本發(fā)明屬于生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體地講，涉及一種干燥裝置以及具有該干燥裝置的曝光顯影設(shè)備。

背景技術(shù)：

在曝光顯影工藝中，未經(jīng)過(guò)曝光后的光刻膠和顯影液在反應(yīng)之后被沖洗掉，而經(jīng)曝光后的光刻膠固化留下所需的圖案。曝光顯影工藝對(duì)基板上得到的圖案的微觀缺陷及宏觀缺陷有著重要的影響，其中最主要的一方面是顯影液被沖洗后基板的干燥能力，基板在經(jīng)過(guò)顯影和沖洗之后，其上的圖案已經(jīng)形成，如果在沖洗后基板的干燥能力不佳，微觀缺陷表現(xiàn)為會(huì)在基板正反面形成大量的水汽殘留，全數(shù)檢查機(jī)檢查的微觀缺陷數(shù)量大量增加，對(duì)于分析其他缺陷產(chǎn)生很大不便利性，宏觀缺陷則表現(xiàn)為在基板正面形成水紋不均勻(mura)，增加外觀判斷的無(wú)益損失(NG Loss)。

傳統(tǒng)的干燥主要是通過(guò)風(fēng)刀(air knife)及紅外加熱爐(infrared Ray)對(duì)沖洗后的基板上的水汽殘留進(jìn)行改善，但是僅通過(guò)風(fēng)刀對(duì)水汽的干燥能力有限，往往不能完全去除水汽，通過(guò)在水洗后另外加裝紅外加熱爐(infrared Ray)可以較好的去除水汽，但是成本較高，且設(shè)備的外觀及尺寸會(huì)出現(xiàn)大幅增加，對(duì)于設(shè)備空間有較大的需求，對(duì)規(guī)劃產(chǎn)線(xiàn)布局產(chǎn)生制約。

另外，傳統(tǒng)的排氣方式往往是直接在風(fēng)刀腔室的腔壁上設(shè)置排氣口，通過(guò)固定的連接管道接通到動(dòng)力端的排氣裝置上進(jìn)行，這種排氣的能力往往不夠，如果風(fēng)刀腔室與排氣匹配不好，腔室內(nèi)會(huì)出現(xiàn)亂流，水汽更不容易排出。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種能夠避免腔體內(nèi)出現(xiàn)亂流現(xiàn)象的干燥裝置以及具有該干燥裝置的曝光顯影設(shè)備。

根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供了一種干燥裝置，其包括腔體、承載平臺(tái)、高壓氣體產(chǎn)生器和排氣干燥器，所述腔體包括多個(gè)腔壁，所述多個(gè)腔壁合圍形成一容置空間，所述承載平臺(tái)和所述高壓氣體產(chǎn)生器設(shè)置于所述容置空間中，且所述高壓氣體產(chǎn)生器與所述承載平臺(tái)相對(duì)設(shè)置，所述承載平臺(tái)用于承載被干燥對(duì)象，所述高壓氣體產(chǎn)生器用于噴射沖擊所述被干燥對(duì)象的高壓氣體，所述排氣干燥器設(shè)置于所述腔壁中，所述排氣干燥器用于使所述容置空間中的水汽排出，以使所述容置空間中的濕度處于平衡狀態(tài)。

可選地，所述排氣干燥器包括通孔和干燥單元，所述通孔貫穿所述腔壁，所述干燥單元設(shè)置于所述通孔內(nèi)。

可選地，所述干燥單元為固體干燥劑。

可選地，所述排氣干燥器還包括閥門(mén)，所述閥門(mén)和所述干燥單元沿著從腔壁內(nèi)表面到腔壁外表面的方向依次設(shè)置，且所述閥門(mén)和所述干燥單元彼此間隔，通過(guò)控制所述閥門(mén)的開(kāi)度，以控制所述容置空間中的水汽排出量。

可選地，所述排氣干燥器還包括密封圈，所述密封圈設(shè)置于所述閥門(mén)和所述通孔內(nèi)壁之間。

可選地，所述通孔的孔徑沿著從腔壁內(nèi)表面到腔壁外表面的方向逐漸減小。

可選地，所述高壓氣體產(chǎn)生器包括滑行軌道、風(fēng)刀和風(fēng)機(jī)過(guò)濾機(jī)組，所述風(fēng)刀架設(shè)于所述滑行軌道上，以在滑行軌道上進(jìn)行滑行移動(dòng)，所述風(fēng)機(jī)過(guò)濾機(jī)組設(shè)置于所述腔體之外，所述風(fēng)機(jī)過(guò)濾機(jī)組用于向所述風(fēng)刀輸送所述高壓氣體，所述風(fēng)刀用于噴射所述高壓氣體。

可選地，所述干燥裝置還包括沖洗管道，所述沖洗管道和所述風(fēng)刀沿著滑行方向依次架設(shè)于所述滑行軌道上，所述沖洗管道用于對(duì)所述被干燥對(duì)象進(jìn)行沖洗。

