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      陣列基板及液晶顯示面板的制作方法

      文檔序號:12033795閱讀:555來源:國知局
      陣列基板及液晶顯示面板的制作方法與工藝

      本發(fā)明涉及液晶顯示領(lǐng)域,尤其涉及一種陣列基板及液晶顯示面板。



      背景技術(shù):

      液晶顯示裝置(liquidcrystaldisplay,lcd)具有機身薄、省電、無輻射等眾多優(yōu)點,得到了廣泛的應(yīng)用。如:液晶電視、移動電話、個人數(shù)字助理(pda)、數(shù)字相機、計算機屏幕或筆記本電腦屏幕等。

      通常液晶顯示裝置包括殼體、設(shè)于殼體內(nèi)的液晶面板及設(shè)于殼體內(nèi)的背光模組(backlightmodule)。其中,液晶面板的結(jié)構(gòu)主要是由一薄膜晶體管陣列(thinfilmtransistorarray,tftarray)基板、一彩色濾光片(colorfilter,cf)基板即彩膜基板以及配置于兩基板間的液晶層(liquidcrystallayer)所構(gòu)成,其工作原理是通過在兩片玻璃基板上施加驅(qū)動電壓來控制液晶層的液晶分子的旋轉(zhuǎn),將背光模組的光線折射出來產(chǎn)生畫面。其中,陣列基板上制備出薄膜晶體管陣列,用于驅(qū)動液晶的旋轉(zhuǎn),控制每個像素的顯示,而彩膜基板上制備出rgb彩色濾光層,用于形成每個像素的色彩。另外,cf基板還設(shè)有黑色矩陣層(blackmatrix,bm)以及柱狀隔墊物(photospacer,ps)層,其中,bm起遮光作用,防止柵極線(gateline)和數(shù)據(jù)線(dateline)處漏光,從而提高液晶顯示面板的對比度,以達到較佳的顯示效果,而ps用于支撐上下基板,起維持盒厚的作用。

      coa(color-filteronarray)技術(shù)是一種將彩色濾光層即紅(r)、綠(g)、藍(b)色阻直接制作在陣列基板上的集成技術(shù),因為coa顯示面板中rgb色阻制作在tft陣列基板之上,不存在彩膜基板與陣列基板的對位問題,所以可以降低顯示面板制備過程中對盒制程的難度,避免了對盒時的誤差,因此黑色矩陣可以設(shè)計為窄線寬,可以提高像素的開口率。

      目前在coa技術(shù)之上,dbs(即datalinebmless)的像素設(shè)計也越來越多的被采用,它是在數(shù)據(jù)線上方覆蓋ito(即氧化銦錫)的走線,ito走線的寬度略寬于數(shù)據(jù)線,這些ito走線連接com即公共電極,在面板正常工作時,這些itocom電極形成的電場可以使液晶分子保持不偏轉(zhuǎn)的狀態(tài),從而起到遮光的目的。而且這樣設(shè)計的優(yōu)勢還在于這些遮光的ito走線位于陣列基板上,當(dāng)面板在做成曲面顯示器發(fā)生彎曲之后,即使上下基板發(fā)生了錯位,itocom走線的位置相對數(shù)據(jù)線也是不會變化的,不存在漏光的問題,因此,該dbs技術(shù)被廣泛應(yīng)用于平曲共用產(chǎn)品設(shè)計當(dāng)中。

