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      彩色濾光層基板的制造方法與流程

      文檔序號:12116043閱讀:296來源:國知局
      彩色濾光層基板的制造方法與流程

      本發(fā)明涉及一種制造方式,特別是涉及一種彩色濾光層基板的制造方法。



      背景技術(shù):

      隨著科技進(jìn)步,具有省電、無幅射、體積小、低耗電量、平面直角、高分辨率、畫質(zhì)穩(wěn)定等多項優(yōu)勢的液晶顯示器,尤其是現(xiàn)今各式信息產(chǎn)品如:手機(jī)、筆記本電腦、數(shù)字相機(jī)、PDA、液晶屏幕等產(chǎn)品越來越普及,亦使得液晶顯示器(LCD)的需求量大大提升。因此如何提升生產(chǎn)制程效率與減少制程流程步驟,將是經(jīng)營者須面對的經(jīng)營問題。

      而傳統(tǒng)的液晶面板四色彩色濾光層(Color Filter,CF)制造將比三色彩色濾光層制造多一道黃光制程,且不論為一般標(biāo)準(zhǔn)制程如:彩色濾光層或彩色濾光層位于陣列上(Color filter On Array,COA)制程,都需在紅色/綠色/藍(lán)色的彩色光阻制造后加上光間隔物(Photo Spacer,PS)制造,其光間隔物的功能為支撐液晶盒厚。如此一來,故需使用較多材料,管控困難,制造流程繁復(fù),設(shè)備投資較高。



      技術(shù)實現(xiàn)要素:

      為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明的目的在于,提供一種彩色濾光層基板的制造方法,不僅可以減少制造生產(chǎn)流程問題,同時縮短生產(chǎn)時間并節(jié)省設(shè)備投資。

      本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題是采用以下技術(shù)方案來實現(xiàn)的。依據(jù)本發(fā)明提出的一種彩色濾光層基板的制造方法,包括:提供一第一基底;依序形成多個平行配置的光阻層于所述第一基底上,以完成一彩色濾光層;在形成該些光阻層之一的同時,利用同一光罩來形成多個間隔物及該些光阻層之一,該些間隔物是形成在所述彩色濾光層上,其中該些光阻層之一的材料相同于該些光間隔物;以及形成一透明公共電極層,設(shè)置在所述彩色濾光層和該些光間隔物上。

      本發(fā)明的另一目的一種液晶面板的制造方法,包括:提供一第一基底;依序形成多個平行配置的光阻層于所述第一基底上,以完成一彩色濾光層;在形成該些光阻層之一的同時,利用同一光罩來形成多個間隔物及該些光阻層之一,該些間隔物是形成在所述彩色濾光層上,其中該些光阻層之一的材料相同于該些光間隔物;以及形成一透明公共電極層,設(shè)置在所述彩色濾光層和該些光間隔物上,以完成一彩色濾光層基板;提供一薄膜晶體管基板,與所述彩色濾光層基板對向設(shè)置,其中該些光間隔物位于所述彩色濾光層基板以及所述薄膜晶體管基板之間,用以定義一液晶間隔空間;以及形成一液晶層所述彩色濾光層基板以及所述薄膜晶體管基板之間,并填滿所述液晶間隔空間。且白色光阻與光間隔物都可使用透明光阻特性,改變在白色光阻制程曝光時的光罩設(shè)計,同時針對白色光阻位置及光間隔物位置進(jìn)行曝光,即可經(jīng)由一道黃光制造同時將白色光阻與光間隔物制作完成。

