本發(fā)明涉及液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種彩色濾光基板及其形成方法和光罩。

背景技術(shù)：

薄膜晶體管(Thin Film Transistor，TFT)液晶顯示器，能夠?qū)崿F(xiàn)對各個像素的獨(dú)立精確控制，而且其在亮度、功耗、壽命、體積方面的優(yōu)勢都已超過陰極射線管(Cathode Ray Tube，CRT)顯示器，因此，TFT液晶顯示器得到廣泛應(yīng)用。

彩色濾光基板(Color Filter，CF)是TFT液晶顯示器的重要組成部件。

請參考圖1，示出了現(xiàn)有技術(shù)一種彩色濾光基板的結(jié)構(gòu)示意圖。所述彩色濾光基板包括：玻璃基板10、位于玻璃基板10上的黑色矩陣11、位于黑色矩陣11上的彩色光阻層12、覆蓋于所述彩色光阻層12上的透明導(dǎo)電膜13和位于透明導(dǎo)電膜13上的間隔柱14。

圖2至圖5是現(xiàn)有技術(shù)一種彩色濾光基板的形成方法中各步驟的結(jié)構(gòu)示意圖。

參考圖2，提供玻璃基板100。

繼續(xù)參考圖2，在玻璃基板100上形成黑色矩陣，所述黑色矩陣包括具有開口的開口區(qū)A和位于開口區(qū)A周圍的額緣區(qū)B。所述黑色矩陣在額緣區(qū)B不具有開口。

請參考圖3和圖4，在所述黑色矩陣上涂布光阻，并通過光罩160對所述光阻進(jìn)行曝光，從而形成彩色光阻層120。所述彩色光阻層120包括：位于開口區(qū)A的第一彩色光阻層120a和位于額緣區(qū)120b的第二彩色光阻層120b。

需要說明的是，現(xiàn)有技術(shù)中所述光罩160具有條狀圖形，可以在黑色矩陣上形成條形的紅色光阻層121、綠色光阻層122和藍(lán)色光阻層123。填充于開口區(qū)A中所述開口中的紅色光阻層121、綠色光阻層122和藍(lán)色光阻層123可以起 到透過相應(yīng)顏色光線的作用，即實(shí)現(xiàn)濾光的功能。

請參考圖5，在紅色光阻層121、綠色光阻層122和藍(lán)色光阻層123上形成間隔柱130。所述間隔柱130包括：位于開口區(qū)A的第一間隔柱130a和位于額緣區(qū)B的第二間隔柱130b。

然而，現(xiàn)有技術(shù)形成的彩色濾光基板容易造成顯示器周邊顏色顯示不均的問題，影響液晶顯示器的視覺效果。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明解決的問題是提供一種彩色濾光基板及其形成方法和光罩，以改善顏色顯示不均的問題。

本發(fā)明提供一種彩色濾光基板，其特征在于，包括：基板；形成于基板上的黑色矩陣，所述黑色矩陣包括形成有多個開口的開口區(qū)和位于開口區(qū)周圍的額緣區(qū)；

形成于所述黑色矩陣上的彩色光阻層；形成于開口區(qū)的彩色光阻層包括填充于開口中的多個彩色光阻和覆蓋于相鄰彩色光阻之間黑色矩陣上的光阻墊塊，形成于所述額緣區(qū)的彩色光阻層為覆蓋在黑色矩陣上的不等厚彩色光阻層，所述不等厚彩色光阻層包括與開口區(qū)彩色光阻位置對應(yīng)的第一厚度區(qū)域和與開口區(qū)光阻墊塊位置相對應(yīng)的第二厚度區(qū)域，所述第一厚度區(qū)域的不等厚彩色光阻層具有第一厚度，所述第二厚度區(qū)域的不等厚彩色光阻層具有第二厚度，所述第二厚度小于所述第一厚度；

形成于彩色光阻層上的間隔柱；所述開口區(qū)的間隔柱形成于所述光阻墊塊上，所述額緣區(qū)的間隔柱形成于第二厚度區(qū)域。

可選的，所述多個開口呈矩陣式排列，所述開口為沿列向延伸的長方形結(jié)構(gòu)；

所述開口區(qū)的彩色光阻層包括沿列向延伸的多列條狀光阻層，所述條狀光阻層覆蓋列向數(shù)個開口和相鄰開口之間的黑色矩陣，填充于所述開口中的條狀光阻層為所述彩色光阻，覆蓋在相鄰開口之間的黑色矩陣上的條狀光阻層為所述光阻墊塊；

所述額緣區(qū)的彩色光阻層包括沿列向延伸的多列不等厚彩色光阻層，所述不等厚彩色光阻層為條狀光阻層，所述不等厚彩色光阻層中第一厚度區(qū)域?yàn)檠亓邢蜓由斓拈L方形結(jié)構(gòu)，所述不等厚彩色光阻層中第二厚度區(qū)域位于相鄰兩個第一厚度區(qū)域之間。

可選的，額緣區(qū)所述第二厚度區(qū)域沿列向的尺寸為10～150μm。

可選的，所述開口區(qū)的彩色光阻至少包括紅色光阻、綠色光阻和藍(lán)色光阻；

所述額緣區(qū)不等厚彩色光阻層至少包括紅色不等厚光阻層、綠色不等厚光阻層和藍(lán)色不等厚光阻層。

可選的，所述開口區(qū)的彩色光阻至少包括紅色光阻、綠色光阻和藍(lán)色光阻；

所述紅色光阻、綠色光阻和藍(lán)色光阻成三角型、條型或馬賽克型排列。

可選的，所述開口區(qū)與額緣區(qū)間隔柱頂端相對基板上表面的高度差為0～0.4μm。

相應(yīng)的，本發(fā)明還提供一種彩色濾光基板的形成方法，其特征在于，包括：提供基板；在所述基板上形成具有多個開口的黑色矩陣，所述黑色矩陣包括形成有多個開口的開口區(qū)和位于所述開口區(qū)周圍的額緣區(qū)；

在所述黑色矩陣上形成彩色光阻層；形成于開口區(qū)的彩色光阻層包括填充于開口中的多個彩色光阻和覆蓋于相鄰彩色光阻之間黑色矩陣上的光阻墊塊，形成于所述額緣區(qū)的彩色光阻層為覆蓋在黑色矩陣上的不等厚彩色光阻層，所述不等厚彩色光阻層包括與開口區(qū)彩色光阻位置對應(yīng)的第一厚度區(qū)域和與開口區(qū)光阻墊塊相對應(yīng)位置的第二厚度區(qū)域，所述第一厚度區(qū)域的不等厚彩色光阻層具有第一厚度，所述第二厚度小于所述第一厚度；

