不同示例涉及通過對(duì)母版全息光學(xué)元件(hoe)進(jìn)行復(fù)制來(lái)生產(chǎn)hoe的技術(shù)。特別地，不同示例涉及在復(fù)制期間可變地調(diào)適對(duì)母版hoe的照射的技術(shù)。

背景技術(shù)：

1、hoe在各種應(yīng)用領(lǐng)域中都有使用。例如，hoe可以用于實(shí)現(xiàn)透明屏幕。應(yīng)用領(lǐng)域涉及例如在汽車中的抬頭顯示器中的用途或在鏡子中集成全息光學(xué)元件。hoe用于生成全息圖：為此目的，會(huì)照射hoe；以使得重建了全息圖。

2、一種用于生產(chǎn)hoe的技術(shù)基于母版hoe的使用，在hoe的曝光工藝中使用母版hoe以形成hoe。在這種情況下，母版hoe的載體層(例如光聚合物，其布置在襯底上)沿著要復(fù)制的hoe(以下簡(jiǎn)稱為“副本hoe(replicated?hoe)”)的載體層布置。然后可以通過曝光將母版hoe的衍射結(jié)構(gòu)復(fù)制在副本hoe中。

3、使用母版hoe的復(fù)制來(lái)生產(chǎn)hoe的這種生產(chǎn)方法可以例如使用卷對(duì)卷工藝，其中母版hoe和hoe布置在作為固定元件的相應(yīng)卷筒上，這些卷筒彼此同步地旋轉(zhuǎn)，使得母版hoe的部分區(qū)域在每種情況下沿著副本hoe的對(duì)應(yīng)部分區(qū)域延伸。另一種技術(shù)是平板工藝，其中母版hoe和副本hoe固定在相應(yīng)的平面載體或平坦載體上，使得相應(yīng)載體層的整個(gè)表面沿著彼此延伸。

4、在這樣的生產(chǎn)方法中，母版hoe的載體層和hoe的載體層，在復(fù)制工藝期間的表面形狀由該工藝的技術(shù)邊界條件預(yù)定義。作為示例，在卷對(duì)卷工藝中，母版hoe一維地彎曲；而在平板工藝中，母版hoe以平面方式布置。例如考慮到應(yīng)用領(lǐng)域的邊界條件，表面形狀的這種預(yù)定義使得hoe的生產(chǎn)更加困難，這些hoe傾向在應(yīng)用時(shí)于曝光工藝之后以任意的表面形狀固定。例如考慮到安裝空間有限等，一些應(yīng)用領(lǐng)域可能需要將hoe集成到彎曲表面中。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、需要改進(jìn)的hoe生產(chǎn)方法。特別地，需要實(shí)現(xiàn)hoe在應(yīng)用中的靈活表面形狀的改進(jìn)的生產(chǎn)方法。需要生產(chǎn)高質(zhì)量的hoe。

2、這個(gè)目的通過本專利申請(qǐng)中的獨(dú)立權(quán)利要求的特征來(lái)實(shí)現(xiàn)。本專利申請(qǐng)中的從屬權(quán)利要求的特征定義了實(shí)施例。

3、披露了一種在曝光工藝的背景下通過對(duì)母版hoe進(jìn)行復(fù)制來(lái)生產(chǎn)副本hoe的方法。在這種情況下，在曝光工藝期間，母版hoe的載體層沿著副本hoe的載體層布置。該方法包括對(duì)輻射源進(jìn)行控制，以便在曝光工藝期間將光發(fā)射到母版hoe上，從而使得hoe被曝光。母版hoe被復(fù)制。此外，該方法包括對(duì)定位模塊進(jìn)行控制，以便在曝光工藝期間使沿著光的光束路徑布置的參考點(diǎn)相對(duì)于母版hoe在軌線上移動(dòng)。

