專利名稱:用于工業(yè)射線照相術(shù)的新產(chǎn)品的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種為高能電離輻射曝光而設(shè)計(jì)的鹵化銀射線照相術(shù)產(chǎn)品、一種新型工業(yè)射線照相術(shù)系統(tǒng),和一種得到工業(yè)射線照相圖像的方法。更具體地說,本發(fā)明涉及一種具有提高了潛像保持能力和更高感光速率的用于高能工業(yè)射線照相術(shù)的產(chǎn)品。
用于由例如玻璃、紙、木材或金屬制成的物品的缺損的檢查和分析的工業(yè)射線照相術(shù)是無破壞性的方法。該方法廣泛用于航空工業(yè)、核工業(yè)和石油工業(yè),用于飛機(jī)和核反應(yīng)堆部件和管線中的物料結(jié)構(gòu)和焊縫的缺損的探測(cè)。
該方法包括使含有鹵化銀乳液的射線照相術(shù)產(chǎn)品進(jìn)行高能電離輻射曝光,一般是X射線或γ射線。射線照相乳液對(duì)X射線或γ射線的感光度取決于通過鹵化銀顆粒對(duì)這些射線部分的吸收,造成電子二次發(fā)射,從而形成內(nèi)部潛像。該射線照相產(chǎn)品接著進(jìn)行顯影和定影。
與通過再放射可見光的發(fā)光屏曝光的醫(yī)用放射照相膠片不同,用于工業(yè)射線照相術(shù)的膠片不需要對(duì)可見光感光,因此一般沒有顏色感光。用于工業(yè)射線照相術(shù)的膠片既可以直接對(duì)電離輻射曝光,也可以通過強(qiáng)化電離輻射的屏曝光。這些強(qiáng)化屏一般由金屬制造,增加了可以通過鹵化銀顆粒吸收的電離輻射的比率。
用于工業(yè)射線照相術(shù)的產(chǎn)品一般使用主要由粗顆粒(立方體的或其它固體形狀)制得的鹵化銀乳液以吸收盡可能多的穿過乳液層的電離輻射。
還有公知的用于工業(yè)射線照相術(shù)的膠片包括由特殊的板狀顆粒制得的乳液,例如它們公開于例如US專利4883748或?qū)@暾?qǐng)EP757286。當(dāng)包含板狀顆粒乳液的工業(yè)射線照相術(shù)產(chǎn)品進(jìn)行電離輻射曝光時(shí),潛像的保持能力被減弱。
本發(fā)明的目的是提供一種用于工業(yè)射線照相術(shù)的新產(chǎn)品,其中通過電離輻射曝光得到的潛像的保持能力得以改善。本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種改善射線照相感光度的工業(yè)射線照相術(shù)產(chǎn)品。
通過本發(fā)明這些目的和其它目的可以實(shí)現(xiàn),其中涉及為能量至少是40KeV電離輻射曝光而設(shè)計(jì)的一種無色-感光射線照相術(shù)產(chǎn)品,含有至少50mg/dm2的銀,包含涂敷在具有鹵化銀乳液層的其至少一個(gè)側(cè)面上的支撐,該鹵化銀乳液層中至少50%的顆粒是板狀顆粒,且其至少含有0.05mmol/molAg的下式化合物
其中R1和R2各自表示氫原子、包含1至5個(gè)碳原子的取代的或非取代的烷基,羥基或芐基,且R3和R4各自表示氫原子或包含1至5個(gè)碳原子的烷基,或共同表示構(gòu)成4至6原子構(gòu)成的取代的或非取代的雜環(huán)的必需的原子。
本發(fā)明還涉及一種以工業(yè)射線照相術(shù)產(chǎn)品形成圖像的方法,包括用能量至少是40KeV的電離輻射對(duì)照相產(chǎn)品進(jìn)行曝光以形成潛像,接著進(jìn)行顯影,以形成射線照相圖像。
在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案中,射線照相術(shù)產(chǎn)品被曝光于能量范圍在40KeV至20MeV內(nèi)的射線中。
特別是這種新射線照相術(shù)產(chǎn)品出乎意料地顯示出由電離輻射曝光得到的改善了的潛像保持能力。本發(fā)明的產(chǎn)品也顯示出在能量大于或等于400KeV的電離輻射下曝光,感光速率變得更快。