      本發(fā)明解決其技術(shù)問題還可采用以下技術(shù)措施進(jìn)一步實現(xiàn)。

      在本發(fā)明的一實施例中,所述制造方法,更包括:該些光阻層之一和該些光間隔物是通過相同的光阻涂布、曝光、顯影及光罩過程而同時形成。

      在本發(fā)明的一實施例中,所述制造方法,所述光罩為灰階光罩或半色調(diào)光罩。

      在本發(fā)明的一實施例中,所述制造方法,所述光阻層可為白色光阻層,所述白色光阻層的材料相同于該些光間隔物。

      本發(fā)明的有益效果是,不僅可以減少制造生產(chǎn)流程問題,而材料亦可單一化,同時縮短生產(chǎn)時間并節(jié)省設(shè)備投資。

      附圖說明

      圖1a是范例性的液晶顯示面板中橫截面示意圖。

      圖1b是范例性的液晶顯示面板中的制造橫截面示意圖。

      圖1c是范例性的傳統(tǒng)彩色濾光層制造過程示意圖。

      圖1d是范例性的另一傳統(tǒng)彩色濾光層制造過程示意圖。

      圖2是顯示依據(jù)本發(fā)明的方法,應(yīng)用于液晶顯示面板中的彩色濾光層制造過程示意圖。

      圖3a是傳統(tǒng)液晶顯示面板中的彩色濾光層制造過程中白色光阻涂布示意圖。

      圖3b是傳統(tǒng)液晶顯示面板中的彩色濾光層制造過程中白色光阻曝光示意圖。

      圖3c是傳統(tǒng)液晶顯示面板中的彩色濾光層制造過程中白色光阻顯影示意圖。

      圖4a是顯示依據(jù)本發(fā)明的方法,應(yīng)用于液晶顯示面板中的彩色濾光層制造過程中白色光阻及光間隔物涂布示意圖。

      圖4b是顯示依據(jù)本發(fā)明的方法,應(yīng)用于液晶顯示面板中的彩色濾光層制造過程中白色光阻及光間隔物曝光示意圖。

      圖4c是顯示依據(jù)本發(fā)明的方法,應(yīng)用于液晶顯示面板中的彩色濾光層制造過程中白色光阻及光間隔物顯影示意圖。

      具體實施方式

      以下各實施例的說明是參考附加的圖式,用以例示本發(fā)明可用以實施的特定實施例。本發(fā)明所提到的方向用語,例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「內(nèi)」、「外」、「側(cè)面」等,僅是參考附加圖式的方向。因此,使用的方向用語是用以說明及理解本發(fā)明,而非用以限制本發(fā)明。

      附圖和說明被認(rèn)為在本質(zhì)上是示出性的,而不是限制性的。在圖中,結(jié)構(gòu)相似的單元是以相同標(biāo)號表示。另外,為了理解和便于描述,附圖中示出的每個組件的尺寸和厚度是任意示出的,但是本發(fā)明不限于此。

      在附圖中,為了清晰起見,夸大了層、膜、面板、區(qū)域等的厚度。在附圖中,為了理解和便于描述,夸大了一些層和區(qū)域的厚度。將理解的是,當(dāng)例如層、膜、區(qū)域或基底的組件被稱作“在”另一組件“上”時,所述組件可以直接在所述另一組件上,或者也可以存在中間組件。

      另外,在說明書中,除非明確地描述為相反的,否則詞語“包括”將被理解為意指包括所述組件,但是不排除任何其它組件。此外,在說明書中,“在......上”意指位于目標(biāo)組件上方或者下方,而不意指必須位于基于重力方向的頂部上。

      為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及功效,以下結(jié)合附圖及較佳實施例,對依據(jù)本發(fā)明提出的一種液晶面板的制造方法其具體實施方式、結(jié)構(gòu)、特征及其功效,詳細(xì)說明如后。

      本發(fā)明的液晶面板可包括薄膜晶體管(Thin Film Transistor,TFT)基板、彩色濾光層(Color Filter,CF)基板與形成于兩基板之間的液晶層。

      在一實施例中,本發(fā)明的液晶面板可為曲面型顯示面板。

      在一實施例中,本發(fā)明的薄膜晶體管(TFT)及彩色濾光層(CF)可形成于同一基板上。

      圖1a為范例性的液晶顯示面板中橫截面示意圖及圖1b為范例性的液晶顯示面板中的制造橫截面示意圖。請參照圖1a及圖1b,在目前的液晶顯示器的技術(shù)發(fā)展上,以雙間隙(Dual Gap)的半穿半反MVA液晶顯示器為例。通常雙間隙的半穿半反液晶顯示器會在反射區(qū)R設(shè)置一個調(diào)整層208,如圖1a所示,此調(diào)整層可以設(shè)置在彩色濾光層基板側(cè)或薄膜晶體管基板側(cè)。如圖1a所示,雙間隙半穿半反MVA液晶顯示器的基本結(jié)構(gòu)包括一第一基板10、一彩色濾光層基板202及一液晶層30。其中,第一基板10具有多個次畫素區(qū)110,每一個次畫素區(qū)110均設(shè)有一反射區(qū)R以及一穿透區(qū)T。彩色濾光層基板202亦具有多個次畫素區(qū)120,該些次畫素區(qū)120分別與第一基板的多個次畫素區(qū)110相對應(yīng),且每一個次畫素區(qū)120在與反射區(qū)R相對應(yīng)的位置處均設(shè)有一調(diào)整層208。液晶層30則設(shè)于第一基板10與彩色濾光層基板202之間。