4、因此，軌線表示沿著光的光束路徑的點(diǎn)移動(dòng)所沿的路徑。光的光束路徑可以是相對(duì)于該參考點(diǎn)固定的，即，可以通過在參考點(diǎn)處設(shè)置對(duì)應(yīng)的光學(xué)元件而延伸穿過參考點(diǎn)。在不同的時(shí)間點(diǎn)，參考點(diǎn)位于沿著軌線的不同位置處。

5、點(diǎn)光源可以布置在參考點(diǎn)處。光源的發(fā)射器可以布置在參考點(diǎn)處?？商娲兀庠吹陌l(fā)射器可以布置在上游更遠(yuǎn)；并且例如由發(fā)射器發(fā)射的光可以聚焦在參考點(diǎn)處。由發(fā)射器發(fā)射的光可以被準(zhǔn)直。準(zhǔn)直光束路徑可以延伸穿過參考點(diǎn)。

6、因此，參考點(diǎn)可以表示沿著光束路徑的點(diǎn)，在該點(diǎn)處，定位模塊以時(shí)變方式作用于光的光束路徑。光束路徑與參考點(diǎn)相關(guān)聯(lián)并且被引導(dǎo)和/或指向參考點(diǎn)。在參考點(diǎn)處，定位模塊可以使光束路徑例如以時(shí)變方式傾斜和/或偏轉(zhuǎn)和/或平移地偏移和/或旋轉(zhuǎn)。

7、參考點(diǎn)可以布置在輻射源的下游。然而，輻射源也可以布置在參考點(diǎn)處；即，參考點(diǎn)將正好布置在光束路徑的開始處。

8、此外，可以設(shè)置光學(xué)元件，該光學(xué)元件在參考點(diǎn)處以時(shí)不變方式作用于光束路徑；例如，光束路徑可以被擴(kuò)展或準(zhǔn)直。

9、軌線可以是彎曲的(即，在對(duì)應(yīng)設(shè)備的全局坐標(biāo)系中是彎曲的)。軌線可以是直的。

10、軌線可以在平面內(nèi)延伸。軌線也可以在三維空間中延伸。

11、軌線可以包括垂直于母版hoe的載體層且垂直于副本hoe的載體層的分量。

12、輻射源可以發(fā)射例如可見光譜中的光。也可以發(fā)射電磁光譜的紫外或紅外范圍內(nèi)的輻射。輻射源可以是相干激光光源。作為示例，輻射源可以具有一個(gè)或多個(gè)不同波長(zhǎng)的通道。例如，輻射源可以具有3個(gè)通道，例如紅-綠-藍(lán)通道。

13、輻射源可以體現(xiàn)為點(diǎn)源。這意味著發(fā)射器面積特別小。典型的發(fā)射器面積可以具有小于1mm或小于100μm或小于50μm的邊緣尺寸。

14、對(duì)應(yīng)的光學(xué)系統(tǒng)可以用于在母版hoe上形成光的光點(diǎn)。這意味著母版hoe不是大面積地被照射，而是通過使光點(diǎn)移動(dòng)而逐漸地被照射。特別地，光點(diǎn)的移動(dòng)通過參考點(diǎn)在軌線上的移動(dòng)來(lái)實(shí)現(xiàn)。

15、母版hoe可以形成在作為載體層的一部分的光聚合物中。載體層也可以附加地包括襯底。載體層可以是基于膜的?？梢允褂盟^的體積hoe。

16、hoe可以形成在作為對(duì)應(yīng)載體層的一部分的光聚合物中。載體層也可以附加地包括襯底。載體層可以是基于膜的。可以使用所謂的體積hoe。

17、通過復(fù)制，母版hoe的衍射結(jié)構(gòu)可以被復(fù)制在hoe中。為了進(jìn)行復(fù)制，要使hoe曝光。這通常會(huì)引起聚合物的鏈形成。衍射結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)于折射率的局部變化，例如由于在對(duì)應(yīng)層中聚合物的不同鏈長(zhǎng)或不同程度的鏈形成而引起的折射率的局部變化。當(dāng)衍射結(jié)構(gòu)被照射時(shí)，全息圖被重建。在下文中，術(shù)語(yǔ)“曝光(exposure)”或“曝光(expose)”與hoe生成期間母版hoe的復(fù)制相關(guān)地使用；而術(shù)語(yǔ)“照射(illumination)”或“照射(illuminate)”與使用已生產(chǎn)的hoe來(lái)重建全息圖相關(guān)地使用。

