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      曝光頭、曝光裝置及用于操作曝光頭的方法與流程

      文檔序號:12141672閱讀:來源:國知局
      技術(shù)總結(jié)
      本發(fā)明針對一種用于在一曝光裝置中使用以用于照明一表面的曝光頭,該曝光頭包含:一或多個(gè)輻射源,其用于提供一或多道射束;一光學(xué)掃描單元,其經(jīng)配置以用于接收該一或多道射束且用于朝向該表面指引該等射束以用于使該等射束中的每一個(gè)撞擊于一撞擊光點(diǎn)上;一旋轉(zhuǎn)致動(dòng)單元,其連接至該光學(xué)掃描單元以用于至少部分地旋轉(zhuǎn)該光學(xué)掃描單元,其中該一或多道射束的該等撞擊光點(diǎn)藉由該光學(xué)掃描單元的該至少部分旋轉(zhuǎn)跨于該表面上得以掃描,其中該光學(xué)掃描單元包含一透射性組件,該透射性組件包括用于接收該一或多道射束及用于在該等射束輸送通過該透射性組件之后輸出該等射束的一或多個(gè)小面,以用于在該透射性組件的該旋轉(zhuǎn)后即使該等射束移位從而允許該等撞擊光點(diǎn)的該掃描。

      技術(shù)研發(fā)人員:雅各布斯·許貝特斯·特奧多爾·賈馬爾;赫曼·亨德里克斯·馬爾德林克;歐文·里納爾多·邁因德斯;彼得·特奧多魯斯·馬里亞·吉森;歐文·約翰·范·茨韋特;亨利·雅克·安托萬·瓊·斯塔曼斯
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:荷蘭應(yīng)用科學(xué)研究會(huì)(TNO)
      文檔號碼:201580019727
      技術(shù)研發(fā)日:2015.04.14
      技術(shù)公布日:2017.03.22

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