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      用于均勻化激光束的設(shè)備的制造方法_4

      文檔序號(hào):8947368閱讀:來源:國(guó)知局
      055]在此尤其是第三和第四基板可沿傳播方向Z設(shè)置在第二基板2下游。
      [0056]由此,可在工作面6中獲得在兩個(gè)相互垂直的方向上被均勻照亮的、基本上呈直角的強(qiáng)度分布。在一種特別有利的實(shí)施方式中,第三透鏡陣列的柱面透鏡器件的中心距P3大于第四透鏡陣列的柱面透鏡器件的中心距P4。與第一和第二透鏡陣列的柱面透鏡器件3、3’、4、4’類似,在此也可使偏離中心的柱面透鏡器件的透鏡頂點(diǎn)偏移。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種用于均勻化激光束(100)的設(shè)備,包括: 一第一基板(I),該第一基板具有第一光學(xué)功能邊界面以及第二光學(xué)功能邊界面,激光束(100)能夠經(jīng)過所述第一光學(xué)功能邊界面射入第一基板(I)中并且能夠經(jīng)過所述第二光學(xué)功能邊界面射出第一基板(I),并且這兩個(gè)光學(xué)功能邊界面中的至少一個(gè)光學(xué)功能邊界面具有多個(gè)柱面透鏡器件(3、3’),這些柱面透鏡器件沿第一方向并列設(shè)置并且具有彼此平行定向的柱面軸線并且通過這種方式構(gòu)成第一透鏡陣列,其中,相鄰的柱面透鏡器件(3、3’)具有中心距(pi)并且這些柱面透鏡器件(3、3’)構(gòu)造為使得它們能夠?qū)⒓す馐?100)分解成多個(gè)分光束(101、101’); 一第二基板(2),該第二基板沿光束路徑設(shè)置在第一基板(I)下游,該第二基板具有第一光學(xué)功能邊界面以及第二光學(xué)功能邊界面,所述分光束(101)能夠經(jīng)過該第二基板的第一光學(xué)功能邊界面射入第二基板(2)中并且能夠經(jīng)過該第二基板的第二光學(xué)功能邊界面射出第二基板(2),并且這兩個(gè)光學(xué)功能邊界面中的至少一個(gè)光學(xué)功能邊界面具有多個(gè)柱面透鏡器件(4、4’),這些柱面透鏡器件沿第一方向并列設(shè)置、具有彼此平行定向的柱面軸線并且通過這種方式構(gòu)成第二透鏡陣列,在此這些柱面透鏡器件(4、4’)能夠折射所述分光束(101、101’)并且使其轉(zhuǎn)入工作面¢)中,并且相鄰的柱面透鏡器件(4、4’)具有中心距(p2); 其中,為所述第一透鏡陣列的每個(gè)柱面透鏡器件(3、3’)配置所述第二透鏡陣列的正好一個(gè)柱面透鏡器件(4、4’); 其特征在于,所述第一透鏡陣列的柱面透鏡器件(3、3’)的中心距(pi)大于所述第二透鏡陣列的柱面透鏡器件(4、4’)的中心距(p2),所述第一透鏡陣列的中心柱面透鏡器件(3’)的透鏡頂點(diǎn)與所述第一透鏡陣列的與之相配的中心柱面透鏡器件(4’)的透鏡頂點(diǎn)對(duì)齊,并且所述第二透鏡陣列的其余柱面透鏡器件(4)的透鏡頂點(diǎn)和所述第一透鏡陣列的與之相配的柱面透鏡器件(3)的透鏡頂點(diǎn)從所述第二透鏡陣列的中心起具有向外漸增的頂點(diǎn)偏移,使得在所述工作面¢)中能夠至少在第一方向上獲得均勻的強(qiáng)度分布。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,該設(shè)備包括柱面透鏡器件(5),該柱面透鏡器件的柱面軸線垂直于所述兩個(gè)透鏡陣列的柱面透鏡器件(3、3’、4、4’)的柱面軸線定向,該柱面透鏡器件這樣構(gòu)造并且在光束路徑中這樣設(shè)置在所述第二透鏡陣列下游,使得該柱面透鏡器件能夠?qū)⑺龇止馐?101、101’)沿穿過所述兩個(gè)透鏡陣列之后的不均勻的軸線聚焦到所述工作面(6)中。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于, 一第一基板(I)在第二光學(xué)功能邊界面上具有多個(gè)柱面透鏡器件,這些柱面透鏡器件沿第二方向并列設(shè)置并且構(gòu)成第三透鏡陣列,第一基板(I)的沿第二方向并列設(shè)置的柱面透鏡器件具有彼此平行定向的柱面軸線,這些柱面軸線垂直于所述第一透鏡陣列的柱面透鏡器件(3、3’)的柱面軸線定向;并且 一第二基板(2)在第二光學(xué)功能邊界面上具有多個(gè)柱面透鏡器件,這些柱面透鏡器件沿第二方向并列設(shè)置并且構(gòu)成第四透鏡陣列,第二基板(I)的沿第二方向并列設(shè)置的柱面透鏡器件具有彼此平行定向的柱面軸線,這些柱面軸線垂直于所述第二透鏡陣列的柱面透鏡器件(4、4’)的柱面軸線定向。