18、定位模塊的使用可以在曝光工藝期間實(shí)現(xiàn)光在母版hoe上(并且因此在副本hoe上)的可變?nèi)肷浣?。特別地，可以使光的入射角根據(jù)光的對(duì)應(yīng)光點(diǎn)在母版hoe上的位置而變化。這意味著定位模塊被配置為使輻射源的光的光點(diǎn)在hoe(或母版hoe)的載體層上移動(dòng)。針對(duì)光點(diǎn)的不同位置，實(shí)現(xiàn)不同入射角。這可以例如通過合適的軌線、例如通過合適的曲率實(shí)現(xiàn)?？商娲鼗蚋郊拥?，可以使用合適的掃描模式。通過這樣的技術(shù)實(shí)現(xiàn)的是，補(bǔ)償母版hoe的載體層在曝光工藝期間的曲率，該曲率是基于生產(chǎn)工藝來(lái)預(yù)定義的、并且與預(yù)期應(yīng)用領(lǐng)域中的表面形狀有所偏差。換句話說，因此可以補(bǔ)償母版hoe的載體材料在曝光工藝期間的曲率(其中該曲率是例如相對(duì)于參考坐標(biāo)系來(lái)定義的，該參考坐標(biāo)系是在母版hoe的生產(chǎn)期間由母版hoe的載體材料的形狀定義的)。

19、特別地，定位模塊的使用可以實(shí)現(xiàn)可變的彎曲的軌線(“自由形態(tài)的軌線”)。這意味著，根據(jù)對(duì)定位模塊的控制，可以實(shí)施不同的彎曲的軌線。這可以通過定位模塊的移動(dòng)的對(duì)應(yīng)自由度來(lái)實(shí)現(xiàn)。因此，可以補(bǔ)償母版hoe在曝光工藝期間的不同曲率。

20、根據(jù)定位模塊和相關(guān)聯(lián)的光學(xué)器件的實(shí)施方式，可以設(shè)想到參考點(diǎn)的不同實(shí)施方式。作為示例，參考點(diǎn)可以對(duì)應(yīng)于光沿著光束路徑的焦點(diǎn)，即，光可以在焦點(diǎn)處具有與沿著光束路徑的下游或上游相比更小的光束截面?？商娲鼗蚋郊拥?，參考點(diǎn)可以與透鏡元件或鏡子的布置一致，透鏡元件或鏡子在光入射在母版hoe上之前實(shí)施最后的光束偏轉(zhuǎn)。

21、在一些示例中，借助于定位模塊，除了使參考點(diǎn)沿著例如彎曲的軌線移動(dòng)之外，還可以設(shè)定光束路徑在參考點(diǎn)處的光束偏轉(zhuǎn)。

22、因此，可以實(shí)現(xiàn)使光點(diǎn)移動(dòng)以使hoe曝光的不同掃描模式。

23、在一個(gè)示例中，該光束偏轉(zhuǎn)可以通過參考點(diǎn)的移動(dòng)來(lái)設(shè)定；這意味著：通過使參考點(diǎn)相對(duì)于光源移位，可以實(shí)現(xiàn)不同的光束偏轉(zhuǎn)。換句話說，這意味著，參考點(diǎn)的位置和光束偏轉(zhuǎn)無(wú)法分開設(shè)定。