根據(jù)本發(fā)明的另一方面，還提供了一種曝光顯影設(shè)備，其包括依次設(shè)置的曝光裝置、顯影裝置和上述的干燥裝置，所述曝光裝置用于曝光對(duì)象，所述顯影裝置用于對(duì)曝光后的對(duì)象進(jìn)行顯影，以形成所述被干燥對(duì)象，所述干燥裝置用于對(duì)所述被干燥對(duì)象進(jìn)行干燥。

本發(fā)明的有益效果：干燥裝置的腔體內(nèi)的氣流能夠處于平衡狀態(tài)，從而腔體內(nèi)的濕度處于平衡狀態(tài)，避免了腔體內(nèi)產(chǎn)生亂流的現(xiàn)象。

附圖說(shuō)明

通過(guò)結(jié)合附圖進(jìn)行的以下描述，本發(fā)明的實(shí)施例的上述和其它方面、特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)將變得更加清楚，附圖中：

圖1是根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的干燥裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的腔壁的局部剖面圖；

圖3是根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例的腔壁的局部剖面圖；

圖4是根據(jù)本發(fā)明的第三實(shí)施例的干燥裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的曝光顯影設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

以下，將參照附圖來(lái)詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例。然而，可以以許多不同的形式來(lái)實(shí)施本發(fā)明，并且本發(fā)明不應(yīng)該被解釋為限制于這里闡述的具體實(shí)施例。相反，提供這些實(shí)施例是為了解釋本發(fā)明的原理及其實(shí)際應(yīng)用，從而使本領(lǐng)域的其他技術(shù)人員能夠理解本發(fā)明的各種實(shí)施例和適合于特定預(yù)期應(yīng)用的各種修改。

在附圖中，為了清楚起見(jiàn)，可以夸大元件的形狀和尺寸，并且相同的標(biāo)號(hào)將始終被用于表示相同或相似的元件。

圖1是根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的干燥裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

參照?qǐng)D1，根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的干燥裝置包括：腔體100、承載平臺(tái)200、高壓氣體產(chǎn)生器300和排氣干燥器400。

在本實(shí)施例中，腔體100整體呈長(zhǎng)方體狀，但本發(fā)明并不限制于此，可以根據(jù)實(shí)際需求而將腔體100構(gòu)造為其他合適的形狀。腔體100包括六個(gè)腔壁110，這六個(gè)腔壁110彼此對(duì)應(yīng)連接合圍，從而形成一容置空間120。

承載平臺(tái)200和高壓氣體產(chǎn)生器300設(shè)置于容置空間120中，并且承載平臺(tái)200和高壓氣體產(chǎn)生器300相對(duì)設(shè)置。在本實(shí)施例中，高壓氣體產(chǎn)生器300設(shè)置于承載平臺(tái)200的上方。排氣干燥器400設(shè)置于腔壁110中。在本實(shí)施例中，四個(gè)腔壁110上設(shè)置了至少一個(gè)排氣干燥器400，但本發(fā)明并不限制于此，例如可根據(jù)實(shí)際需求在某些腔壁110上設(shè)置排氣干燥器400。承載平臺(tái)200用于承載被干燥對(duì)象A(諸如經(jīng)曝光顯影后的基板等)，并且承載平臺(tái)200可以承載著被干燥對(duì)象A進(jìn)行移動(dòng)，高壓氣體產(chǎn)生器300用于噴射沖擊所述被干燥對(duì)象A的高壓氣體，排氣干燥器400用于使容置空間120中的水汽排出，以使容置空間120中的氣流處于平衡狀態(tài)，從而使容置空間120中的濕度處于平衡狀態(tài)，避免了容置空間120中產(chǎn)生亂流的現(xiàn)象。

具體地，高壓氣體產(chǎn)生器300包括滑行軌道310、風(fēng)刀320和風(fēng)機(jī)過(guò)濾機(jī)組330。風(fēng)刀320架設(shè)于滑行軌道310上，以在滑行軌道310上進(jìn)行滑行移動(dòng)，風(fēng)機(jī)過(guò)濾機(jī)組330設(shè)置于腔體100之外，風(fēng)機(jī)過(guò)濾機(jī)組330用于向風(fēng)刀320輸送所述高壓氣體，風(fēng)刀320用于噴射所述高壓氣體到承載平臺(tái)200承載的被干燥對(duì)象A上。這里，僅是處理高壓氣體產(chǎn)生器300的一種實(shí)施方式，本發(fā)明的高壓氣體產(chǎn)生器并不限制于此處的實(shí)施結(jié)構(gòu)，其可以是其他合適的結(jié)構(gòu)。

