本發(fā)明涉及一種基于多層透明導(dǎo)電氧化物的可調(diào)控三維光學(xué)隱身斗篷的實(shí)現(xiàn)方法和裝置,可應(yīng)用于光波傳播方向的控制。
背景技術(shù):
2006年,文獻(xiàn)1:“j.b.pendryetal,science,2006(312):1780”首次提出利用異向介質(zhì)能夠操控光波的傳播方向,實(shí)現(xiàn)光學(xué)隱身衣概念,引起了人們的廣泛關(guān)注,成為光學(xué)領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)。同年,文獻(xiàn)2:“d.schurigetal,science,2006(314):977”在微波段首次實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證了橫電波二維超材料隱身斗篷。2007年,文獻(xiàn)3:“caietal,naturephotonics,2007(1):224”提出了橫磁波二維超材料隱身斗篷。2010年,文獻(xiàn)4:“maetal,naturecommunications,2010(1):124”提出了基于介質(zhì)板的二維孔陣列實(shí)現(xiàn)了電磁波的隱身效果。但是,目前光學(xué)隱身結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì),大多基于二維平面結(jié)構(gòu)模型仿真和實(shí)驗(yàn)測(cè)試,三維光學(xué)隱身斗篷則鮮有報(bào)道。
另外,目前的光學(xué)隱身斗篷還不具備可調(diào)諧的功能(即光學(xué)隱身的開/關(guān)功能),換句話說光學(xué)隱身斗篷的結(jié)構(gòu)一旦確定以后其隱身性能將會(huì)一直存在是不能改變的,其主要原因是缺乏介電常數(shù)和磁導(dǎo)率系數(shù)可以被主動(dòng)實(shí)時(shí)調(diào)控的天然材料,這直接制約著光學(xué)隱身技術(shù)的進(jìn)一步發(fā)展。因此需要設(shè)計(jì)一種簡(jiǎn)單實(shí)用的方法對(duì)光學(xué)隱身斗篷的光學(xué)隱身功能進(jìn)行調(diào)諧,他將對(duì)光學(xué)隱身斗篷的實(shí)際應(yīng)用具有非常重要的意義,大大推進(jìn)其實(shí)用化進(jìn)程。
透明導(dǎo)電氧化物在外界光、熱、電、磁、氣壓或應(yīng)力的作用下,其介電常數(shù)和磁導(dǎo)率也會(huì)發(fā)生可逆性改變。
本發(fā)明提供一種基于多層透明導(dǎo)電氧化物的可調(diào)控光學(xué)隱身斗篷。該三維可調(diào)控光學(xué)隱身斗篷通過透明導(dǎo)電氧化物組成的表面覆蓋殼層實(shí)現(xiàn)。其中,表面覆蓋殼層為多個(gè)透明導(dǎo)電氧化物環(huán)層自下而上疊加構(gòu)成,通過控制不同環(huán)層中透明導(dǎo)電氧化物的自由電子密度,可以使每層對(duì)應(yīng)不同的介電常數(shù)和磁導(dǎo)率系數(shù),獲得光學(xué)隱身所需的三維介電常數(shù)和磁導(dǎo)率系數(shù)分布,進(jìn)而使光線繞過斗篷區(qū)域后,光場(chǎng)恢復(fù)原來(lái)的分布,實(shí)現(xiàn)光學(xué)隱身功能。同時(shí),通過循環(huán)控制每個(gè)環(huán)層中透明導(dǎo)電氧化物的自由電子密度,實(shí)現(xiàn)光學(xué)隱身斗篷的實(shí)時(shí)開/關(guān)性能,從而克服了光學(xué)隱身斗篷不能開關(guān)的缺點(diǎn)。