24、然而，在其他示例中，也可以設(shè)想到，光束偏轉(zhuǎn)可以獨(dú)立于參考點(diǎn)的移動(dòng)來(lái)設(shè)定。為此目的，例如可以將光學(xué)元件(比如透鏡元件或偏轉(zhuǎn)鏡或棱鏡)以可傾斜的方式布置在參考點(diǎn)處，以便以此方式使光束路徑在沿著彎曲的軌線的參考點(diǎn)處相對(duì)于母版hoe的出射角改變。

25、涉及光束路徑相對(duì)于參考點(diǎn)的取向的該附加自由度使得可以在曝光工藝期間進(jìn)一步使光在母版hoe上的入射角變化?？梢詫?shí)施靈活的掃描模式。

26、作為示例，光束路徑在參考點(diǎn)處的出射角的這種變化可以借助于定位模塊逐步地實(shí)現(xiàn)。可以使鏡子逐步地傾斜?？梢酝ㄟ^使用對(duì)應(yīng)的機(jī)動(dòng)化關(guān)節(jié)進(jìn)行傾斜來(lái)改變光束路徑在參考點(diǎn)處的出射角。

27、借助于定位模塊引起的光束路徑在參考點(diǎn)處的出射角的這種變化可以與光束路徑的掃描移動(dòng)疊加。例如，參考點(diǎn)可以被定義為掃描移動(dòng)的中心。掃描移動(dòng)可以對(duì)應(yīng)于圍繞掃描中點(diǎn)的周期性移動(dòng)。中點(diǎn)可以對(duì)應(yīng)于參考點(diǎn)。因此，可以與掃描移動(dòng)相關(guān)地定義掃描頻率和掃描幅度。

28、作為示例，該方法還可以包括對(duì)掃描鏡進(jìn)行控制，以便在曝光工藝期間使光相對(duì)于母版hoe掃描。

29、掃描鏡的使用使得可以使光點(diǎn)在母版hoe的擴(kuò)展區(qū)域上掃描，以便在曝光工藝的背景下以此方式照射母版hoe的所有區(qū)域。為此目的來(lái)使用掃描模式。

30、一般來(lái)說，在曝光工藝內(nèi)累積的局部輻照度(以例如瓦特/平方米表示)可以根據(jù)在母版hoe上的位置而變化，變化不超過正負(fù)20％、可選地不超過正負(fù)5％。這同樣可以對(duì)應(yīng)地適用于光點(diǎn)在母版hoe的不同位置上的劑量以及停留時(shí)長(zhǎng)。

31、特別地，在曝光工藝期間，光的光點(diǎn)在母版hoe上掃描時(shí)的掃描方向可以具有與光的光點(diǎn)在母版hoe上的移動(dòng)方向正交的分量，該移動(dòng)方向由參考點(diǎn)沿著彎曲的軌線的移動(dòng)引起。

32、換句話說，由于參考點(diǎn)沿著例如彎曲的軌線的移動(dòng)，光的光點(diǎn)可以在母版hoe上主要從左向右(在任意定義的參考系中)移動(dòng)；而由于掃描，光的光點(diǎn)在母版hoe上主要從上向下移動(dòng)。因此，可以獲得在曝光工藝內(nèi)累積的基本上均勻的輻照或曝光；然而，同時(shí)，可以在曝光工藝期間和在隨后的應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)對(duì)hoe的載體層的不同表面形狀的靈活補(bǔ)償。