這里，需要說(shuō)明的是，滑行軌道310的伸展方向與承載平臺(tái)200的移動(dòng)方向平行，但本發(fā)明并不限制于此。

圖2是根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的腔壁的局部剖面圖。

參照?qǐng)D1和圖2，排氣干燥器400包括通孔410和干燥單元420，該通孔410貫穿腔壁110，干燥單元420設(shè)置于通孔410內(nèi)，干燥單元420用于吸收容置空間120內(nèi)的水汽，以使容置空間120中的水汽排出，以使容置空間120中的氣流處于平衡狀態(tài)。

在本實(shí)施例中，為了增加容置空間120內(nèi)的水汽與干燥單元420的接觸面積，使容置空間120中的水汽快速排出，并且避免外部環(huán)境中的水汽對(duì)干燥單元420的影響，優(yōu)選地，將通孔410構(gòu)造成喇叭狀，即通孔410的孔徑沿著從腔壁110的內(nèi)表面到腔壁110的外表面的方向逐漸減小。當(dāng)然，本發(fā)明的通孔410的形狀并不限制于此，其可以是孔徑均勻的通孔或者其他合適形狀的通孔。

此外，在本實(shí)施例中，優(yōu)選地，干燥單元420采用固體干燥劑，但本發(fā)明并不限制于此。

圖3是根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例的腔壁的局部剖面圖。

參照?qǐng)D3，與第一實(shí)施例的不同之處在于，根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例的排氣干燥器400’還包括閥門(mén)430，該閥門(mén)430和干燥單元420沿著從腔壁110的內(nèi)表面到腔壁110的外表面的方向依序設(shè)置，且該閥門(mén)430和干燥單元420彼此間隔。這里，可在容置空間120和/或風(fēng)刀320上設(shè)置濕度檢測(cè)傳感器(未示出)，通過(guò)濕度檢測(cè)傳感器獲得容置空間120內(nèi)的濕度，根據(jù)獲得的容置空間120內(nèi)的濕度來(lái)控制閥門(mén)430的開(kāi)度，以控制容置空間120中的水汽排出量，從而使容置空間120中的水汽能夠更好地導(dǎo)流排出，進(jìn)而使容置空間120中的氣流處于平衡狀態(tài)。

進(jìn)一步地，為了提高閥門(mén)430與通孔410的內(nèi)壁的密封度，排氣干燥器400’還包括密封圈440，該密封圈440設(shè)置在閥門(mén)430與通孔410的內(nèi)壁之間。應(yīng)當(dāng)理解的是，作為本發(fā)明的其他實(shí)施方式，密封圈440不設(shè)置也可以。

圖4是根據(jù)本發(fā)明的第三實(shí)施例的干燥裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

參照?qǐng)D4，與第一實(shí)施例和第二實(shí)施例的干燥裝置不同之處在于，根據(jù)本發(fā)明的第三實(shí)施例的干燥裝置還包括沖洗管道500，該沖洗管道500和風(fēng)刀320沿著滑行方向依序架設(shè)于滑行軌道310上，并且該沖洗管道500可以在滑行軌道310上進(jìn)行滑行移動(dòng)，沖洗管道500用于對(duì)所述被干燥對(duì)象A進(jìn)行沖洗。這樣，在風(fēng)刀320對(duì)所述被干燥對(duì)象A噴射高壓氣體之前，沖洗管道500再次對(duì)被干燥對(duì)象A進(jìn)行潤(rùn)濕和清洗。此外，通過(guò)動(dòng)態(tài)調(diào)節(jié)沖洗管道500和風(fēng)刀320之間的距離以及風(fēng)刀320噴射高壓氣體的氣量，可以使被干燥對(duì)象A上的水膜達(dá)到均勻的狀態(tài)，從而避免了局部水膜不均勻及容置空間120中的水汽的積聚，減少了水紋不均勻(mura)及錯(cuò)檢現(xiàn)象的發(fā)生。

圖5是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的曝光顯影設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。

參照?qǐng)D5，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的曝光顯影設(shè)備包括依次設(shè)置的曝光裝置1000、顯影裝置2000和干燥裝置3000，其中干燥裝置3000為上述的第一實(shí)施例或第二實(shí)施例或第三實(shí)施例的干燥裝置。曝光裝置1000用于曝光對(duì)象，顯影裝置2000用于對(duì)曝光后的對(duì)象進(jìn)行顯影，以形成所述被干燥對(duì)象，干燥裝置3000用于對(duì)所述被干燥對(duì)象進(jìn)行干燥。

綜上所述，根據(jù)本發(fā)明的各實(shí)施例，干燥裝置的腔體內(nèi)的氣流能夠處于平衡狀態(tài)，從而腔體內(nèi)的濕度處于平衡狀態(tài)，避免了腔體內(nèi)產(chǎn)生亂流的現(xiàn)象。

雖然已經(jīng)參照特定實(shí)施例示出并描述了本發(fā)明，但是本領(lǐng)域的技術(shù)人員將理解：在不脫離由權(quán)利要求及其等同物限定的本發(fā)明的精神和范圍的情況下，可在此進(jìn)行形式和細(xì)節(jié)上的各種變化。