一種邊緣曝光裝置及曝光方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及光刻技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種邊緣曝光裝置及曝光方法。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，在顯示基板的制作過程中，包括對顯示基板上的光阻層進(jìn)行曝光的工藝。具體地，使用主曝光裝置對基板上的顯示區(qū)域的光阻層進(jìn)行曝光，使用邊緣曝光裝置對基板上的非顯示區(qū)域的光阻層進(jìn)行曝光。其中，上述非顯示區(qū)域的光阻層由多個條形區(qū)域組成，例如，當(dāng)在一塊基板上制作四塊顯示區(qū)域時，非顯示區(qū)域的光阻層由呈田字型排布的六個條形區(qū)域組成。
[0003]現(xiàn)有技術(shù)中，邊緣曝光裝置通常包括多個點光源和基板載臺，每個點光源照射在對應(yīng)的條形區(qū)域上均產(chǎn)生一個正方形光斑。然而，本申請的發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，在使用上述邊緣曝光裝置對對應(yīng)的光阻層進(jìn)行曝光的過程中，由于每個正方形光斑一次性只能覆蓋對應(yīng)的條形區(qū)域的一小部分，即每個點光源一次性只能對對應(yīng)的條形區(qū)域的一小部分進(jìn)行曝光，因此，需要通過機(jī)械的方式移動每個點光源或者基板載臺，以使每個點光源完成對對應(yīng)的條形區(qū)域的所有部分的曝光。而每個點光源或者基板載臺的移動需要一定的時間，從而使得邊緣曝光裝置對位于非顯示區(qū)域的所有光阻層進(jìn)行曝光的時間較長，影響了制作顯示基板的產(chǎn)能。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的在于提供一種邊緣曝光裝置及曝光方法，用于縮短邊緣曝光裝置對位于非顯示區(qū)域的所有光阻層進(jìn)行曝光的時間，提高制作顯示基板的產(chǎn)能。
[0005]為達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供的邊緣曝光裝置采用如下技術(shù)方案:
[0006]一種邊緣曝光裝置，該邊緣曝光裝置包括基板載臺和位于所述基板載臺上方的光源，所述光源包括至少兩個相互平行的第一條形光源，每個所述第一條形光源的形狀均與放置于所述基板載臺上的基板的非顯示區(qū)域的光阻層中、沿所述基板的長度方向延伸的條形區(qū)域的形狀相匹配。
[0007]在本發(fā)明所提供的邊緣曝光裝置中，由于該邊緣曝光裝置中的光源包括至少兩個相互平行的第一條形光源，且每個第一條形光源的形狀均與對應(yīng)的光阻層中沿基板的長度方向延伸的條形區(qū)域的形狀相匹配，從而使得在使用該邊緣曝光裝置對對應(yīng)的光阻層進(jìn)行曝光的過程中，每個第一條形光源照射在對應(yīng)的條形區(qū)域上所產(chǎn)生的光斑均能一次性覆蓋該條形區(qū)域的所有部分，即每個第一條形光源均能一次性對對應(yīng)的條形區(qū)域的所有部分進(jìn)行曝光，因此，與現(xiàn)有技術(shù)相比，節(jié)約了現(xiàn)有技術(shù)中的點光源或者基板載臺移動以使其產(chǎn)生的正方形光斑覆蓋對應(yīng)的條形區(qū)域的所有部分的時間，進(jìn)而能夠縮短邊緣曝光裝置對位于非顯示區(qū)域的所有光阻層進(jìn)行曝光的時間，提高了制作顯示基板的產(chǎn)能。
[0008]本發(fā)明進(jìn)一步提供了一種曝光方法，該曝光方法包括:
[0009]將基板放置在基板載臺上；
[0010]使用位于所述基板載臺上方的光源對所述基板的非顯示區(qū)域的光阻層進(jìn)行曝光;
[0011]其中，所述光源包括至少兩個相互平行的第一條形光源，每個所述第一條形光源的形狀均與放置于所述基板載臺上的基板的非顯示區(qū)域的光阻層中、沿所述基板的長度方向延伸的條形區(qū)域的形狀相匹配。
[0012]在本發(fā)明所提供的曝光方法中，由于該曝光方法包括將基板放置在基板載臺上，然后使用位于基板載臺上方的光源對基板的非顯示區(qū)域的光阻層進(jìn)行曝光，其中，上述光源包括至少兩個相互平行的第一條形光源，且每個第一條形光源的形狀均與放置于基板載臺上的基板的非顯示區(qū)域的光阻層中、沿基板的長度方向延伸的條形區(qū)域的形狀相匹配，因此，在使用該曝光方法對對應(yīng)的光阻層進(jìn)行曝光的過程中，每個第一條形光源照射在對應(yīng)的條形區(qū)域上所產(chǎn)生的光斑均能一次性覆蓋該條形區(qū)域的所有部分，即每個第一條形光源均能一次性對對應(yīng)的條形區(qū)域的所有部分進(jìn)行曝光，因此，與現(xiàn)有技術(shù)相比，節(jié)約了現(xiàn)有技術(shù)中的點光源或者基板載臺移動以使其產(chǎn)生的正方形光斑覆蓋對應(yīng)的條形區(qū)域的所有部分的時間，進(jìn)而能夠縮短使用該曝光方法對位于非顯示區(qū)域的所有光阻層進(jìn)行曝光的時間，提尚了制作顯不基板的廣能。