33、借助于首先沿著例如彎曲的軌線的移動(dòng)(以及可選地出射角借助于定位模塊的改變)和其次掃描的組合，光在母版hoe上的入射角可以因此靈活地變化。此外，可以在曝光工藝期間在母版hoe的不同區(qū)域中獲得盡可能均勻的累積輻照。相應(yīng)地，可以靈活地調(diào)適掃描幅度和/或掃描頻率。作為示例，掃描幅度可以被調(diào)適為使得光的光點(diǎn)在掃描時(shí)在每種情況下從母版hoe的一個(gè)邊緣移動(dòng)到另一個(gè)邊緣。這例如對(duì)應(yīng)于利用掃描線的笛卡爾掃描模式。與可變的掃描幅度配合，掃描頻率可以被調(diào)適為使得光點(diǎn)沿著掃描線在不同區(qū)域中的停留持續(xù)時(shí)間獨(dú)立于掃描幅度而保持恒定；因此，可以在曝光工藝期間在母版hoe的不同區(qū)域中實(shí)現(xiàn)均勻的累積輻照。

34、在一個(gè)簡(jiǎn)單的變型中，可以設(shè)想到，母版hoe在曝光工藝期間被布置成使得掃描頻率和可選地掃描幅度可以在曝光工藝期間保持恒定。作為示例，母版hoe可以布置成具有特定的固定橫向范圍，使得通過使光點(diǎn)以固定掃描幅度和掃描頻率掃描來(lái)掃過該固定橫向范圍。

35、掃描鏡可以布置在參考點(diǎn)處。然而，也可以設(shè)想到，掃描鏡相對(duì)于參考點(diǎn)偏移地布置，特別是沿著光束路徑的上游布置。可以設(shè)想到，掃描鏡布置在光束路徑的焦點(diǎn)處。如果掃描鏡布置在光束路徑的焦點(diǎn)處，則相對(duì)小的鏡面可能就足夠了；這能夠?qū)崿F(xiàn)更高的掃描頻率，因?yàn)橐苿?dòng)的質(zhì)量以及因此所需的力或動(dòng)態(tài)變形減小。

36、可以設(shè)想到掃描鏡的各種實(shí)施方式。作為示例，可以使用具有振鏡驅(qū)動(dòng)器的掃描鏡，即所謂的振鏡。也可以使用以微機(jī)電(mems)形式實(shí)施的鏡子。可以使用多邊形掃描鏡。也可以使用聲光偏轉(zhuǎn)器。

37、掃描鏡可以具有一個(gè)或多個(gè)掃描移動(dòng)自由度。例如，可以實(shí)現(xiàn)一維掃描或二維掃描。

38、掃描鏡可以是定位模塊的二維可傾斜掃描鏡。在這種場(chǎng)景中，掃描鏡可以被控制成以與掃描疊加的方式附加地改變光束路徑在參考點(diǎn)處相對(duì)于母版hoe的出射角。與掃描相比，出射角的這種改變可以特別緩慢地發(fā)生。

39、上面已經(jīng)描述了用于當(dāng)對(duì)應(yīng)的載體材料彼此相鄰地布置時(shí)通過照射母版hoe來(lái)使hoe曝光的技術(shù)。

40、在不同示例中，該方法還可以包括在另一(上游)曝光工藝中生產(chǎn)母版hoe。在用于生產(chǎn)母版hoe的這種另一曝光工藝中，母版hoe的載體層通常以與副本hoe在應(yīng)用場(chǎng)景中的表面形狀相對(duì)應(yīng)的表面形狀固定。因此，母版hoe的載體層在另一曝光工藝期間可以具有第一表面形狀，該第一表面形狀不同于該載體層在曝光工藝期間的第二表面形狀。

41、在此方面，例如可以設(shè)想到，第一表面形狀(在使母版hoe曝光以生產(chǎn)母版hoe期間)對(duì)應(yīng)于載體層的一維曲率；而第二表面形狀(在照射母版hoe以使副本hoe曝光而生產(chǎn)出副本hoe期間)對(duì)應(yīng)于母版hoe的載體層的平面實(shí)施例(即，沒有曲率)。這對(duì)于平板復(fù)制工藝是特別可能的。