在所述彩色光阻層上形成間隔柱；所述開口區(qū)的間隔柱形成于所述光阻墊塊上，所述額緣區(qū)的間隔柱形成于第二厚度區(qū)域。

可選的，在所述基板上形成具有多個開口的黑色矩陣的步驟中：所述多個開口呈矩陣式排列，所述開口為沿列向延伸的長方形結(jié)構(gòu)；

在所述黑色矩陣上形成彩色光阻層的步驟包括：

在開口區(qū)形成沿列向延伸的多列條狀光阻層，所述條狀光阻層覆蓋列向數(shù)個開口和相鄰開口之間的黑色矩陣，填充于所述開口中的條狀光阻層為所述彩色光阻，覆蓋在相鄰開口之間的黑色矩陣上的條狀光阻層為所述光阻墊塊；

在所述額緣區(qū)形成沿列向延伸的多列不等厚彩色光阻層，所述不等厚彩色光阻層為條狀光阻層，所述不等厚彩色光阻層中第一厚度區(qū)域?yàn)檠亓邢蜓由斓拈L方形結(jié)構(gòu)，所述不等厚彩色光阻層中第二厚度區(qū)域位于相鄰兩個第一厚度區(qū)域之間。

可選的，在所述基板上形成具有多個開口的黑色矩陣的步驟中，在額緣區(qū)形成的不等厚彩色光阻層中第二厚度區(qū)域沿列向的尺寸為10～150μm。

可選的，在所述黑色矩陣上形成彩色光阻層的步驟至少包括：

在所述黑色矩陣上涂布紅色光阻，通過光刻在所述開口區(qū)和額緣區(qū)分別形成紅色光阻層和紅色不等厚光阻層；

在所述黑色矩陣上涂布綠色光阻，通過光刻在所述開口區(qū)和額緣區(qū)分別形成綠色光阻層和綠色不等厚光阻層；

在所述黑色矩陣上涂布藍(lán)色光阻，通過光刻在所述開口區(qū)和額緣區(qū)分別形成藍(lán)色光阻層和藍(lán)色不等厚光阻層；

所述紅色光阻層包括填充于開口區(qū)開口中的紅色光阻和覆蓋在相鄰開口之間的黑色矩陣上的紅色光阻墊塊；

所述綠色光阻層包括填充于開口區(qū)開口中的綠色光阻和覆蓋在相鄰開口之間的黑色矩陣上的綠色光阻墊塊；

所述藍(lán)色光阻層包括填充于開口區(qū)開口中的藍(lán)色光阻和覆蓋在相鄰開口之間的黑色矩陣上的藍(lán)色光阻墊塊；

所述紅色光阻、綠色光阻、藍(lán)色光阻用于構(gòu)成所述彩色光阻，所述紅色不等厚光阻層、綠色不等厚光阻層和藍(lán)色不等厚光阻層用于構(gòu)成所述額緣區(qū)的不等厚彩色光阻層。

可選的，在形成彩色光阻層的步驟中，所述紅色光阻、綠色光阻、藍(lán)色光阻成三角型、條型或馬賽克型排列。

可選的，在彩色光阻層上形成間隔柱的步驟中，所述開口區(qū)和額緣區(qū)間隔柱頂端相對基板上表面的高度差為0～0.4μm。

此外，本發(fā)明還提供一種用于制造彩色濾光基板的光罩，所述彩色濾光基板包括：基板；形成于基板上的黑色矩陣，所述黑色矩陣包括形成有多個開口的開口區(qū)和位于開口區(qū)周圍的額緣區(qū)；彩色光阻層和間隔柱；所述光罩用于形成所述彩色光阻層，其特征在于，所述光罩包括：

基體，所述基體上形成有：

第一圖形，與所述開口區(qū)相對應(yīng)，用于形成開口區(qū)的彩色光阻層，所述彩色光阻層包括填充于開口中的多個彩色光阻和覆蓋于相鄰彩色光阻之間黑色矩陣上的光阻墊塊；

第二圖形，與所述額緣區(qū)相對應(yīng)，用于在額緣區(qū)形成不等厚彩色光阻層，所述不等厚彩色光阻層在與開口區(qū)彩色光阻位置對應(yīng)的區(qū)域具有第一厚度，所述不等厚彩色光阻層在與開口區(qū)光阻墊塊相對應(yīng)位置的區(qū)域具有第二厚度，所述第二厚度小于所述第一厚度；所述第二圖形包括用于形成第一厚度不等厚彩色光阻層的第一區(qū)域和用于形成第二厚度不等厚彩色光阻層的第二區(qū)域。

可選的，所述開口區(qū)的多個開口呈矩陣式排列，所述開口具有沿列向延伸的長方形結(jié)構(gòu)；

所述第一圖形為多列條狀圖形，用于形成沿列向延伸的多列條狀光阻層，所述條狀光阻層覆蓋列向數(shù)個開口和相鄰開口之間的黑色矩陣；

所述第二圖形用于形成沿列向延伸的多列條狀不等厚彩色光阻層，且所述第一區(qū)域?yàn)檠亓邢蜓由斓拈L方形結(jié)構(gòu)，所述第二區(qū)域位于相鄰兩個第一區(qū)域之間。

可選的，所述第二圖形中第二區(qū)域沿列向的尺寸為10～150μm。

可選的，所述第二圖形的第二區(qū)域由部分透光或不透光的材料形成，所述第一區(qū)域?qū)獾耐高^率大于所述第二區(qū)域?qū)獾耐高^率。

可選的，所述第二圖形的第二區(qū)域由縱橫交錯的遮光條和狹縫形成，所述第一區(qū)域?qū)獾耐高^率大于所述第二區(qū)域?qū)獾耐高^率。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的技術(shù)方案具有以下優(yōu)點(diǎn)：

本發(fā)明在額緣區(qū)形成不等厚彩色光阻層，所述不等厚彩色光阻層在與開口區(qū)彩色光阻位置對應(yīng)的區(qū)域具有第一厚度，所述不等厚彩色光阻層在與光阻墊塊相對應(yīng)位置的區(qū)域具有第二厚度，所述第二厚度小于所述第一厚度。這樣在所述額緣區(qū)不等厚彩色光阻層中第二厚度對應(yīng)位置處形成間隔柱時，所述間隔柱下方的不等厚彩色光阻層底座較薄，而額緣區(qū)的間隔柱的絕對高度大于開口區(qū)光阻墊塊上形成的間隔柱，從而使額緣區(qū)和開口區(qū)間隔柱頂部相對于基板表面的高度相當(dāng)，進(jìn)而可以提高顯示的均勻度。