一種或更多種化合物(Ⅰ)可以加入進(jìn)本發(fā)明的射線照相術(shù)產(chǎn)品中。
優(yōu)選地,加入化合物(Ⅰ)的量是0.1mmol/mol至0.5mmol/molAg的范圍。
在本發(fā)明的范圍內(nèi),R1和R2可以各自是直鏈或支鏈的烷基。R1和R2可以是甲基、乙基、丙基、丁基或戊基,優(yōu)選甲基。在一個(gè)具體的實(shí)施方案中,R1是氫原子或羥基,而R2是烷基,優(yōu)選甲基。
R3和R4可以各自是直鏈或支鏈的烷基。R3和R4可以各自是,例如,甲基、乙基、丙基、丁基或戊基。當(dāng)R3和R4共同地包含有形成雜環(huán)必需的原子時(shí),該雜環(huán)可以進(jìn)一步含有氮和(或)氧原子。由此得到的雜環(huán)含有5至6個(gè)成員,形成,例如嗎啉基、吡咯烷基、哌啶基或哌嗪基等。
本發(fā)明有用的化合物(Ⅰ)是例如
在本發(fā)明中,所述的射線照相術(shù)產(chǎn)品包含有在50至200mg/dm2范圍內(nèi)的銀。
本發(fā)明的射線照相術(shù)產(chǎn)品包括至少一個(gè)板狀顆粒乳液?!鞍鍫铑w粒”被規(guī)定為具有其表面積大于其它側(cè)面的兩個(gè)平行側(cè)面的顆粒。這些顆粒其特征在于它們的縱橫比(R),就是平均等價(jià)圓直徑(ECD)與平均顆粒厚度(e)之比。
在本發(fā)明的范圍內(nèi),板狀顆粒乳液是其中至少50%,且優(yōu)選至少80%的顆粒是板狀顆粒,且板狀顆粒的縱橫比大于或等于2,優(yōu)選在5至20的范圍內(nèi)的乳液。
這樣的乳液公開于例如Research Diselosure,1996年9月,591,節(jié)Ⅰ(以下被稱為Research Disclosure)。
在本發(fā)明范圍內(nèi)有用的乳液,優(yōu)選含鹵化銀顆粒,其基本上由溴化銀制成,即在所述顆粒中主要的鹵化銀或溴化銀??梢栽诒景l(fā)明范圍使用的鹵化銀顆粒還可以包括碘化銀或氯化銀。在一個(gè)實(shí)施方案中,本發(fā)明的射線照相術(shù)產(chǎn)品乳液中的顆粒含至少90%(mol)溴化銀。這些顆粒還可以含數(shù)量小于或等于10%(mol)的氯化銀或碘化銀。
在一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方案中,用于工業(yè)射線照相術(shù)乳液中的鹵化銀顆粒是含碘化物小于3%的溴-碘化銀顆粒,該碘化物或集中于鹵化銀顆粒體內(nèi)的一部分或均勻徹底散布于顆粒體。
在本發(fā)明射線照相術(shù)產(chǎn)品中的乳液包括鹵化銀顆粒分散其間的粘合劑,一般是可滲水的親水膠體,例如明膠、明膠衍生物、白蛋白、聚乙烯醇、乙烯基聚合物等。
這些鹵化銀乳液可以含有一般是少量的摻雜劑,例如銠、銦、鋨或銥離子等。(參見Research Disclosure的節(jié)Ⅰ-D3)。這些摻雜劑一般在制備乳液時(shí)添加。
該鹵化銀乳液可以采用Research Disclosure的節(jié)Ⅳ公開的方法被化學(xué)增感。一般使用的化學(xué)增感劑是硫和(或)硒和(或)金的化合物。
該鹵化銀乳液也一起含有熒光增白劑、防翳劑、表面活性劑、增塑劑、潤(rùn)滑劑、硬化劑、穩(wěn)定劑、和吸收和(或)擴(kuò)散劑,諸如在Research Disclosure的節(jié)Ⅱ-B、Ⅵ、Ⅶ、Ⅷ和Ⅸ中所描述的那些。
本發(fā)明的射線照相術(shù)產(chǎn)品除了鹵化銀乳液層以外,還可以包括用于射線照相術(shù)產(chǎn)品常采用的其它層,例如保護(hù)層(覆蓋層)、中間層、過濾層或抗光暈層。所述的支撐可以是用于工業(yè)射線照相術(shù)產(chǎn)品的任何合適的支撐。常規(guī)的支撐是聚合物支撐,例如乙烯。
覆蓋層可以包括抗靜電劑、聚合物、消光劑等。
優(yōu)選,本發(fā)明的工業(yè)射線照相術(shù)產(chǎn)品包括涂敷在具有鹵化銀乳液的兩個(gè)側(cè)面上的支撐;在支撐的兩個(gè)側(cè)面上的乳液可以是相同的,或在大小、組成、銀含量等方面是不同的。