42、在另一示例中，可以設(shè)想到，第一表面形狀(在使母版hoe曝光以生產(chǎn)母版hoe期間)是平面的；而第二表面(在照射母版hoe以使副本hoe曝光而生產(chǎn)出副本hoe期間)對(duì)應(yīng)于載體層的一維曲率。這例如在卷對(duì)卷復(fù)制工藝中是可能的。

43、這意味著，在這樣的情況下，僅需補(bǔ)償載體層的曲率的一維改變，通過在照射母版hoe以使副本hoe曝光而生產(chǎn)出副本hoe期間合適地選擇例如彎曲的軌線和/或光的入射角來(lái)補(bǔ)償。

44、在這種示例中，由掃描鏡引起的掃描移動(dòng)的掃描方向可以垂直于一維曲率的軸線延伸。

45、一般來(lái)說，并非在所有變型中都需要在曝光工藝期間使用掃描鏡進(jìn)行掃描。作為示例，在一些場(chǎng)景中，可以設(shè)想到，一個(gè)或多個(gè)光學(xué)元件(例如，透鏡元件和/或例如分色鏡的鏡子)布置在沿著光束路徑的參考點(diǎn)處，該一個(gè)或多個(gè)光學(xué)元件使得光的光點(diǎn)在母版hoe上擴(kuò)展(即，相對(duì)于不存在至少一個(gè)透鏡元件的情況擴(kuò)展)。作為示例，這種擴(kuò)展可以沿著一條軸線一維地發(fā)生，該軸線例如在另一實(shí)施方式場(chǎng)景中會(huì)被掃描到。作為示例，光點(diǎn)的這種擴(kuò)展可以以光點(diǎn)覆蓋母版hoe的整個(gè)橫向范圍的方式發(fā)生。

46、在一些示例中，也可以設(shè)想到如上所述的至少一個(gè)擴(kuò)展光學(xué)元件與掃描鏡的組合。

47、原則上，可以設(shè)想到用于定位模塊的各種實(shí)施方式。例如，定位模塊可以包括具有多條可調(diào)節(jié)軸線的機(jī)械臂。也可以設(shè)想到，定位模塊包括多軸光學(xué)線性調(diào)節(jié)臺(tái)。可選地，調(diào)節(jié)臺(tái)也可以具有旋轉(zhuǎn)自由度。通常，定位模塊可以包括一個(gè)或多個(gè)致動(dòng)器，該一個(gè)或多個(gè)致動(dòng)器解決定位模塊的調(diào)節(jié)的不同自由度，以便以此方式實(shí)現(xiàn)彎曲的軌線和/或出射角的改變。

48、可以以計(jì)算機(jī)實(shí)施的方式控制定位模塊。

49、作為示例，可以基于控制數(shù)據(jù)來(lái)控制定位模塊，該控制數(shù)據(jù)包括例如彎曲的軌線和/或可選地還確定光在參考點(diǎn)處相對(duì)于母版hoe的出射角。

50、借助于控制數(shù)據(jù)，可以確定光在母版hoe上的入射角。

51、借助于控制數(shù)據(jù)，根據(jù)光點(diǎn)在載體層上的位置來(lái)確定為了對(duì)母版hoe進(jìn)行復(fù)制而在使hoe曝光期間使用的掃描模式或光的入射角。

52、在一些示例中，還可以設(shè)想到，控制數(shù)據(jù)包括光在母版hoe上的入射角，即，根據(jù)光點(diǎn)在載體層上的位置來(lái)指定；然后，光在母版hoe上的入射角可以借助于對(duì)應(yīng)邏輯(通常取決于定位模塊的架構(gòu))被轉(zhuǎn)化成定位模塊的合適移動(dòng)。因此，這意味著，控制數(shù)據(jù)可以包括/指示光在母版hoe上的入射角。