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,該設(shè)備包括具有第三透鏡陣列的第三基板和具有第四透鏡陣列的第四基板,在此所述第三透鏡陣列具有多個(gè)柱面透鏡器件,這些柱面透鏡器件沿第二方向并列設(shè)置并且具有彼此平行定向的柱面軸線,這些柱面軸線垂直于所述第一透鏡陣列的柱面透鏡器件(3、3’)的柱面軸線定向,并且所述第四透鏡陣列具有多個(gè)柱面透鏡器件,這些柱面透鏡器件沿第二方向并列設(shè)置并且具有彼此平行定向的柱面軸線,這些柱面軸線垂直于所述第二透鏡陣列的柱面透鏡器件(4、4’)的柱面軸線定向。5.根據(jù)權(quán)利要求3或4之一所述的設(shè)備,其特征在于,所述第三透鏡陣列的柱面透鏡器件的中心距(p3)大于所述第四透鏡陣列的柱面透鏡器件的中心距(p4)。6.根據(jù)權(quán)利要求1至5之一所述的設(shè)備,其特征在于,所述第一透鏡陣列的所有柱面透鏡器件(3、3’)的焦距匕是相同的;和/或所述第二透鏡陣列的所有柱面透鏡器件(4、4’)的焦距&是相同的;和/或所述第三透鏡陣列的所有柱面透鏡器件的焦距匕是相同的;和/或所述第四透鏡陣列的所有柱面透鏡器件的焦距f4是相同的。7.根據(jù)權(quán)利要求1至6之一所述的設(shè)備,其特征在于,該設(shè)備包括用于改變所述第一透鏡陣列和所述第二透鏡陣列之間的距離的裝置(7);和/或該設(shè)備包括用于改變所述第三透鏡陣列和所述第四透鏡陣列之間的距離的裝置(7)。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的設(shè)備,其特征在于,所述裝置(7)構(gòu)造用于使所述第二透鏡陣列相對(duì)于所述第一透鏡陣列移動(dòng);和/或所述裝置(7)構(gòu)造用于使所述第四透鏡陣列相對(duì)于所述第三透鏡陣列移動(dòng)。9.根據(jù)權(quán)利要求1至8之一所述的設(shè)備,其特征在于,所述第一和第二透鏡陣列的柱面透鏡器件(3、3’、4、4’)的中心距(pl、p2)選擇為使得第η個(gè)偏離中心的分光束(101)的外邊緣射線的高度h2位于所述第二透鏡陣列的與之相配的柱面透鏡器件(4)之內(nèi),在此h2〈pl_ (n+1)* (pl_p2)。10.根據(jù)權(quán)利要求1至9之一所述的設(shè)備,其特征在于,對(duì)于所述第一和第二透鏡陣列的柱面透鏡器件(3、3’ ;4、4’)的中心距之比pl/p2適用的是l〈pl/p2< 1.1、優(yōu)選l〈pl/p2< 1.05,并且對(duì)于所述第三和第四透鏡陣列的柱面透鏡器件的中心距之比p3/p4適用的是 1〈ρ3/ρ4 ( 1.1、優(yōu)選 1〈ρ3/ρ4 ( 1.05。
      【專利摘要】本發(fā)明涉及一種用于均勻化激光束(100)的設(shè)備,包括具有第一透鏡陣列的第一基板(1)和具有第二透鏡陣列的第二基板(2),第一透鏡陣列具有多個(gè)柱面透鏡器件(3、3ˊ),第二透鏡陣列在光束路徑中設(shè)置在第一基板(1)下游并且具有多個(gè)柱面透鏡器件(4、4ˊ),為第一透鏡陣列的每個(gè)柱面透鏡器件(3、3ˊ)配置第二透鏡陣列的正好一個(gè)柱面透鏡器件(4、4ˊ),并且第一透鏡陣列的柱面透鏡器件(3、3ˊ)的中心距(p1)大于第二透鏡陣列的柱面透鏡器件(4、4ˊ)的中心距(p2),第一透鏡陣列的中心柱面透鏡器件(3ˊ)的透鏡頂點(diǎn)與第二透鏡陣列的與之相配的中心柱面透鏡器件(4ˊ)的透鏡頂點(diǎn)對(duì)齊,并且第二透鏡陣列的其余柱面透鏡器件(4)的透鏡頂點(diǎn)和第一透鏡陣列的與之相配的柱面透鏡器件(3)的透鏡頂點(diǎn)從第二透鏡陣列的中點(diǎn)起具有向外漸增的頂點(diǎn)偏移。
      【IPC分類】G02B27/09
      【公開號(hào)】CN105164572
      【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201480023998
      【發(fā)明人】I·施泰納
      【申請(qǐng)人】Limo專利管理有限及兩合公司
      【公開日】2015年12月16日
      【申請(qǐng)日】2014年3月7日
      【公告號(hào)】DE102013102863A1, WO2014146916A1
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