      請繼續(xù)參考圖1a及圖1b,第一基板10的各個次畫素區(qū)110內(nèi)都設(shè)有一薄膜晶體管,以及一儲存電容308于反射區(qū)R的下方及第一基底100的上方。接著形成一平坦層104于第一基板10的上表面。然后在平坦層104上制作出凹凸的表面于反射區(qū)R,再鍍上具有高反射率的金屬(例如:鋁、銀…等)當(dāng)作反射電極113,同時每一個次畫素區(qū)110的穿透區(qū)T亦均設(shè)有一透明電極114。值得一提的是,第一基板10各次畫素區(qū)110的反射區(qū)R內(nèi)更具有一接觸孔310,用以電性連接反射電極113與儲存電容308。另外,彩色濾光層基板202相對于第一基板10的反射區(qū)R與穿透區(qū)T的位置上更設(shè)有一配向凸起物122(Protrusion,PR)。由于配向凸起物122會改變電力線的分布,使得液晶分子往配向凸起物122的方向傾斜以產(chǎn)生多區(qū)域液晶配向(Multi-domains)的效果,而達(dá)到廣視角的技術(shù),并改善單一區(qū)域液晶配向(Single-domain)時所存在的灰階反轉(zhuǎn)的問題。如圖1b所示,通常在組立第一基板10與彩色濾光層基板202時,彩色濾光層基板202更設(shè)有一光間隔物300(Photo Spacer,PS)來固定面板的間距(Cell Gap)。并在第一基板側(cè)10設(shè)計多個與間隔物300相對應(yīng)的平臺,使光間隔物300能夠更穩(wěn)定的維持面板間距。以上所述,雖以反射式廣視角液晶顯示面板為例來作一說明,但本發(fā)明的應(yīng)用范圍并不僅限于此。其更可應(yīng)用于雙間隙(Dual Gap)半穿半反液晶顯示面板以及單間隙(Single Gap)半穿半反液晶顯示面板的情況。

      圖1c為范例性的傳統(tǒng)彩色濾光層制造過程示意圖。請參照圖1c,所述彩色濾光層制造過程包括:基板的遮光層涂布、曝光、顯影制造S100;基板的紅色光阻涂布、曝光、顯影制造S101;基板的綠色光阻涂布、曝光、顯影制造S102;基板的藍(lán)色光阻涂布、曝光、顯影制造S103;基板的氧化銦錫涂布、曝光、顯影制造S105;基板的光間隔物涂布、曝光、顯影制造S106。

      圖1d為范例性的另一傳統(tǒng)彩色濾光層制造過程示意圖。請參照圖1c及圖1d,所述彩色濾光層基板制造過程包括:基板的遮光層涂布、曝光、顯影制造S100;基板的紅色光阻涂布、曝光、顯影制造S101;基板的綠色光阻涂布、曝光、顯影制造S102;基板的藍(lán)色光阻涂布、曝光、顯影制造S103;基板的白色光阻涂布、曝光、顯影制造S104;基板的氧化銦錫涂布、曝光、顯影制造S105;基板的光間隔物涂布、曝光、顯影制造S106。其差異在傳統(tǒng)的液晶面板四色彩色濾光層制造將比三色彩色濾光層制造將多一道黃光制造(如:基板的白色光阻涂布、曝光、顯影制造S104)。

      圖2為顯示依據(jù)本發(fā)明的方法,應(yīng)用于液晶顯示面板中的彩色濾光層制造過程示意圖。請參照圖1d及圖2,在本發(fā)明一實施例中,所述彩色濾光層基板制造過程包括:基板的遮光層涂布、曝光、顯影制造S200;基板的紅色光阻涂布、曝光、顯影制造S201;基板的綠色光阻涂布、曝光、顯影制造S202;基板的藍(lán)色光阻涂布、曝光、顯影制造S203;基板的白色光阻及光間隔物涂布、曝光、顯影制造S204;基板的氧化銦錫涂布、曝光、顯影制造S205。其差異在跟傳統(tǒng)的液晶面板四色彩色濾光層制造過程中,因白色光阻與光間隔物都可使用透明光阻特性,改變在白色光阻制程曝光時的光罩設(shè)計,同時針對白色光阻位置及光間隔物位置進(jìn)行曝光,即可經(jīng)由一道黃光制造(如:基板的白色光阻及光間隔物涂布、曝光、顯影制造S204)即可同時將白色光阻與光間隔物制作完成。