53、在一些示例中，該方法還可以包括計(jì)算控制數(shù)據(jù)。例如，計(jì)算控制數(shù)據(jù)可以基于母版hoe的載體材料在用于使母版hoe曝光的另一曝光工藝期間的第一表面形狀，并且基于母版hoe的載體材料在(用于使副本hoe曝光的)曝光工藝期間的第二表面形狀，并且進(jìn)一步基于在另一曝光工藝期間光的根據(jù)在母版hoe上的位置而變化的入射角。

54、在計(jì)算控制數(shù)據(jù)時(shí)，也可以考慮稍后在通過照射hoe來(lái)重建全息圖時(shí)會(huì)使用的光源的發(fā)射器幾何形狀。以此方式，例如，在重建全息圖時(shí)也可以使用面光源來(lái)照射hoe，而在對(duì)母版hoe進(jìn)行復(fù)制時(shí)使用非面光源(或通常具有不同發(fā)射器幾何形狀的光源)。

55、在計(jì)算控制數(shù)據(jù)時(shí)，可以考慮母版hoe的衍射結(jié)構(gòu)由于表面形狀的改變而產(chǎn)生的變形。衍射結(jié)構(gòu)的變形會(huì)致使衍射圖案發(fā)生改變。在用于使副本hoe曝光的曝光工藝期間，母版hoe的這種改變的衍射結(jié)構(gòu)被復(fù)制到副本hoe。這意味著，如果副本hoe在曝光工藝之后相對(duì)于不同的表面形狀(通常是在母版hoe的曝光期間存在的第一表面形狀)固定，則存在表面形狀的反向改變以及衍射圖案的反向改變。副本hoe然后可以以靈活表面形狀被照射?？梢允褂酶鞣N光源用于照射，例如包括擴(kuò)展光源。

56、為了補(bǔ)償表面形狀的這種改變(或表面形狀的反向改變)，在使副本hoe曝光期間，光的入射角可以被對(duì)應(yīng)地調(diào)適。這合適地存儲(chǔ)在控制數(shù)據(jù)中。

57、通常，控制數(shù)據(jù)的這種計(jì)算可以例如在母版hoe的生產(chǎn)期間進(jìn)行。然后可以將控制數(shù)據(jù)存儲(chǔ)在對(duì)應(yīng)的數(shù)據(jù)庫(kù)或查找表中。

58、在計(jì)算控制數(shù)據(jù)時(shí)可以考慮各種輸入變量。作為示例，可以考慮hoe在曝光期間的表面形狀以及hoe在照射以重建全息圖期間的表面形狀。也可以考慮在照射期間的照射幾何形狀或發(fā)射器幾何形狀。這意味著，在重建全息圖時(shí)，可以考慮用于照射的光源相對(duì)于hoe的布置；并且也可以考慮光源的范圍。可以預(yù)期并校正像差，例如由于材料膨脹等引起的像差。

59、可以設(shè)想到，根據(jù)所使用的母版hoe從控制數(shù)據(jù)查找表中選擇控制數(shù)據(jù)。在這種情況下，控制數(shù)據(jù)查找表可以包括與不同的母版hoe相關(guān)聯(lián)的多個(gè)候選控制數(shù)據(jù)。在這種場(chǎng)景中，可以根據(jù)母版hoe使用不同控制數(shù)據(jù)，因此通常也根據(jù)副本hoe的預(yù)期表面形狀使用不同控制數(shù)據(jù)。

60、因此，上文已經(jīng)描述了用于生產(chǎn)副本hoe的技術(shù)。在用于對(duì)母版hoe進(jìn)行復(fù)制的曝光工藝之后，副本hoe的載體層可以然后以與在針對(duì)副本hoe的曝光工藝期間該載體層的表面形狀不同的表面形狀固定。