本發(fā)明基于透明導(dǎo)電氧化物自由電子密度可控原理,可以有效節(jié)省能量,延長(zhǎng)偽裝時(shí)間;在實(shí)現(xiàn)上,采用電、光控開關(guān)等廣泛使用的器件,顯著降低了光學(xué)隱身斗篷的復(fù)雜度和成本,實(shí)際應(yīng)用潛力大。使用本發(fā)明技術(shù),可以使光學(xué)隱身斗篷在大多數(shù)時(shí)間內(nèi)處于關(guān)閉狀態(tài)(即不隱身),使對(duì)方探測(cè)到一些無(wú)效光學(xué)信息,而在需要的時(shí)候開啟熱隱身功能讓對(duì)方探測(cè)不到其光學(xué)信號(hào),有效隱藏各種重要信息,麻痹敵方,使我方行動(dòng)具有突然性。該技術(shù)在實(shí)現(xiàn)光幻想、迷惑紅外光學(xué)檢測(cè)器、和在軍事和民用等光學(xué)隱身設(shè)備中具有巨大應(yīng)用價(jià)值。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是:克服現(xiàn)有光學(xué)隱身斗篷大多基于二維平面結(jié)構(gòu)、和光學(xué)隱身斗篷的隱身功能不具備可調(diào)諧性(即不能開/關(guān)光隱身功能)的缺點(diǎn),利用透明導(dǎo)電氧化物這一常見材料,提供一種實(shí)現(xiàn)可調(diào)控(可開/關(guān))三維光學(xué)隱身斗篷的新技術(shù),使得系統(tǒng)具備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、速度快、便于操作、能耗小、實(shí)時(shí)性強(qiáng)和實(shí)現(xiàn)成本低等優(yōu)點(diǎn)。
本發(fā)明的技術(shù)方案:
一種基于多層透明導(dǎo)電氧化物的可調(diào)控三維光學(xué)隱身斗篷,包括襯底層、間隔層、透明導(dǎo)電氧化物環(huán)層組成的表面覆蓋環(huán)層、附于透明導(dǎo)電氧化物環(huán)層內(nèi)壁的金屬薄層貼片、內(nèi)部支撐殼、控制單元和供能單元;表面覆蓋環(huán)層為多個(gè)透明導(dǎo)電氧化物環(huán)層自下而上疊加構(gòu)成,每個(gè)透明導(dǎo)電氧化物環(huán)層內(nèi)壁表面均貼有金屬薄層貼片,每?jī)蓚€(gè)透明導(dǎo)電氧化物環(huán)層之間均有間隔層隔離;內(nèi)部支撐殼處于多層透明導(dǎo)電氧化物環(huán)層內(nèi)側(cè),用于承載多層透明導(dǎo)電氧化物環(huán)層,被隱藏的目標(biāo)放置于內(nèi)部支撐殼的腔內(nèi);內(nèi)部支撐殼與金屬薄層貼片接觸,同時(shí)內(nèi)部支撐殼對(duì)應(yīng)于每個(gè)金屬薄層貼片處都鉆有小孔,小孔孔徑為1μm~1cm、深度為1μm~10cm;小孔內(nèi)安裝導(dǎo)線,導(dǎo)線一端連接在金屬薄層貼片上,另一端依次經(jīng)過控制單元和供能單元接地,通過操控控制單元,可以調(diào)控供能單元對(duì)每層透明導(dǎo)電氧化物環(huán)層的作用時(shí)間,進(jìn)而控制不同透明導(dǎo)電氧化物環(huán)層中透明導(dǎo)電氧化物的自由電子密度,可以使每層透明導(dǎo)電氧化物環(huán)層對(duì)應(yīng)不同的介電常數(shù)和磁導(dǎo)率系數(shù),實(shí)現(xiàn)光學(xué)隱身所需的三維介電常數(shù)和磁導(dǎo)率系數(shù)分布,進(jìn)而使光線繞過斗篷區(qū)域后,光學(xué)場(chǎng)恢復(fù)原來(lái)的分布,實(shí)現(xiàn)光學(xué)隱身功能。