附圖說明

圖1是現(xiàn)有技術(shù)彩色濾光基板結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2至圖7是現(xiàn)有技術(shù)一種彩色濾光基板的形成方法中各步驟的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖8至圖11是本發(fā)明一種彩色濾光基板一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖12是本發(fā)明一種彩色濾光基板其它實(shí)施例的額緣區(qū)結(jié)構(gòu)示意圖；

圖13是本發(fā)明一種彩色濾光基板另一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖14是本發(fā)明一種彩色濾光基板又一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖15至圖22是本發(fā)明一種彩色濾光基板的形成方法一實(shí)施例中各步驟的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖23是本發(fā)明一種光罩一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖24是本發(fā)明一種光罩另一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖25是本發(fā)明一種光罩又一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

現(xiàn)有技術(shù)中彩色濾光基板容易引起顯示器出現(xiàn)周邊顯示不均的問題。結(jié)合彩色濾光基板的制造過程分析彩色濾光基板容易引起顯示器出現(xiàn)周邊顯示 不均的原因：

請參考圖5至圖7，圖6示出了圖5所示彩色濾光基板開口區(qū)A(即沿a-a’線)的側(cè)面剖視圖，圖7示出了額緣區(qū)B(即沿b-b’線)的側(cè)面剖視圖。開口區(qū)A的黑色矩陣110具有開口，由于光阻的流動性(圖6中箭頭示出光阻的流動方向)，從光阻涂布到形成所述彩色光阻層120期間，黑色矩陣110上方的光阻會向開口處流淌，導(dǎo)致開口區(qū)A第一間隔柱130a下方的第一彩色光阻層120a的厚度小于額緣區(qū)B第二間隔柱130b下方第二彩色光阻層120b的厚度。

此外，在形成間隔柱130的過程中，開口區(qū)A彩色光阻層120上方的用于形成第一間隔柱130a的光阻也容易向開口處流淌，導(dǎo)致開口區(qū)A第一間隔柱130a的絕對高度小于額緣區(qū)B第二間隔柱130b的絕對高度。所述絕對高度指的是間隔柱130頂端到彩色光阻層上表面的距離。

因此，上述兩項(xiàng)疊加，導(dǎo)致開口區(qū)A第一間隔柱130a相對于玻璃基板100或黑色矩陣上表面的高度小于額緣區(qū)B第二間隔柱130b相對于玻璃基板100或黑色矩陣上表面的高度。進(jìn)而，現(xiàn)有技術(shù)彩色濾光基板與陣列基板貼合后，所述開口區(qū)A的盒厚將小于額緣區(qū)B的盒厚，容易造成周邊顯示不均的問題。

為了解決上述問題，本發(fā)明提供一種彩色濾光基板及其形成方法和光罩，其中，本發(fā)明的彩色濾光基板在額緣區(qū)形成有不等厚彩色光阻層，所述不等厚彩色光阻層在與開口區(qū)彩色光阻位置對應(yīng)的區(qū)域具有第一厚度，在所述不等厚彩色光阻層在與開口區(qū)光阻墊塊相對應(yīng)位置的區(qū)域具有第二厚度，所述第二厚度小于所述第一厚度；這樣在所述額緣區(qū)不等厚彩色光阻層中第二厚度對應(yīng)位置處形成間隔柱時，所述間隔柱下方的不等厚彩色光阻層較薄，而所述間隔柱的絕對高度大于開口區(qū)光阻墊塊上形成的間隔柱，從而使額緣區(qū)和開口區(qū)間隔柱頂部相對基板上表面的距離相當(dāng)，進(jìn)而可以提高顯示的均勻度。

為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更為明顯易懂，下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實(shí)施例做詳細(xì)的說明。

圖8至11是本發(fā)明一種彩色濾光基板一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖，其中，圖8是本實(shí)施例彩色濾光基板的示意圖，圖9為圖8中開口區(qū)I和額緣區(qū)II的俯 視圖，圖10為圖9沿x-x’線(即開口區(qū))的側(cè)面剖視圖，圖11為圖9沿y-y’線(即額緣區(qū))的側(cè)面剖視圖，本實(shí)施例彩色濾光基板包括：

如圖8所示，基板20，用于彩色濾光基板的支撐。

所述基板20的材料為無堿硼硅玻璃。但是本發(fā)明對此不作限定，所述基板20的材料還可以為其他玻璃或塑料板。

形成于基板20上的黑色矩陣21，所述黑色矩陣21包括形成有多個開口的開口區(qū)I和位于開口區(qū)I周圍的額緣區(qū)II。其中，所述開口區(qū)I用于形成彩色光阻層的功能區(qū)。

本實(shí)施例中，所述開口區(qū)I為長方形，所述額緣區(qū)II為圍繞所述長方形的方環(huán)形區(qū)域。所述基板20上形成有多個所述長方形開口區(qū)I和與開口區(qū)I對應(yīng)的額緣區(qū)II。

所述黑色矩陣21在所述開口區(qū)I包括多個開口。所述開口處露出基板20，用于使背景光透過。所述黑色矩陣21在額緣區(qū)II不具有開口，因此，所述黑色矩陣21覆蓋額緣區(qū)II的基板20。

本實(shí)施例中，所述黑色矩陣21的材料為黑色樹脂，用于防止顯示器背景光泄露，提高顏色顯示的對比度。但是，本發(fā)明對所述黑色矩陣21的材料不做限定，所述黑色矩陣21的材料還可以是鎳或鉻。

本實(shí)施例中，所述多個開口呈矩陣式排列(矩陣行方向?yàn)閄方向，矩陣列方向?yàn)閅方向)，所述開口為沿列向(Y方向)延伸的長方形結(jié)構(gòu)。

形成于所述黑色矩陣21上的彩色光阻層23。形成于開口區(qū)I的彩色光阻層23包括填充于開口中的多個彩色光阻和覆蓋于相鄰彩色光阻之間黑色矩陣21上的光阻墊塊。形成于所述額緣區(qū)的彩色光阻層23’為不等厚彩色光阻層，所述不等厚彩色光阻層包括與開口區(qū)I彩色光阻位置對應(yīng)的第一厚度區(qū)域和與開口區(qū)I光阻墊塊位置相對應(yīng)的第二厚度區(qū)域，所述第一厚度區(qū)域的不等厚彩色光阻層具有第一厚度，所述第二厚度區(qū)域的不等厚彩色光阻層具有第二厚度，所述第二厚度小于所述第一厚度。