本發(fā)明的射線照相術(shù)產(chǎn)品可以使用硬化劑,例如公開在ResearchDisclosure節(jié)Ⅱ.B.中的那些硬化劑進(jìn)行硬化。這些硬化劑可以是有機(jī)或無機(jī)硬化劑,例如,鉻鹽、醛、N-羥甲基化合物、二氧雜環(huán)乙烷衍生物、含活性乙烯基的化合物、含活性鹵素的化合物等。
本發(fā)明的射線照相術(shù)產(chǎn)品可以用于由2個(gè)屏組成用以強(qiáng)化電離輻射的射線照相系統(tǒng),所述的2個(gè)屏置于射線照相術(shù)產(chǎn)品的每一側(cè)面上。
這些強(qiáng)化屏是通過鹵化銀顆粒增加了吸收電離輻射的比例的屏。所述的電離輻射與強(qiáng)化屏相互作用,得以在各個(gè)方向上釋放電子。這些電子的一部分通過乳液層中的鹵化銀顆粒被吸收以形成潛像位點(diǎn)。通過增加顆粒方向上放射電子的數(shù)量,顆粒吸收電子的數(shù)量增加。這些屏一般是金屬屏。
常用的屏包括鉛板、氧化鉛或致密金屬例如銅和鋼。這些屏的厚度范圍是0.025mm至0.5mm,且取決于所采用的電離輻射類型。
通過對(duì)射線照相術(shù)產(chǎn)品進(jìn)行直接電離輻射曝光或通過強(qiáng)化屏電離輻射曝光,就可以得到射線照相術(shù)圖像。
用于工業(yè)射線照相術(shù)的制作方法包括含顯影劑的黑白顯影槽和含鹵化銀加溶劑例如硫代硫酸鹽、硫氰酸鹽或含硫有機(jī)化合物的定影槽。常用的顯影劑一般是二羥苯、3-吡唑烷酮或氨基酚化合物?;诳箟难峄蚩箟难嵫苌锏娘@影劑也可以使用。
通過下述實(shí)施例說明本發(fā)明,從中可以看出本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)。
實(shí)施例實(shí)施例1在本實(shí)施例中,使用的射線照相術(shù)產(chǎn)品由涂敷在其具有鹵化銀乳液層的兩個(gè)側(cè)面上的ESTAR支撐組成,所述的乳液包含具有75mg/dm2/側(cè)面的銀含量(總銀含量150mg/dm2)的板狀顆粒。
含板狀顆粒的乳液AgBrI(I:0.6mole%),ECD=0.96μm,e=0.10μm。鹵化銀乳液的各層用含消光劑的明膠保護(hù)層涂敷。
該產(chǎn)品用等于產(chǎn)品中含的總干明膠重量3%的量的雙(乙烯基磺?;谆?醚硬化。
板狀顆粒具有的量超過乳液中總顆粒數(shù)量的90%。
通過雙噴嘴沉淀作用制備所述乳液。接著用硫和金增感。在添加化學(xué)增感劑之后,乳液在65℃下,放置15分鐘。當(dāng)存在化合物(Ⅰ)時(shí),在化學(xué)增感和恒溫步驟之后,以如下所示的量在40℃加入。
各射線照相術(shù)產(chǎn)品置于兩個(gè)具有8mm銅過濾的兩個(gè)鉛屏(25μm)之間,且接著在220KeV能量的輻射下曝光。
曝光之后,采用用于工業(yè)射線照相術(shù)的KodakMX800方法(8分鐘,26℃,干燥后再干燥)將各產(chǎn)品顯影,其中包括使用對(duì)苯二酚-苯基酮(phenidone)顯影劑(2分鐘)的硬化顯影步驟,定影步驟(2.5分鐘),洗滌步驟(2分鐘)和干燥步驟。
對(duì)于各樣品,通過獲得等于兩倍以上的支撐的密度和膠片的霧翳的密度所必需的曝光,測(cè)定膠片的感光速率。
曝光膠片的樣品在室溫下存放1個(gè)月。在存放結(jié)束后,對(duì)膠片顯影,且再一次測(cè)定膠片的感光速率。
下表給出新曝光射線照相術(shù)產(chǎn)品和貯藏后的曝光射線照相術(shù)產(chǎn)品在感光速率上的差值。
表1
相對(duì)于不含化合物(Ⅰ)的標(biāo)準(zhǔn)值是100的對(duì)照膠片,計(jì)算感光速率。