所述的透明導(dǎo)電氧化物環(huán)層的形狀是半球體、圓錐體、余弦體、正弦體、圓柱體、半橢圓體、正方體、矩形體或六邊體,每一個(gè)透明導(dǎo)電氧化物環(huán)層可獨(dú)立控制和工作;所述的透明導(dǎo)電氧化物環(huán)層是氧化銦錫、氧化鋅鋁、摻鎵氧化鋅、摻鋅的氧化銦錫或摻雜氧化鎘銦,其寬度為1μm~10cm、厚度為20nm~10cm。
所述的金屬薄層貼片是al片、ag片、au片、cu片或ni片,其寬度為1μm~10cm、厚度為20nm~10cm。
所述的間隔層是硅酸鈣、多元醇/多異氰酸酯、硬質(zhì)聚氨酯泡沫塑料、聚苯乙烯泡沫塑料、泡沫玻璃、in2o3、sno2或ito,其寬度為1nm~10cm、厚度為1nm~10cm。
所述的內(nèi)部支撐殼是聚亞胺、塑料、bk7光學(xué)玻璃,sio2、si3n4或al2o3;所述的襯底層是聚亞胺、塑料、bk7光學(xué)玻璃,sio2、si3n4或al2o3。
所述的控制單元是電控、光控、聲控或磁控開關(guān);所述的供能單元是電能、熱能、光能、真空壓強(qiáng)或核能。
所述的多層透明導(dǎo)電氧化物環(huán)層通過材料生長(zhǎng)工藝實(shí)現(xiàn),包括電子束蒸發(fā)、金屬有機(jī)化合物化學(xué)氣相沉淀、氣相外延生長(zhǎng)和分子束外延方法。
本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明基于透明導(dǎo)電氧化物的自由電子密度可調(diào)控原理,可以有效節(jié)省能量,延長(zhǎng)偽裝時(shí)間;在實(shí)現(xiàn)上,采用電、光控開關(guān)等廣泛使用的器件,顯著降低了光學(xué)隱身斗篷的復(fù)雜度和成本,實(shí)際應(yīng)用潛力大。該技術(shù)在實(shí)現(xiàn)光幻想、迷惑紅外光學(xué)檢測(cè)器、和在軍事和民用等光學(xué)隱身設(shè)備中具有巨大應(yīng)用價(jià)值。
本發(fā)明提供一種基于多層透明導(dǎo)電氧化物的可調(diào)控三維光學(xué)隱身斗篷,可以通過外加電、熱、光或磁場(chǎng)改變透明導(dǎo)電氧化物這一常見材料的介電常數(shù)和磁導(dǎo)率系數(shù)分布,提供一種實(shí)現(xiàn)可調(diào)控(可開/關(guān))三維光學(xué)隱身斗篷的新技術(shù),使得系統(tǒng)具備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、速度快、便于操作、能耗小、實(shí)時(shí)性強(qiáng)和實(shí)現(xiàn)成本低等優(yōu)點(diǎn)。
附圖說明
圖1(a)為本發(fā)明提供的一種基于n層(n≥1)透明導(dǎo)電氧化物的可調(diào)控三維光學(xué)隱身斗篷切面圖。
圖1(b)為本發(fā)明提供的一種基于n層(n≥1)透明導(dǎo)電氧化物的可調(diào)控三維光學(xué)隱身斗篷俯視圖。
圖2(a)為內(nèi)部支撐殼示意圖。
圖2(b)為n層透明導(dǎo)電氧化物表面覆蓋環(huán)層(n≥1)示意圖。
圖2(c)為可調(diào)控三維光學(xué)隱身斗篷示意圖。
圖3(a)為本發(fā)明提供的一種基于n層(n≥1)透明導(dǎo)電氧化物的可調(diào)控三維光學(xué)隱身斗篷在隱身功能開設(shè)狀態(tài)下(即透明導(dǎo)電氧化物處于不同自由電子密度時(shí)的)的光場(chǎng)分布情況。
圖3(b)為本發(fā)明提供的一種基于n層(n≥1)透明導(dǎo)電氧化物的可調(diào)控三維光學(xué)隱身斗篷在隱身功能關(guān)閉狀態(tài)下(即透明導(dǎo)電氧化物處于不同自由電子密度時(shí)的)的光場(chǎng)分布情況。
圖中:1襯底層;2n層透明導(dǎo)電氧化物表面覆蓋環(huán)層(n≥1);