本實(shí)施例中，位于開口區(qū)I的所述彩色光阻層23包括沿列向延伸的多列條 狀光阻層，所述條狀光阻層覆蓋列向數(shù)個開口和相鄰開口之間的黑色矩陣21。填充于所述開口中的條狀光阻層為彩色光阻，用于使投射至開口處的光中相應(yīng)顏色的光透過，從而使像素呈現(xiàn)出相應(yīng)的顏色，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)濾光功能。覆蓋在相鄰開口之間的黑色矩陣21上的條狀光阻層為光阻墊塊，用作開口區(qū)I間隔柱的底座。

具體地，如圖9所示，本實(shí)施例中，沿行方向(X方向)所述彩色光阻層23依次包括：紅色條狀光阻25、綠色條狀光阻26和藍(lán)色條狀光阻27。相應(yīng)的，開口區(qū)I的彩色光阻包括：紅色光阻、綠色光阻和藍(lán)色光阻，開口區(qū)I的光阻墊塊包括：位于紅色光阻之間的紅色光阻墊塊、位于綠色光阻之間的綠色光阻墊塊和位于藍(lán)色光阻之間的藍(lán)色光阻墊塊。但是本發(fā)明對彩色光阻層23的顏色不做限制，所述彩色光阻層23至少包括：紅色條狀光阻25、綠色條狀光阻26、藍(lán)色條狀光阻27。

本實(shí)施例中，用于形成所述彩色光阻層23的光阻為已分散好顏料的著色樹脂形成的著色光阻。所述彩色光阻層23的形成過程包括：在黑色矩陣21和開口處露出的基板20上涂布著色光阻，對所述著色光阻進(jìn)行曝光以實(shí)現(xiàn)圖形化，從而形成所述多列條狀光阻層。

需要說明的是，在所述涂布著色光阻到曝光有一段時間間隔，由于著色光阻的流動性，開口區(qū)I黑色矩陣21上的著色光阻向開口處流淌，導(dǎo)致開口區(qū)I光阻墊塊的厚度減小。

本實(shí)施例中，所述光阻墊塊的厚度由所述著色光阻的厚度決定。如果所述著色光阻厚度過小，會限制形成的彩色光阻層23的濾光作用，降低光的純度；如果所述著色光阻厚度過大會給光刻工藝帶來困難，此外還會降低透過彩色光阻層23的曝光累計(jì)光強(qiáng)。因此，所述光阻墊塊的厚度不易過大或過小。本實(shí)施例中，所述光阻墊塊的厚度為1.5～3.5μm。具體地，所述光阻墊塊的厚度為2μm。

本實(shí)施例中，所述彩色光阻層23還包括沿列向延伸的多列不等厚彩色光阻層，所述不等厚彩色光阻層為條狀光阻層，所述不等厚彩色光阻層在第一厚度區(qū)域?yàn)檠亓邢蜓由斓拈L方形結(jié)構(gòu)，所述不等厚彩色光阻層中第二厚度區(qū) 域位于相鄰兩個第一厚度區(qū)域之間。

本實(shí)施例中，所述條狀光阻層包括沿列向排布的多個(圖9中為3個長方形光阻)長方形結(jié)構(gòu)光阻(所述長方形結(jié)構(gòu)光阻位于第一厚度區(qū)域)且長方形結(jié)構(gòu)光阻之間形成有間隙，所述間隙位于第二厚度區(qū)域，所述間隙露出額緣區(qū)II的黑色矩陣21。也就是說，所述額緣區(qū)II第二厚度區(qū)域的彩色光阻層23不存在，即所述第二厚度為0。但是本發(fā)明對所述第二厚度不做限定，所述第二厚度還可以在0～2.5μm的范圍內(nèi)。

本實(shí)施例中，所述間隙沿列向的尺寸與開口區(qū)I列向開口23之間的間距相等。具體地，所述間隙沿列向尺寸為10～150μm。

本實(shí)施例中，額緣區(qū)II的彩色光阻層23在行方向包括依次排列的紅色不等厚光阻層、綠色不等厚光阻層和藍(lán)色不等厚光阻層。所述紅色不等厚光阻層與開口區(qū)I中紅色光阻在同一步驟中形成，所述綠色不等厚光阻層與開口區(qū)I中綠色光阻在同一步驟中形成，所述藍(lán)色不等厚光阻層與開口區(qū)I中藍(lán)色光阻在同一步驟中形成。但是本發(fā)明對所述不等厚彩色光阻層的顏色不做限制，所述不等厚彩色光阻層至少包括：紅色不等厚光阻層、綠色不等厚光阻層和藍(lán)色不等厚光阻層。

形成于彩色光阻層23上的間隔柱24，用于起到保持盒厚的作用。

本實(shí)施例中，位于開口區(qū)I的間隔柱24形成于所述光阻墊塊(紅色光阻墊塊、綠色光阻墊塊和藍(lán)色光阻墊塊)上，所述額緣區(qū)II的間隔柱24形成于條狀不等厚彩色光阻層中長方形結(jié)構(gòu)光阻之間的間隙位置處。更具體地說，所述額緣區(qū)II的間隔柱24形成在黑色矩陣21上。但是本發(fā)明對此不做限定，在其他實(shí)施例中，所述第二厚度可以不為0，相應(yīng)的，所述額緣區(qū)II的間隔柱24形成于第二厚度區(qū)域的不等厚彩色光阻層上。

需要說明的是，在間隔柱24的形成過程中，從光阻涂布到曝光期間，由于所述開口區(qū)I的間隔柱24形成處周圍具有開口，所涂布的光阻向開口處流淌，導(dǎo)致開口區(qū)I曝光后形成的間隔柱24的絕對高度減小。此外，額緣區(qū)II間隔柱24形成于所述長方形結(jié)構(gòu)光阻之間的間隙中，因此涂布的光阻容易向所述間隙處流淌，從而導(dǎo)致間隙處露出的黑色矩陣21上形成的間隔柱24絕 對高度增大。因此，本實(shí)施例中，所述額緣區(qū)II間隔柱24的絕對高度大于所述開口區(qū)I間隔柱24的絕對高度，當(dāng)額緣區(qū)II彩色光阻層23的第二厚度為0，即額緣區(qū)間隔柱24下方的彩色光阻層不存在時，所述額緣區(qū)II相對于基板20的高度與開口區(qū)I間隔柱24頂端相對于基板20的高度也可以相同。所述絕對高度指的是間隔柱頂端相對于彩色光阻層上表面的高度。

需要說明的是，本實(shí)施中，根據(jù)液晶偏轉(zhuǎn)作用所需空間需求，所述間隔柱24相對于彩色光阻層23的高度為2～4.5μm。具體地，所述開口區(qū)I間隔柱24的絕對高度為2μm，所述額緣區(qū)II間隔柱24的絕對高度為3.6μm。