      而對于大尺寸的平曲共用顯示面板,通常還會采用rg直接拼接技術(shù)制作彩色濾光層中的r色阻單元和g色阻單元,即采用分區(qū)分次曝光的方式制作得到拼接的彩色濾光層。然而曝光機機臺的尺寸(cd)穩(wěn)定性在3um以內(nèi),那么對于先后進行的兩次曝光,即使曝光參數(shù)設(shè)置的完全相同,所得到的曝光效果仍會存在差異,這在制程上是不可控的。如圖1所示,一現(xiàn)有大尺寸平曲共用顯示面板中,陣列基板上的彩色濾光層100通過采用rg直接拼接技術(shù)分成左右兩區(qū)制作而成,由于左區(qū)中的r色阻單元101和右區(qū)中的r色阻單元101’非同次曝光形成,左區(qū)中的g色阻單元102和右區(qū)中的g色阻單元102’非同次曝光形成,因此,左區(qū)中相鄰r色阻單元101和g色阻單元102之間重疊區(qū)域的寬度,以及該重疊區(qū)域與下方相應(yīng)數(shù)據(jù)線200之間的相對位置,與右區(qū)中相鄰r色阻單元101’和g色阻單元102’之間重疊區(qū)域的寬度,以及該重疊區(qū)域與下方數(shù)據(jù)線200之間的相對位置,均會存在一定的差異,而數(shù)據(jù)線200上方的itocom電極300,雖然可以使數(shù)據(jù)線200上方的液晶不翻轉(zhuǎn)而使顯示面板呈現(xiàn)暗態(tài)效果,但是由于ito為透明導(dǎo)電材料,因此并不能夠完全遮光,從而一些透射光與反射光仍可從數(shù)據(jù)線200上方射出,從而將左右兩區(qū)的上述差異顯現(xiàn)出來,導(dǎo)致顯示面板在進行顯示時出現(xiàn)拼接mura,顯示面板的左右兩側(cè)出現(xiàn)色偏,在視覺上形成差異而分屏,尤其在彩色濾光層100的曝光拼接處該拼接mura明顯可見。



      技術(shù)實現(xiàn)要素:

      本發(fā)明的目的在于提供一種陣列基板,其彩色濾光層采用直接拼接技術(shù)曝光制得,通過使用豎向黑色遮光條代替透明的dbsitocom線,避免液晶顯示面板在對應(yīng)彩色濾光層的不同曝光拼接區(qū)上出現(xiàn)色偏,防止拼接mura的產(chǎn)生。

      本發(fā)明的目的在于提供一種液晶顯示面板,采用上述的陣列基板,避免液晶顯示面板在對應(yīng)彩色濾光層的不同曝光拼接區(qū)上出現(xiàn)色偏,防止拼接mura的產(chǎn)生。

      為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明首先提供一種陣列基板,包括襯底基板、設(shè)于所述襯底基板上的tft層、設(shè)于所述tft層上的彩色濾光層以及設(shè)于所述彩色濾光層上的黑色遮光層;

      所述tft層包括多條并列設(shè)置的數(shù)據(jù)線;

      所述彩色濾光層包括陣列排布的數(shù)個紅色色阻單元、數(shù)個綠色色阻單元以及數(shù)個藍色色阻單元,所述紅色色阻單元、綠色色阻單元及藍色色阻單元的邊緣兩兩疊加在所述數(shù)據(jù)線的上方而構(gòu)成色阻疊加區(qū)域;

      所述彩色濾光層沿直線劃分為至少兩曝光拼接區(qū),即相鄰兩曝光拼接區(qū)之間的拼接線為直線,所述紅色色阻單元、綠色色阻單元及藍色色阻單元中的至少一種按不同曝光拼接區(qū)分次曝光制得;

      所述黑色遮光層包括多條分別對應(yīng)位于所述多條數(shù)據(jù)線的上方并將多條數(shù)據(jù)線及其上方對應(yīng)的色阻疊加區(qū)域遮住的豎向黑色遮光條。