【附圖說明】
[0013]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0014]圖1為本發(fā)明實施例中的第一種邊緣曝光裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0015]圖2為本發(fā)明實施例中的第一種基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0016]圖3為本發(fā)明實施例中的第二種基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0017]圖4為本發(fā)明實施例中的第三種基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0018]圖5為本發(fā)明實施例中的第二種邊緣曝光裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019]圖6為本發(fā)明實施例中的第三種邊緣曝光裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖7為本發(fā)明實施例中的第四種邊緣曝光裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021]圖8為本發(fā)明實施例中的第五種邊緣曝光裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022]圖9為本發(fā)明實施例中的第六種邊緣曝光裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0023]圖10為本發(fā)明實施例中的第七種邊緣曝光裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0024]圖11為本發(fā)明實施例中的第八種邊緣曝光裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0025]圖12為本發(fā)明實施例中的第一種光斑寬度調(diào)整機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026]圖13為本發(fā)明實施例中的第二種光斑寬度調(diào)整機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0027]圖14為本發(fā)明實施例中的第三種光斑寬度調(diào)整機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0028]圖15為本發(fā)明實施例中的第九種邊緣曝光裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0029]圖16為本發(fā)明實施例中的第十種邊緣曝光裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0030]圖17為本發(fā)明實施例中的第十一種邊緣曝光裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0031]圖18為本發(fā)明實施例中的閉環(huán)控制系統(tǒng)的模塊示意圖。
[0032]附圖標(biāo)記說明:
[0033]I 一基板載臺；2—第一條形光源；3—條形區(qū)域；
[0034]4一第二條形光源；5—光斑寬度調(diào)整機(jī)構(gòu)； 6—擋板；
[0035]7—開口；8—光源支架；9 一緩沖墊；
[0036]10—透鏡組；11 一蠅眼透鏡；12—聚光鏡；
[0037]13—濾光片；14一照度計；15—可編程邏輯控制器；
[0038]
[0039]16—條形燈源控制箱。
【具體實施方式】
[0040]下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0041]實施例一
[0042]本發(fā)明實施例提供了一種邊緣曝光裝置，如圖1所示，該邊緣曝光裝置包括基板載臺I和位于基板載臺I上方的光源，光源包括至少兩個相互平行的第一條形光源2，每個第一條形光源I的形狀均與放置于基板載臺I上的基板的非