本實(shí)施例中，所述開口區(qū)I與額緣區(qū)II間隔柱24頂端相對基板20上表面的高度差為0～0.4μm。也就是說，所述開口區(qū)I和所述額緣區(qū)II能實(shí)現(xiàn)盒厚基本一致，從而提高了顯示的均勻度。

本實(shí)施例中，所述紅色光阻、綠色光阻和藍(lán)色光阻成條型排列。但是本發(fā)明對所述紅色光阻、綠色光阻和藍(lán)色光阻的排列方式不做限制，所述紅色光阻、綠色光阻和藍(lán)色光阻的排列方式還可以為馬賽克型或三角型排列。

請參考圖12，圖12是本發(fā)明彩色濾光基板其它實(shí)施例額緣區(qū)結(jié)構(gòu)示意圖。

需要說明的是，本發(fā)明對所述第二厚度不做限制，所述第二厚度可以為由涂所述著色光阻的厚度及間隔柱24’的絕對高度決定的，小于開口區(qū)光阻墊塊的不為0的其它值。本實(shí)施例中，所述第二厚度區(qū)域的彩色光阻層23’為與開口區(qū)彩色光阻形狀和尺寸相同的長方形結(jié)構(gòu)。但是本發(fā)明對所述第二厚度區(qū)域的彩色光阻層23’的形狀和尺寸不做限制，所述第二厚度區(qū)域的彩色光阻層23’還可以為尺寸大于間隔柱24’底部尺寸的其它形狀。

圖13是本發(fā)明一種彩色濾光基板另一實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖。

請參考圖13，所述濾光片結(jié)構(gòu)與彩色濾光基板一實(shí)施例的相同之處在此不做贅述，不同之處包括：開口區(qū)m的開口為成矩陣式排列的方形結(jié)構(gòu)，間隔柱330形成于所述方形結(jié)構(gòu)之間的矩陣對角線上。

開口區(qū)m的彩色光阻層300包括：填充于開口區(qū)m開口中的彩色光阻311和連接彩色光阻311的光阻墊塊312。具有相同顏色的所述彩色光阻311沿矩陣對角線方向排列，所述光阻墊塊312沿矩陣對角線方向連接兩個相同顏色 的彩色光阻311。

額緣區(qū)n的彩色光阻層300位于開口區(qū)m彩色光阻層300的延伸線上，所述彩色光阻層300在第一厚度區(qū)域321具有第一厚度，在第二厚度區(qū)域322具有第二厚度。

本實(shí)施例中，所述第一厚度不為0，所述第二厚度為0，即額緣區(qū)n第二厚度區(qū)域不形成彩色光阻層。但是本發(fā)明對所述第二厚度不做限制，所述第二厚度還可以為小于所述第一厚度的其他值。

圖14為本發(fā)明一種彩色濾光基板又一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。

請參考圖14，本實(shí)施例的彩色濾光基板結(jié)構(gòu)與本發(fā)明彩色濾光基板一實(shí)施例的相同之處在此不做贅述，不同之處包括：

開口區(qū)a的開口為多行沿列向排列的方形結(jié)構(gòu)，相鄰兩行方形結(jié)構(gòu)相互錯開。

彩色光阻層包括：沿列向(Y方向)延伸的折線結(jié)構(gòu)光阻410和位于兩列相鄰折線結(jié)構(gòu)光阻之間的方形結(jié)構(gòu)光阻420。相鄰兩列所述折線結(jié)構(gòu)光阻410關(guān)于列方向(即Y方向)的中心線對稱。所述方形結(jié)構(gòu)光阻420沿所述相鄰折線結(jié)構(gòu)光阻410的對稱軸排列。

所述開口區(qū)a折線結(jié)構(gòu)光阻層410包括填充于所述開口中的彩色光阻411和連接相鄰所述彩色光阻411的光阻墊塊412。所述光阻墊塊412為沿相鄰所述彩色光阻411連線方向延伸的平行四邊形結(jié)構(gòu)。

所述額緣區(qū)b折線結(jié)構(gòu)光阻層410包括與開口區(qū)a彩色光阻411位置對應(yīng)的第一厚度區(qū)域421和連接相鄰所述第一厚度區(qū)域421的第二厚度區(qū)域422。所述第二厚度區(qū)域422為沿相鄰兩個第一厚度區(qū)域421連線方向延伸的平行四邊形結(jié)構(gòu)。但是，本發(fā)明對所述第二厚度區(qū)域422的形狀和尺寸不做限制，所述第二厚度區(qū)域422還可以為尺寸大于間隔柱430底部尺寸的其它形狀。

間隔柱430形成于所述折線性結(jié)構(gòu)光阻層410的光阻墊塊412和第二厚度區(qū)域422的中心位置處。

本實(shí)施例中，額緣區(qū)b第二厚度為0，但是本發(fā)明對所述第二厚度不做限制，所述第二厚度還可以為小于第一厚度的其他值。

圖15至圖22是本發(fā)明一種彩色濾光基板形成方法一實(shí)施例的各步驟示意圖。

請參考圖15，提供基板500，用于為彩色濾光基板提供支撐。

本實(shí)施例中，所述基板500為無堿硼硅石英玻璃。但是本發(fā)明對此不做限定，所述基板500的材料還可以為其它玻璃或塑料。

結(jié)合參考圖16，圖16是圖15沿1-1’線的正面剖視圖。在所述基板500上形成黑色矩陣520，所述黑色矩陣520包括具有開口510的開口區(qū)N和位于開口區(qū)N周圍的額緣區(qū)M。

本實(shí)施例中，所述開口510底部露出所述基板500，用于使背景光透過。所述黑色矩陣520在額緣區(qū)M覆蓋額緣區(qū)M的基板500。

本實(shí)施例中，所述開口510為呈矩陣式排列的長方形結(jié)構(gòu)開口，但是本發(fā)明對所述開口510的排列方式和所述開口510的形狀不做限制，所述開口510還可以為成三角型排列的方形結(jié)構(gòu)開口。

本實(shí)施例中，所述黑色矩陣520的材料為黑色樹脂，用于防止顯示器背景光泄露，提高顏色顯示的對比度，防止混色和增加顏色的純度。但是，本發(fā)明對所述黑色矩陣520的材料不做限制，所述黑色矩陣520的材料還可以是鎳或鉻。