      圖3a為傳統(tǒng)液晶顯示面板中的彩色濾光層制造過程中白色光阻涂布示意圖、圖3b為傳統(tǒng)液晶顯示面板中的彩色濾光層制造過程中白色光阻曝光示意圖及圖3c為傳統(tǒng)液晶顯示面板中的彩色濾光層制造過程中白色光阻顯影示意圖。請參照圖3a、圖3b及圖3c,在一實施例中,在傳統(tǒng)液晶顯示面板400中,基板11的白色光阻330涂布、曝光、顯影制造S104中,一種彩色濾光層基板11,包括:一第一基底305;一遮光層310形成于所述第一基底305上;一紅色、綠色、藍(lán)色光阻層320形成于所述第一基底305上;以及一光罩111用以使白色光阻層320曝光制造。

      圖4a為顯示依據(jù)本發(fā)明的方法,應(yīng)用于液晶顯示面板中的彩色濾光層制造過程中白色光阻及光間隔物涂布示意圖、圖4b為顯示依據(jù)本發(fā)明的方法,應(yīng)用于液晶顯示面板中的彩色濾光層制造過程中白色光阻及光間隔物曝光示意圖及圖4c為顯示依據(jù)本發(fā)明的方法,應(yīng)用于液晶顯示面板中的彩色濾光層制造過程中白色光阻及光間隔物顯影示意圖。請參照圖4a、圖4b及圖4c,在本發(fā)明一實施例中,在基板11的白色光阻330及光間隔物340涂布、曝光、顯影制造S204中,一種彩色濾光層基板11,包括:一第一基底305;一彩色濾光層320,設(shè)置在所述第一基底305上,并包括多個平行配置的光阻層320、330;多個光間隔物340,設(shè)置在所述彩色濾光層320、330上,其中該些光阻層之一330的材料相同于該些光間隔物340;一遮光層310形成于所述第一基底305上;以及一透明公共電極層(圖未示),設(shè)置在所述彩色濾光層320、330和該些光間隔物340上。所述光阻層可為白色光阻層330,所述白色光阻層330的材料相同于該些光間隔物340。所述光罩112設(shè)計為多灰階光罩,所述多灰階光罩為灰階光罩或半色調(diào)光罩。

      多灰階光罩,可分為灰色光罩(Gray-tone Mask)和半色調(diào)光罩(Half Tone Mask)2種?;疑庹质侵谱鞒銎毓鈾C(jī)分辨率以下的微縫,再通過此微縫部位遮住一部份的光源,以達(dá)成半曝光的效果。另一方面,半色調(diào)光罩是利用「半透過」的膜,來進(jìn)行半曝光。因為以上兩種方式都是在1次的曝光過程后即可呈現(xiàn)出「曝光部分」「半曝光部分」及「未曝光部分」3種的曝光層次,故在顯影后能夠形成2種厚度的光阻(利用這樣的光阻厚度差異、便可以較一般少的片數(shù)下將圖形轉(zhuǎn)寫至面板基板上,并達(dá)成面板生產(chǎn)效率的提升)。

      請參照圖4a、圖4b及圖4c,在本發(fā)明一實施例中,一種彩色濾光層基板11的制造方法,包括:提供一第一基底305;依序形成多個平行配置的光阻層320于所述第一基底305上,以完成一彩色濾光層320、330;在形成該些光阻層之一330的同時,利用同一光罩來形成多個間隔物340及該些光阻層之一330,該些間隔物是形成在所述彩色濾光層320、330上,其中該些光阻層之一330的材料相同于該些光間隔物340;以及形成一透明公共電極層(圖未示),設(shè)置在所述彩色濾光層320、330和該些光間隔物340上。并因白色光阻330與光間隔物340都可使用透明光阻特性,改變在白色光阻330制程曝光時的光罩112設(shè)計,同時針對白色光阻330位置及光間隔物340位置進(jìn)行曝光,即可經(jīng)由一道黃光制造即可同時將白色光阻330與光間隔物340制作完成。