這個(gè)實(shí)施例顯示出當(dāng)含有化合物(Ⅰ)的射線照相術(shù)產(chǎn)品進(jìn)行電離輻射曝光時(shí),潛像的保持能力實(shí)質(zhì)上得到了提高。實(shí)施例2在本實(shí)施例中實(shí)施例1的射線照相術(shù)產(chǎn)品通過鋼楔進(jìn)行Co60輻射(1.2MeV)曝光。該產(chǎn)品在實(shí)施例1所述的條件下顯影。
通過用針對(duì)給定的鋼楔區(qū)域的透射光密度計(jì)讀顯影曝光的膠片得到表2給出的密度。
表2
上述結(jié)果顯示出當(dāng)含有化合物(Ⅰ)的射線照相術(shù)產(chǎn)品進(jìn)行Co60輻射曝光時(shí),該產(chǎn)品具有更高的射線照相感光度。
權(quán)利要求
1.用于進(jìn)行能量至少是40KeV的電離輻射曝光的,具有至少50mg/dm2銀含量的非光譜感光射線照相術(shù)產(chǎn)品,其中包括涂敷在具有鹵化銀乳液層的其至少一個(gè)側(cè)面上的支撐,該乳液層中至少50%的顆粒是板狀顆粒,且其至少含有0.05mmol/molAg的下式化合物
其中R1和R2各自表示氫原子、包含1至5個(gè)碳原子的取代的或非取代的烷基,羥基或芐基,且R3和R4各自表示氫原子或包含1至5個(gè)碳原子的烷基,或共同表示構(gòu)成4至6原子構(gòu)成的取代的或非取代的雜環(huán)的必需的原子。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的射線照相術(shù)產(chǎn)品,其中R1選自氫原子或羥基,且R2是甲基。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的射線照相術(shù)產(chǎn)品,其中鹵化銀乳液是主要由溴化銀組成的板狀顆粒乳液。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的射線照相術(shù)產(chǎn)品,化合物(Ⅰ)的量是0.1mmol/mol至0.5mmol/molAg的范圍。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一權(quán)利要求的射線照相術(shù)產(chǎn)品,包括涂敷在具有鹵化銀乳液層的兩個(gè)側(cè)面上的支撐。
6.式(Ⅰ)的化合物的用途是增加包含有板狀顆粒的用于工業(yè)射線照相術(shù)的產(chǎn)品的感光速率。
7.式(Ⅰ)的化合物的用途是提高通過對(duì)包含有板狀顆粒的工業(yè)X射線產(chǎn)品進(jìn)行電離輻射曝光得到的潛像的保持能力。
8.工業(yè)射線照相術(shù)圖像的形成方法,其中包括下述步驟對(duì)根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一權(quán)利要求所確定的工業(yè)射線照相術(shù)產(chǎn)品進(jìn)行能量至少等于40KeV的電離輻射曝光以得到潛像;且將該產(chǎn)品顯影形成射線照相術(shù)圖像。
9.用于工業(yè)射線照相術(shù)的系統(tǒng),包括用以強(qiáng)化電離輻射的兩個(gè)屏和權(quán)利要求1-5中任一權(quán)利要求所確定的工業(yè)射線照相術(shù)產(chǎn)品,所述屏置于射線照相術(shù)產(chǎn)品的每一側(cè)面。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于高能量電離輻射曝光的鹵化銀射線照相術(shù)產(chǎn)品。本發(fā)明還涉及一種形成射線照相術(shù)圖像的新型射線照相術(shù)系統(tǒng)和方法。本發(fā)明的用于工業(yè)射線照相術(shù)的產(chǎn)品使?jié)撓竦谋3帜芰Φ玫教岣?并提供了更高的感光速率。
文檔編號(hào)G03C1/10GK1236906SQ99107670
公開日1999年12月1日 申請(qǐng)日期1999年5月27日 優(yōu)先權(quán)日1998年5月27日
發(fā)明者G·M·德羅因, J·勞斯赫 申請(qǐng)人:伊斯曼柯達(dá)公司