61、一種計(jì)算機(jī)程序包括可以由處理器加載并執(zhí)行的程序代碼。當(dāng)處理器執(zhí)行程序代碼時(shí)，這使得處理器執(zhí)行用于在曝光工藝的背景下通過對(duì)母版hoe進(jìn)行復(fù)制來(lái)生產(chǎn)hoe的方法。在曝光工藝期間，母版hoe的載體層沿著hoe的載體層布置。該方法包括對(duì)輻射源進(jìn)行控制，以便在曝光工藝期間將光發(fā)射到母版hoe上，從而使得hoe被曝光。此外，該方法包括對(duì)定位模塊進(jìn)行控制，以便在曝光工藝期間使沿著光的光束路徑布置的參考點(diǎn)相對(duì)于母版hoe在彎曲的軌線上移動(dòng)。

62、一種數(shù)據(jù)處理單元包括至少一個(gè)處理器以及存儲(chǔ)器。該至少一個(gè)處理器被配置為從存儲(chǔ)器加載并執(zhí)行程序代碼。這使得該至少一個(gè)處理器執(zhí)行用于在曝光工藝的背景下通過對(duì)母版hoe進(jìn)行復(fù)制來(lái)生產(chǎn)hoe的方法。在曝光工藝期間，母版hoe的載體層沿著hoe的載體層布置。該方法包括對(duì)輻射源進(jìn)行控制，以便在曝光工藝期間將光發(fā)射到母版hoe上，從而使得hoe被曝光。此外，該方法包括對(duì)定位模塊進(jìn)行控制，以便在曝光工藝期間使沿著光的光束路徑布置的參考點(diǎn)相對(duì)于母版hoe在彎曲的軌線上移動(dòng)。

63、一種用于生產(chǎn)hoe的裝置(也可以被稱為曝光系統(tǒng))包括至少一個(gè)固定元件，在曝光工藝期間，母版hoe的載體層和hoe的載體層可以布置在該至少一個(gè)固定元件上，以使得這些載體層至少局部地沿著彼此延伸。該裝置還包括輻射源，該輻射源被配置為在曝光工藝期間將光發(fā)射到母版hoe上，從而使得hoe被曝光。此外，該裝置還包括定位模塊，該定位模塊被配置為在曝光工藝期間使光的光束路徑相對(duì)于母版hoe的載體層和hoe的載體層移動(dòng)。

64、一種數(shù)據(jù)處理單元包括至少一個(gè)處理器以及存儲(chǔ)器。該至少一個(gè)處理器被配置為從存儲(chǔ)器加載并執(zhí)行程序代碼。基于程序代碼，該至少一個(gè)處理器還被配置為計(jì)算用于控制用于對(duì)母版hoe進(jìn)行復(fù)制或用于使hoe曝光的裝置的控制數(shù)據(jù)。

65、還披露了可以由至少一個(gè)處理器執(zhí)行的對(duì)應(yīng)的程序代碼。當(dāng)該至少一個(gè)處理器執(zhí)行程序代碼時(shí)，這使得該至少一個(gè)處理器計(jì)算用于控制用于對(duì)母版hoe進(jìn)行復(fù)制或用于使hoe曝光的裝置的控制數(shù)據(jù)。

66、在不脫離本發(fā)明的保護(hù)范圍的情況下，上文闡述的特征和下文描述的特征不僅可以以明確闡述的對(duì)應(yīng)組合方式使用，而且可以以另外組合方式使用、或單獨(dú)使用。作為示例，上面已經(jīng)描述了與用于通過對(duì)母版hoe進(jìn)行復(fù)制來(lái)生產(chǎn)hoe的方法相關(guān)的技術(shù)。對(duì)應(yīng)的方法和技術(shù)可以由如上所述的裝置或曝光系統(tǒng)來(lái)實(shí)施。此外，上面已經(jīng)描述了與使用控制數(shù)據(jù)來(lái)控制這種裝置的一個(gè)或多個(gè)部件相關(guān)的技術(shù)。對(duì)應(yīng)的技術(shù)可以與數(shù)據(jù)處理單元相結(jié)合，該數(shù)據(jù)處理單元被配置為用于計(jì)算對(duì)應(yīng)的控制數(shù)據(jù)。