3金屬薄層貼片;4間隔層;5內(nèi)部支撐殼;6隱身區(qū)域;7小孔;8導(dǎo)線;9控制單元;10供能單元;11地線。
具體實(shí)施方式
為使得本發(fā)明的技術(shù)方案的內(nèi)容更加清晰,以下結(jié)合技術(shù)方案和附圖詳細(xì)敘述本發(fā)明的具體實(shí)施方式。其中的材料生長(zhǎng)技術(shù)包括:電子束蒸發(fā),金屬有機(jī)化合物化學(xué)氣相沉淀,氣相外延生長(zhǎng),和分子束外延技術(shù)等常用技術(shù)。其中的掩模工藝包括電子束曝光和聚焦離子束曝光等常用技術(shù)。其中的刻蝕工藝包括濕法刻蝕和干法刻蝕,如酸法刻蝕、電子束刻蝕、聚焦離子束刻蝕和反應(yīng)離子束刻蝕等常用工藝。
首先,利用材料生長(zhǎng)工藝在襯底1上形成內(nèi)部支撐殼5,如附圖2(a)所示;
然后,通過材料生長(zhǎng)工藝和掩模工藝,將設(shè)計(jì)好的透明導(dǎo)電氧化物環(huán)層在襯底1和內(nèi)部支撐殼5的外表面由下至上逐層疊加,實(shí)現(xiàn)n層透明導(dǎo)電氧化物表面覆蓋環(huán)層2,如附圖2(b)所示。其中,透明導(dǎo)電氧化物表面環(huán)層和內(nèi)部支撐殼的設(shè)計(jì)可以采用有限時(shí)域差分法、有限元法等算法。金屬薄層貼片3通過鍍膜工藝被加工在n層透明導(dǎo)電氧化物表面覆蓋環(huán)層2的內(nèi)環(huán)壁和內(nèi)部支撐殼5的外壁之間。
內(nèi)部支撐殼對(duì)應(yīng)于每個(gè)金屬薄層貼片3處,都鉆有小孔7。小孔內(nèi)安裝導(dǎo)線8,導(dǎo)線一端連接在金屬薄層貼片3上,另一端經(jīng)過控制單元9和供能單元10接地線11,通過操控控制單元9,可以調(diào)控供能單元10對(duì)每層透明導(dǎo)電氧化物的作用時(shí)間,進(jìn)而控制不同環(huán)層中透明導(dǎo)電氧化物的自由電子密度,可以使每層透明導(dǎo)電氧化物環(huán)層對(duì)應(yīng)不同的介電常數(shù)和磁導(dǎo)率系數(shù),實(shí)現(xiàn)光隱身所需的三維介電常數(shù)和磁導(dǎo)率系數(shù)分布,進(jìn)而使光線繞過斗篷區(qū)域后,光場(chǎng)恢復(fù)原來(lái)的分布,實(shí)現(xiàn)光學(xué)隱身功能。最終實(shí)現(xiàn)一種基于多層透明導(dǎo)電氧化物的可調(diào)控三維光學(xué)隱身斗篷,如附圖2(c)所示。
如圖3所示,當(dāng)一種基于多層透明導(dǎo)電氧化物的可調(diào)控二維光學(xué)隱身斗篷中的透明導(dǎo)電氧化物發(fā)生自由電子密度變化,其介電常數(shù)和磁導(dǎo)率系數(shù)分布也會(huì)發(fā)生改變,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)光傳播方向的調(diào)控,實(shí)現(xiàn)光學(xué)隱身功能的“開”即屏蔽外來(lái)的光使得內(nèi)部支撐殼5內(nèi)所隱藏物體不被外界所探測(cè),即光線通過該光學(xué)隱身斗篷后不改變其光場(chǎng)分布(如圖3(a)所示)和“關(guān)”即光通過該隱身斗篷后其光場(chǎng)分布發(fā)生改變,導(dǎo)致內(nèi)部支撐殼5內(nèi)所放物體可以被外界所探測(cè)(如圖3(b)所示)。
以上所述是本發(fā)明應(yīng)用的技術(shù)原理和具體實(shí)例,依據(jù)本發(fā)明的構(gòu)想所做的等效變換,只要其所運(yùn)用的方案仍未超出說明書和附圖所涵蓋的精神時(shí),均應(yīng)在本發(fā)明的范圍內(nèi),特此說明。