本實(shí)施例中，所述黑色矩陣520的形成方法包括：在所述基板500上涂布黑色樹脂，通過曝光、顯影、硬烤在基板500上形成黑色矩陣520。

請參考圖17至圖19，在黑色矩陣上形成彩色光阻層530。

本實(shí)施例中，所述形成彩色光阻層530的步驟包括：

如圖17所述，在所述黑色矩陣上涂布紅色光阻，通過光刻在所述開口區(qū)N和額緣區(qū)M分別形成紅色光阻層531和紅色不等厚光阻層；

如圖18所示，在所述黑色矩陣上涂布綠色光阻，通過光刻在所述開口區(qū)N和額緣區(qū)M分別形成綠色光阻層532和綠色不等厚光阻層；

如圖19所示，在所述黑色矩陣上涂布藍(lán)色光阻，通過光刻在所述開口區(qū)N和額緣區(qū)M分別形成藍(lán)色光阻層533和藍(lán)色不等厚光阻層。

需要說明的是，本發(fā)明對于形成紅色光阻層531和紅色不等厚光阻層、綠色光阻層532和綠色不等厚光阻層及藍(lán)色光阻層533和藍(lán)色不等厚光阻層的順序不做限定。

請參考圖19至圖21，圖20為圖19沿2-2’線(即開口區(qū)N)的側(cè)面剖視圖，圖21為圖19沿3-3’線(即額緣區(qū)M)的側(cè)面剖視圖。

形成于開口區(qū)N的彩色光阻層530包括填充于開口(如圖16所示)中的多個彩色光阻和覆蓋于相鄰彩色光阻之間黑色矩陣520上的光阻墊塊，形成于所述額緣區(qū)M的彩色光阻層530為不等厚彩色光阻層，所述不等厚彩色光阻層包括與開口區(qū)N彩色光阻位置對應(yīng)的第一厚度區(qū)域和與開口區(qū)N光阻墊塊位置相對應(yīng)的第二厚度區(qū)域。所述第一厚度區(qū)域的彩色光阻層530具有第一厚度，所述第二厚度區(qū)域的彩色光阻層530具有第二厚度，所述第二厚度小于所述第一厚度。

本實(shí)施例中，在所述開口區(qū)N成彩色光阻層530的步驟包括：在開口區(qū)M形成沿列向延伸的多列條狀光阻層，所述條狀光阻層覆蓋列向數(shù)個開口510和相鄰開口510之間的黑色矩陣520，填充于所述開口510中的條狀光阻層為所述彩色光阻，覆蓋在相鄰開口510之間黑色矩陣520上的條狀光阻層為所述光阻墊塊。

本實(shí)施例中，在額緣區(qū)M形成彩色光阻層530的步驟包括：在所述額緣區(qū)N形成沿列向延伸的多列不等厚彩色光阻層，所述不等厚彩色光阻層為條狀光阻層，所述不等厚彩色光阻層中第一厚度區(qū)域?yàn)檠亓邢蜓由斓拈L方形結(jié)構(gòu)，所述不等厚彩色光阻層中第二厚度區(qū)域位于第一厚度區(qū)域之間。

需要說明的是，本實(shí)施例中，開口區(qū)N的所述彩色光阻為填充于開口中的長方形結(jié)構(gòu)，連接所述彩色光阻的光阻墊塊也為長方形結(jié)構(gòu)。額緣區(qū)M彩色光阻層530的第一厚度區(qū)域?yàn)榕c所述長方形結(jié)構(gòu)的彩色光阻尺寸和形狀相當(dāng)?shù)拈L方形結(jié)構(gòu)。額緣區(qū)M彩色光阻層530的第二厚度區(qū)域與所述長方形結(jié)構(gòu)光阻墊塊的尺寸和形狀相同。但是，本發(fā)明對所述額緣區(qū)M的彩色光阻層 530的第二厚度區(qū)域的形狀和尺寸不做限制，所述第二厚度區(qū)域還可以為大于額緣區(qū)M間隔柱底部尺寸的其它形狀區(qū)域。

本實(shí)施例中，所述紅色光阻層531包括填充于開口區(qū)N開口中的紅色光阻和紅色光阻之間的紅色光阻墊塊；所述綠色光阻層532包括填充于開口區(qū)N開口中的綠色光阻和綠色光阻之間的綠色光阻墊塊；所述藍(lán)色光阻層531包括填充于開口區(qū)N開口中的藍(lán)色光阻和藍(lán)色光阻之間的藍(lán)色光阻墊塊。

本實(shí)施例中，所述紅色光阻、綠色光阻和藍(lán)色光阻用于構(gòu)成所述彩色光阻，所述紅色不等厚光阻層、綠色不等厚光阻層和藍(lán)色不等厚光阻層用于構(gòu)成所述額緣區(qū)的不等厚彩色光阻層。

需要說明的是，本發(fā)明對所述彩色光阻層530的步驟不做限制，所述形成彩色光阻層530的步驟至少包括：形成紅色光阻層531并形成紅色不等厚光阻層，形成綠色光阻層532并形成綠色不等厚光阻層，形成藍(lán)色光阻層533并形成藍(lán)色不等厚光阻層。

具體地，所述形成彩色光阻層530的步驟還包括：將染料分散在液體樹脂中，形成著色光阻，將所述著色光阻涂布在所述黑色矩陣520和開口露出的基板500上，對所述著色光阻進(jìn)行曝光，再經(jīng)顯影、硬烤形成所述彩色光阻層530。

需要說明的是，本實(shí)施例中，在所述彩色光阻層530的形成過程中，從涂布到曝光有一段時間間隔，由于所述著色光阻的流動性，涂布在開口區(qū)N的黑色矩陣520上的著色光阻會向所述開口處流淌，導(dǎo)致形成于黑色矩陣520上的光阻墊塊的厚度減小。由于額緣區(qū)M的第二厚度區(qū)域不受光照射，因此所述第二厚度區(qū)域不會形成彩色光阻層。

此外，所述光阻墊塊的厚度由所述彩色光阻層530形成過程中涂布的著色光阻的厚度決定，所述著色光阻的厚度過小，很難起到濾光的作用，會降低透過的背景光純度，所述著色光阻的厚度過大，會增大彩色濾光基板的厚度，此外還會降低透過彩色光阻層530的背景光強(qiáng)度。所述光阻墊塊的厚度為1.5～3.5μm。具體地，本實(shí)施例中，所述開口區(qū)N光阻墊塊的厚度為2μm。

還需要說明的是，本發(fā)明對所述第二厚度不做限制，所述第二厚度可以 通過調(diào)節(jié)所述照射到第二厚度區(qū)域的著色光阻上的曝光累計(jì)光強(qiáng)進(jìn)行調(diào)節(jié)。所述額緣區(qū)M第二厚度為0～2.5μm。具體地，本實(shí)施例中，額緣區(qū)M第二厚度區(qū)域不受光照射，因此，彩色光阻層530在第二厚度區(qū)域不會形成。具體的，所述額緣區(qū)M第二厚度為0。