      請參照圖4a、圖4b及圖4c,在本發(fā)明一實施例中,在基板11的白色光阻330及光間隔物340涂布、曝光、顯影制造中,以一道光罩112完成,將造成光間隔物340上會有一層氧化銦錫薄膜(圖未示),解決此問題方法可于間隙對組后,所述光間隔物340對頂相對位置設(shè)計為可移動結(jié)構(gòu),可避免所述光間隔物340上的氧化銦錫薄膜(圖未示)與基板11陣列側(cè)電極短路問題。

      請參照圖4a、圖及圖4c,在本發(fā)明一實施例中,一種液晶面板410,包括:一彩色濾光層基板11,包括:一第一基底305;一彩色濾光層320、330,設(shè)置在所述第一基底305上,并包括多個平行配置的光阻層320、330;多個光間隔物340,設(shè)置在所述彩色濾光層320、330上,其中該些光阻層之一330的材料相同于該些光間隔物340;以及一透明公共電極層(圖未示),設(shè)置在所述彩色濾光層320、330和該些光間隔物340上;一薄膜晶體管基板(圖未示),與所述彩色濾光層基板11對向設(shè)置,其中該些光間隔物340位于所述彩色濾光層基板11以及所述薄膜晶體管基板(圖未示)之間,用以定義一液晶間隔空間;以及一液晶層位于所述彩色濾光層基板11以及所述薄膜晶體管基板(圖未示)之間,并填滿所述液晶間隔空間。所述光阻層可為白色光阻層330,所述白色光阻層330的材料相同于該些光間隔物340。所述光罩112設(shè)計為多灰階光罩,所述多灰階光罩為灰階光罩或半色調(diào)光罩。

      請參照圖4a、圖4b及圖4c,在本發(fā)明一實施例中,一種液晶面板410的制造方法,包括:提供一第一基底305;依序形成多個平行配置的光阻層320、330于所述第一基底305上,以完成一彩色濾光層320、330;在形成該些光阻層之一330的同時,利用同一光罩來形成多個間隔物340及該些光阻層之一330,該些間隔物是形成在所述彩色濾光層320、330上,其中該些光阻層之一330的材料相同于該些光間隔物340;形成一透明公共電極層(圖未示),設(shè)置在所述彩色濾光層320、330和該些光間隔物340上,以完成一彩色濾光層基板11;提供一薄膜晶體管基板(圖未示),與所述彩色濾光層基板11對向設(shè)置,其中該些光間隔物340位于所述彩色濾光層基板11以及所述薄膜晶體管基板(圖未示)之間,用以定義一液晶間隔空間;以及形成一液晶層于所述彩色濾光層基板11以及所述薄膜晶體管基板(圖未示)之間,并填滿所述液晶間隔空間。且因白色光阻330與光間隔物340都可使用透明光阻特性,改變在白色光阻330制程曝光時的光罩設(shè)計,同時針對白色光阻330位置及光間隔物340位置進(jìn)行曝光,即可經(jīng)由一道黃光制造即可同時將白色光阻330與光間隔物340制作完成。

      請參照圖4a、圖4b及圖4c,在本發(fā)明的一實施例中,所述該些光阻層之一330和該些光間隔物340是通過相同的光阻涂布、曝光、顯影及光罩過程而同時形成。

      本發(fā)明的有益效果是,不僅可以減少制造生產(chǎn)流程問題,而材料亦可單一化,同時縮短生產(chǎn)時間并節(jié)省設(shè)備投資。

      “在一些實施例中”及“在各種實施例中”等用語被重復(fù)地使用。此用語通常不是指相同的實施例;但它亦可以是指相同的實施例。“包含”、“具有”及“包括”等用詞是同義詞,除非其前后文意顯示出其它意思。

      以上所述,僅是本發(fā)明的較佳實施例而已,并非對本發(fā)明作任何形式上的限制,雖然本發(fā)明已以較佳實施例揭露如上,然而并非用以限定本發(fā)明,任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員,在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍內(nèi),當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動或修飾為等同變化的等效實施例,但凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容,依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實質(zhì)對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾,均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。

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