      所述的陣列基板,還包括設(shè)于所述彩色濾光層上方的數(shù)個間隔物。

      所述彩色濾光層中,所述紅色色阻單元及綠色色阻單元按不同曝光拼接區(qū)分次曝光制得。

      所述彩色濾光層中,所述藍色色阻單元采用馬賽克拼接技術(shù)曝光制得。

      所述彩色濾光層沿直線劃分為兩曝光拼接區(qū),該兩曝光拼接區(qū)之間的拼接線與所述數(shù)據(jù)線的延伸方向相平行。

      所述黑色遮光層的材料為黑色光阻材料。

      本發(fā)明還提供一種液晶顯示面板,包括上述的陣列基板、與所述陣列基板相對設(shè)置的對置基板以及設(shè)于所述陣列基板和對置基板之間的液晶層。

      所述tft層還包括多條與所述數(shù)據(jù)線相垂直交錯的柵極掃描線。

      所述黑色遮光層還包括多條分別對應(yīng)位于所述多條柵極掃描線的上方的橫向黑色遮光條。

      所述對置基板包括對置黑色遮光層,所述對置黑色遮光層包括多條分別對應(yīng)位于所述多條柵極掃描線的上方的橫向黑色遮光條。

      本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明提供的一種陣列基板,包括襯底基板、tft層、彩色濾光層以及黑色遮光層,所述彩色濾光層中的紅色色阻單元、綠色色阻單元及藍色色阻單元中的至少一種按不同曝光拼接區(qū)分次曝光制得,即采用直接拼接技術(shù)曝光制得,所述黑色遮光層包括多條分別對應(yīng)位于多條數(shù)據(jù)線的上方的豎向黑色遮光條;本發(fā)明通過使用豎向黑色遮光條代替現(xiàn)有技術(shù)中的透明dbsitocom線,能有效遮蓋透射光與反射光下所顯示的不同曝光拼接區(qū)上色阻疊加區(qū)域的差異及色阻疊加區(qū)域與下方數(shù)據(jù)線相對位置的差異,從而避免大尺寸的液晶顯示面板在對應(yīng)彩色濾光層的不同曝光拼接區(qū)上出現(xiàn)色偏,防止拼接mura的產(chǎn)生。本發(fā)明的液晶顯示面板,采用上述的陣列基板,可有效避免大尺寸的液晶顯示面板在對應(yīng)彩色濾光層的不同曝光拼接區(qū)上出現(xiàn)色偏,防止拼接mura的產(chǎn)生。

      附圖說明

      為了能更進一步了解本發(fā)明的特征以及技術(shù)內(nèi)容,請參閱以下有關(guān)本發(fā)明的詳細說明與附圖,然而附圖僅提供參考與說明用,并非用來對本發(fā)明加以限制。

      附圖中,

      圖1為現(xiàn)有一種采用rg直接拼接技術(shù)及dbs技術(shù)的陣列基板出現(xiàn)拼接mura的示意圖;

      圖2為本發(fā)明的陣列基板在不同曝光拼接區(qū)中兩相鄰色阻單元疊加處的結(jié)構(gòu)示意圖;

      圖3為本發(fā)明的液晶顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖。

      具體實施方式

      為更進一步闡述本發(fā)明所采取的技術(shù)手段及其效果,以下結(jié)合本發(fā)明的優(yōu)選實施例及其附圖進行詳細描述。

      請參閱圖2,本發(fā)明提供一種陣列基板,包括襯底基板11、設(shè)于所述襯底基板11上的tft層12、設(shè)于所述tft層12上的彩色濾光層13以及設(shè)于所述彩色濾光層13上的黑色遮光層14;

      所述tft層12包括多條并列設(shè)置的數(shù)據(jù)線121以及多條與所述數(shù)據(jù)線121相垂直交錯的柵極掃描線(未圖示);

      所述彩色濾光層13包括陣列排布的數(shù)個紅色色阻單元131、數(shù)個綠色色阻單元132以及數(shù)個藍色色阻單元133,所述紅色色阻單元131、綠色色阻單元132及藍色色阻單元133的邊緣兩兩疊加在所述數(shù)據(jù)線121的上方而構(gòu)成色阻疊加區(qū)域;

      所述彩色濾光層13沿直線劃分為至少兩曝光拼接區(qū),即相鄰兩曝光拼接區(qū)之間的拼接線為直線,所述紅色色阻單元131、綠色色阻單元132及藍色色阻單元133中的至少一種按不同曝光拼接區(qū)分次曝光制得,即采用直接拼接技術(shù)曝光制得;

      所述黑色遮光層14包括多條分別對應(yīng)位于所述多條數(shù)據(jù)線121的上方并將多條數(shù)據(jù)線121及其上方對應(yīng)的色阻疊加區(qū)域遮住的豎向黑色遮光條141。

      本發(fā)明的陣列基板,通過使用豎向黑色遮光條141代替現(xiàn)有技術(shù)中的透明dbsitocom線,能有效遮蓋透射光與反射光下所顯示的不同曝光拼接區(qū)上色阻疊加區(qū)域的差異及色阻疊加區(qū)域與下方數(shù)據(jù)線121相對位置的差異,從而避免大尺寸的采用直接拼接技術(shù)的液晶顯示面板在對應(yīng)彩色濾光層13的不同曝光拼接區(qū)上出現(xiàn)色偏,防止拼接mura的產(chǎn)生。