請參考圖22，在所述彩色光阻層530上形成間隔柱540；所述開口區(qū)N的間隔柱540形成于所述光阻墊塊上，所述額緣區(qū)M的間隔柱540形成于不等厚彩色光阻層中第二厚度區(qū)域。

本實(shí)施例中，所述間隔柱540的形成方法包括：在所述彩色光阻層530和所述間隙處露出的黑色矩陣上涂布光阻，對所述光阻進(jìn)行曝光、顯影、硬烤形成所述間隔柱540。

需要說明的是，本實(shí)施例中，在從涂布光阻到曝光的過程中，所述開口區(qū)N光阻墊塊周圍具有所述開口，填充于開口中的所述彩色光阻層530高度低于所述黑色矩陣上方的彩色光阻層530的高度，由于涂布的用于形成間隔柱540的光阻的流動性，所述黑色矩陣520(請參考圖21)上涂布的用于形成所述間隔柱540的光阻會向所述開口處流淌，導(dǎo)致形成的所述開口區(qū)N間隔柱540的絕對高度降低。所述開口區(qū)N間隔柱540的絕對高度指的是間隔柱540頂端相對于光阻墊塊上表面的高度。

相應(yīng)的，本實(shí)施例中，所述額緣區(qū)M彩色光阻層530在第二厚度區(qū)域具有間隙，在形成所述間隔柱540的過程中，所述額緣區(qū)M彩色光阻層530上的用于形成間隔柱540的光阻會向所述間隙處流淌，導(dǎo)致形成于所述間隙處的間隔柱540的高度增加。因此，本實(shí)施例中，額緣區(qū)M間隔柱540的絕對高度大于所述開口區(qū)N間隔柱540的絕對高度。額緣區(qū)M間隔柱540的絕對高度指的是額緣區(qū)M間隔柱540頂端到黑色矩陣上表面的高度。

需要說明的是，根據(jù)液晶偏轉(zhuǎn)作用所需空間的需要，所述間隔柱540的高度為2～4.5μm。具體地，本實(shí)施例中，形成于所述開口區(qū)N的間隔柱540的絕對高度為2μm，形成于所述額緣區(qū)M的間隔柱540的絕對高度為3.6μm。

還需要說明的是，本發(fā)明對所述開口區(qū)N間隔柱540頂端相對于基板500上表面的高度與額緣區(qū)M間隔柱540頂端相對于基板500上表面的高度差不做 限制。所述高度差可以通過改變照射到額緣區(qū)M第二厚度區(qū)域的曝光累計(jì)光強(qiáng)進(jìn)行調(diào)節(jié)。所述開口區(qū)N間隔柱540頂端相對于基板500上表面的高度與額緣區(qū)M間隔柱540頂端相對于基板500上表面的高度差為0～0.4μm。具體地，本實(shí)施例中，所述開口區(qū)N間隔柱540頂端相對于基板500上表面的高度與額緣區(qū)M間隔柱540頂端相對于基板500上表面的高度差為0.4μm。

圖23是本發(fā)明的光罩一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。

請參考圖23，一種用于制造彩色濾光基板的光罩，所述彩色濾光基板包括：基板；依次形成于基板的黑色矩陣，所述黑色矩陣包括具有開口的開口區(qū)和位于所述開口區(qū)周圍的額緣區(qū)；彩色光阻層和間隔柱；所述光罩600用于形成所述彩色光阻層，其特征在于，所述光罩包括：

基體600，所述基體600上形成有：

第一圖形610，與所述開口區(qū)相對應(yīng)，用于形成開口區(qū)的彩色光阻層，所述彩色光阻層包括：填充于開口中的多個彩色光阻和覆蓋于相鄰彩色光阻之間黑色矩陣的光阻墊塊；

第二圖形620，與所述額緣區(qū)相對應(yīng)，用于在額緣區(qū)形成不等厚彩色光阻層，所述不等厚彩色光阻層在與開口區(qū)彩色光阻位置對應(yīng)的區(qū)域具有第一厚度，所述不等厚彩色光阻層在與光阻墊塊相對應(yīng)位置的區(qū)域具有第二厚度，所述第二厚度小于所述第一厚度，所述第二圖形620包括用于形成第一厚度不等厚彩色光阻層的第一區(qū)域621和用于形成第二厚度不等厚彩色光阻層的第二區(qū)域622。

本實(shí)施例中，所述開口區(qū)的多個開口呈矩陣式排列，所述開口具有沿列向延伸的長方形結(jié)構(gòu)。

本實(shí)施例中，所述第一圖形610為多列條狀圖形，用于形成沿列向延伸的多列條狀光阻層，所述條狀光阻層覆蓋列向數(shù)個開口和相鄰開口之間的黑色矩陣。所述條狀圖形由透光的石英玻璃形成。

本實(shí)施例中，由于所述第一圖形610可以通過光，在開口區(qū)形成的彩色光阻層厚度不為0，即所形成的光阻墊塊和彩色光阻厚度均不為0。

本實(shí)施例中，所述第二圖形620的所述第一區(qū)域621為沿列向延伸的長方形，所述第二區(qū)域622為位于相鄰第一區(qū)域621之間的長方形，本發(fā)明對所述第二區(qū)域622的形狀和尺寸不做限制，所述第二區(qū)域622還可以為尺寸大于所述間隔柱底部尺寸的其它形狀。

本實(shí)施中，所述第二區(qū)域622在列向的尺寸與開口區(qū)開口之間的距離相當(dāng)，所述第一區(qū)域621的尺寸與所述開口區(qū)開口的尺寸相當(dāng)。具體的，所述第二區(qū)域622在列向的尺寸為10～150μm。

本實(shí)施例中，所述基體600由不透光的鍍有金屬鉻層的石英玻璃形成。所述第二區(qū)域622由與基體600相同的材料形成。

本實(shí)施例中，由于所述第二區(qū)域622不透光，所述額緣區(qū)與開口區(qū)光阻墊塊對應(yīng)位置上的不等厚彩色光阻層不會形成，即所述第二厚度為0。

需要說明的是，本發(fā)明對所述第二圖形的第二區(qū)域的材料不做限制，在其它實(shí)施例中，所述第二圖形的第二區(qū)域還可以由半透光材料或者帶有半透光有機(jī)膜的石英玻璃形成，使所述第二圖形的第二區(qū)域?qū)獾耐高^率小于所述第一區(qū)域?qū)獾耐高^率。由半色調(diào)掩膜法在所述額緣區(qū)形成具有第二厚度的彩色光阻層。所述第二厚度可以根據(jù)間隔柱的絕對高度和開口區(qū)彩色光阻的厚度進(jìn)行選擇。具體的，通過調(diào)節(jié)所述半透光材料的組成成分調(diào)節(jié)所述第二區(qū)域?qū)獾耐高^率，從而調(diào)節(jié)第二厚度。最終使開口區(qū)和額緣區(qū)間隔柱頂端到所述基板上表面的高度差盡量小。

