕纬梢挥行挝锛?/p>
18.如權(quán)利要求14至17中任一項所述的曝光裝置，其中該裝置經(jīng)配置以用于藉由所述輻射源中的兩個或兩個以上的集合順序地照明該基板表面的每一表面區(qū)域兩次或兩次以上。
19.如權(quán)利要求14至18中任一項所述的曝光裝置，其中所述輻射源包含不同波長的輻射源。