      具體地,所述陣列基板用于平曲共用的液晶顯示面板,所述襯底基板11為柔性基板。

      進一步地,所述陣列基板采用poa(psonarray)技術(shù),還包括設(shè)于所述彩色濾光層13上方的數(shù)個間隔物(未圖示),所述間隔物為錐形柱狀體;由于液晶顯示面板中,陣列基板的地形相對復(fù)雜,通過采用poa技術(shù),可以防止液晶顯示面板在彎曲過程中間隔物在液晶顯示面板內(nèi)的高度發(fā)生改變。

      具體地,所述彩色濾光層13中,所述紅色色阻單元131及綠色色阻單元132按不同曝光拼接區(qū)分次曝光制得,即所述紅色色阻單元131及綠色色阻單元132采用直接拼接技術(shù)曝光制得;而所述彩色濾光層13中的藍色色阻單元133采用馬賽克(mosaic)拼接技術(shù)曝光制得。

      具體地,所述彩色濾光層13沿直線劃分為兩曝光拼接區(qū),分別為左區(qū)和右區(qū),該兩曝光拼接區(qū)之間的拼接線與所述數(shù)據(jù)線121的延伸方向相平行。

      具體地,所述黑色遮光層14的材料為黑色光阻材料。

      具體地,所述黑色遮光層14中豎向黑色遮光條141的設(shè)計值需根據(jù)色阻疊加區(qū)域及數(shù)據(jù)線121的制程波動范圍而定。

      具體地,不同曝光拼接區(qū)內(nèi)色阻疊加區(qū)域的差異需控制在1.2μm以內(nèi)。

      請參閱圖3,基于上述的陣列基板,本發(fā)明還提供一種液晶顯示面板,包括如上所述的陣列基板10、與所述陣列基板10相對設(shè)置的對置基板20以及設(shè)于所述陣列基板10和對置基板20之間的液晶層30。

      具體地,為遮擋液晶顯示面板在柵極掃描線處的漏光,所述黑色遮光層14還可包括多條分別對應(yīng)位于所述多條柵極掃描線的上方的橫向黑色遮光條(未圖示),從而該黑色遮光層14構(gòu)成黑色矩陣層;或者,所述對置基板20包括對置黑色遮光層(未圖示),所述對置黑色遮光層包括多條分別對應(yīng)位于所述多條柵極掃描線的上方的橫向黑色遮光條,以遮擋液晶顯示面板在柵極掃描線處的漏光。

      本發(fā)明的液晶顯示面板,通過使用豎向黑色遮光條141代替現(xiàn)有技術(shù)中陣列基板上的透明dbsitocom線,能有效遮蓋透射光與反射光下所顯示的不同曝光拼接區(qū)上色阻疊加區(qū)域的差異及色阻疊加區(qū)域與下方數(shù)據(jù)線121相對位置的差異,從而避免大尺寸的采用直接拼接技術(shù)的液晶顯示面板在對應(yīng)彩色濾光層13的不同曝光拼接區(qū)上出現(xiàn)色偏,防止拼接mura的產(chǎn)生。

      具體地,所述液晶顯示面板為平曲共用液晶顯示面板。

      綜上所述,本發(fā)明的陣列基板,包括襯底基板、tft層、彩色濾光層以及黑色遮光層,所述彩色濾光層中的紅色色阻單元、綠色色阻單元及藍色色阻單元中的至少一種按不同曝光拼接區(qū)分次曝光制得,即采用直接拼接技術(shù)曝光制得,所述黑色遮光層包括多條分別對應(yīng)位于多條數(shù)據(jù)線的上方的豎向黑色遮光條;本發(fā)明通過使用豎向黑色遮光條代替現(xiàn)有技術(shù)中的透明dbsitocom線,能有效遮蓋透射光與反射光下所顯示的不同曝光拼接區(qū)上色阻疊加區(qū)的差異及色阻疊加區(qū)域與下方數(shù)據(jù)線相對位置的差異,從而避免大尺寸的液晶顯示面板在對應(yīng)彩色濾光層的不同曝光拼接區(qū)上出現(xiàn)色偏,防止拼接mura的產(chǎn)生。本發(fā)明的液晶顯示面板,采用上述的陣列基板,可有效避免大尺寸的液晶顯示面板在對應(yīng)彩色濾光層的不同曝光拼接區(qū)上出現(xiàn)色偏,防止拼接mura的產(chǎn)生。

      以上所述,對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思作出其他各種相應(yīng)的改變和變形,而所有這些改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明后附的權(quán)利要求的保護范圍。

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