還需要說明的是，在其它實(shí)施例中，所述第二圖形的第二區(qū)域還可以由縱橫交錯的遮光條和狹縫形成，所述縱橫交錯的遮光條和狹縫形成的第二區(qū)域?qū)獾耐高^率小于所述第一區(qū)域。由灰階掩膜法在所述額緣區(qū)形成具有第二厚度的彩色光阻層。所述第二厚度可以根據(jù)額緣區(qū)和開口區(qū)間隔柱的絕對高度和開口區(qū)光阻墊塊的厚度，通過所述遮光條和狹縫的寬度調(diào)節(jié)所述第二區(qū)域?qū)獾耐高^率進(jìn)行調(diào)節(jié)，從而使開口區(qū)和額緣區(qū)間隔柱頂端到所述基板上表面的高度差盡量小。

圖24是本發(fā)明的光罩另一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。

請參考圖24，本實(shí)施例中與本發(fā)明的光罩一實(shí)施例的相同之處在此不做 贅述，不同之處包括：

本實(shí)施例中，所述多個開口為方形結(jié)構(gòu)開口且多個方形結(jié)構(gòu)開口呈矩陣式排列；所述間隔柱形成在矩陣對角線方向的所述方形結(jié)構(gòu)開口之間。

本實(shí)施例中，所述第一圖形710包括：方形圖形711和連接方形圖形的連接圖形712。所述方形圖形711沿矩陣對角線方向排列，所述連接圖形712位于方形圖形之間，沿矩陣對角線方向延伸。所述連接圖形712用于形成開口區(qū)間隔柱下方的光阻墊塊，所述方形圖形711用于形成填充于所述開口區(qū)開口中的彩色光阻。

本實(shí)施例中，所述第二圖形720的第一區(qū)域721為方形，且沿矩陣對角線方向排列。所述第二區(qū)域722為沿矩陣對角線方向連接相鄰第一區(qū)域721之間的條形。但是，本發(fā)明對所述第二區(qū)域722的尺寸和形狀不做限制，所述第二區(qū)域722還可以為所形成的間隔柱下方的光阻墊塊大于所述間隔柱底部尺寸的其它圖形。

本實(shí)施例中，所述第二區(qū)域722由與基板相同的材料形成，所述形成基體的材料為鍍有不透光的金屬鉻層的石英玻璃。因此，額緣區(qū)的第二厚度不為0，額緣區(qū)的第一厚度為0，即額緣區(qū)間隔柱下方不形成彩色光阻層。

需要說明的是，本發(fā)明對所述第二區(qū)域的材料和額緣區(qū)第二厚度不做限制，所述第二圖形的第二區(qū)域還可以由半透光材料或帶有半透光有機(jī)膜的石英玻璃形成，用于通過半色調(diào)掩膜法形成額緣區(qū)間隔柱下方的彩色光阻層。所述半透光材料或帶有半透光有機(jī)膜的石英玻璃對光的透過率小于第一區(qū)域?qū)獾耐高^率。第二厚度還可以為小于第一厚度的其它值。

在其它實(shí)施例中，所述第二圖形的第二區(qū)域還可以由縱橫交錯的遮光條和狹縫形成。

圖25為本發(fā)明的光罩又一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。

請參考圖25，所述光罩與本發(fā)明的光罩一實(shí)施例的相同之處在此不做贅述，不同之處包括：

第一圖形810為多列折線圖形，所述折線圖行包括多個與開口區(qū)開口對 應(yīng)的方形圖形811和連接所述方形圖形811的連接圖形812。相鄰兩行方形圖形811相互錯開，所述連接圖形812為沿相鄰兩行錯開的方形圖形811連線方向延伸的平行四邊形。所述第二圖形820位于所述第一圖形810的延伸線上。所述第二圖形820的第一區(qū)域821為多行沿行向排列的方形，相鄰兩行所述方形相互錯開，第二區(qū)域822為連接所述第一區(qū)域821的平行四邊形，所述平行四邊形沿第一區(qū)域821的連線方向延伸。本發(fā)明對所述第二區(qū)域822的形狀不做限制，所述第二區(qū)域822還可以為尺寸大于所述間隔柱底部尺寸的其它圖形。

需要說明的是，本實(shí)施例中，所述第二區(qū)域822由與基體800相同的材料形成，所述用于形成第二區(qū)域822的材料為鍍有不透光的鉻膜的石英玻璃。但是，本發(fā)明對所述第二區(qū)域822的材料不做限定，所述第二圖形820的第二區(qū)域822還可以由半透光材料或帶有半透光有機(jī)膜的石英玻璃形成，用于通過半色調(diào)掩膜法形成額緣區(qū)間隔柱下方的彩色光阻層。在其它實(shí)施例中，所述第二圖形的第二區(qū)域還可以由縱橫交錯的遮光條和狹縫形成。

綜上，在形成所述間隔柱和彩色光阻層的過程中，由于光阻的流動性，導(dǎo)致開口區(qū)間隔柱的絕對高度和間隔柱下方彩色光阻層厚度減小以及額緣區(qū)間隔柱絕對高度增加。本發(fā)明在額緣區(qū)形成不等厚彩色光阻層，所述不等厚彩色光阻層在與開口區(qū)彩色光阻位置對應(yīng)的區(qū)域具有第一厚度，在所述不等厚彩色光阻層在與光阻墊塊相對應(yīng)位置的區(qū)域具有第二厚度，所述第二厚度小于所述第一厚度；這樣在所述額緣區(qū)不等厚彩色光阻層中第二厚度對應(yīng)位置處形成間隔柱時，所述間隔柱下方的不等厚彩色光阻層底座較薄，而所述間隔柱的高度較大，從而使額緣區(qū)和開口區(qū)間隔柱頂部相對基板上表面的高度相當(dāng)，進(jìn)而可以提高顯示的均勻度。

以上所述僅為本發(fā)明的具體實(shí)施例，目的是為了使本領(lǐng)域技術(shù)人員更好的理解本發(fā)明的精神，然而本發(fā)明的保護(hù)范圍并不以該具體實(shí)施例的具體描述為限定范圍，任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員在不脫離本發(fā)明精神的范圍內(nèi)，可以對本發(fā)明的具體實(shí)施例做修改，而不脫離本發(fā)明的保護(hù)范圍。