描繪裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及在電子電路基板、LCD用玻璃基板、PDP用玻璃基板等平面基板的正反兩面上描繪圖案的描繪裝置。
【背景技術】
[0002]近年來，在市場上興起了直接曝光裝置(描繪裝置)，在該直接曝光裝置(描繪裝置)中，不使用轉印掩模，而是向基板的正反兩面直接照射相互確定了位置關系的描繪光來描繪圖案。在該雙面曝光的情況下，當對正面(第1面)進行圖案曝光時(或曝光之前)，在反面(第2面)上曝光(形成)多個對準標記，在將基板的正反翻轉而進行的對第2面的圖案曝光時，以形成在第2面上的對準標記為基準來確定圖案曝光位置(專利文獻
1、2)。具體而言，對準標記采用了不足Φ2πιπι的圓形圖案、十字等指標，一般情況下，對準標記在所要曝光的基板的角部，以光學方式設置為利用了光致抗蝕劑的自顯色性的像(自顯色像)。
[0003]專利文獻1:日本特開2009 - 294337號公報
[0004]專利文獻2:日本特開2013 — 213852號公報
[0005]然而，專利文獻1和2的描繪裝置具備相對于載置基板的描繪臺可移動的標記形成單元(對準標記形成單元、標記曝光裝置)，使標記形成單元相對于描繪臺(載置在其上的基板)移動而在基板反面上形成了對準標記。因此，可能會由于標記形成單元的移動機構的無法避免的機械誤差而包含對準標記的位置誤差。如果對準標記的形成位置存在誤差，則第2面的描繪圖案與第1面的描繪圖案不能正確地匹配。另外，在實施描繪面的伸縮等縮放校正時，導致實施了與實際的基板伸縮不同的校正。
[0006]另外，現有裝置必須設置能夠相對于描繪臺進行位置調節(jié)的標記形成單元，因此無法避免裝置整體的大型化。另外，在專利文獻2中，為了使標記形成單元移動，在描繪臺正面設置了標記形成單元的退避部(槽部)。因此，在該退避部處無法支承基板反面，有可能對圖案的描繪精度(基板的平面精度)造成不良影響。

【發(fā)明內容】

[0007]因此，本發(fā)明的目的在于獲得一種形成在基板上的對準標記的位置誤差小且不會使基板的平面精度受損的描繪裝置。
[0008]本發(fā)明是著眼于以下情況而完成的:確定了在現有的描繪裝置中，標記形成單元可相對于載置基板的描繪臺進行移動是產生對準標記形成位置的誤差的原因，只要在描繪臺內設置在載置于該描繪臺上的基板反面上直接形成對準標記的形成單元，就能夠防止誤差的發(fā)生。
[0009]S卩，本發(fā)明的描繪裝置具有:描繪臺，其載置基板；以及曝光描繪部，其與上述描繪臺相對地進行移動，將圖案描繪在該描繪臺上的基板上，上述描繪裝置的特征在于，在上述描繪臺上，設有多個基準標記以及被確定了相對于上述各基準標記的位置的多個標記形成單元，上述多個基準標記用于設定相對于上述曝光描繪部的位置基準，上述多個標記形成單元將對準標記形成在載置于該描繪臺上的基板的反面上。
[0010]上述描繪臺例如由臺主體以及位于該臺主體上的蓋板構成，上述標記形成單元可由下述部分構成:貫穿設置在上述蓋板上的至少一個貫通孔；以及由上述臺主體支承的標記形成光源，上述標記形成光源從上述貫通孔射出標記形成光。
[0011]可以在上述蓋板上貫穿設置多個形成上述標記形成單元的上述貫通孔，上述臺主體可具備標記形成光源，上述標記形成光源向上述多個貫通孔中的被選擇的貫通孔射出標記形成光。
[0012]具體而言，上述基準標記以及標記形成單元可以位于載置在上述描繪臺上的基板的周緣部的相對的兩邊，且各自配備有一對。
[0013]上述曝光描繪部可以具備對上述基準標記及對準標記進行拍攝的攝像單元。而且，能夠利用根據上述攝像單元所拍攝的基準標記位置信息而設定的坐標系，執(zhí)行對上述基板正面的圖案描繪，能夠利用根據上述攝像單元所拍攝的對準標記位置信息而設定的坐標系，執(zhí)行將上述基板的正反翻轉后進行的對基板反面的圖案描繪。
[0014]在一個實施方式中，上述基準標記是來自可見光源的光點標記。
[0015]在本發(fā)明中，載置基板的描繪臺具備將對準標記形成在基板反面上的標記形成單元，因此，對準標記形成位置不會產生機械的誤差因素(標記形成單元的移動誤差等)。根據本發(fā)明，能夠以簡單的結構來高精度地進行在基板正反面描繪的圖案的位置對準。另外，能夠確保描繪臺正面的平滑，直到周邊部為止，都能夠以同樣均勻的高平面性吸附保持所載置的基板。
【附圖說明】
[0016]圖1是示出本發(fā)明的描繪裝置的整體結構的立體圖。
[0017]圖2是示出圖1的描繪裝置的描繪臺的一個實施方式的分解立體圖。
[0018]圖3是該描繪臺的俯視圖。
[0019]圖4是沿著圖3的IV — IV線的剖視圖。
[0020]圖5是在基板的正面(第1面)上進行描繪時的示意性俯視圖。
[0021]圖6是在基板的反面(第2面)上進行描繪時的示意性俯視圖。
[0022]標號說明
[0023]100:描繪裝置；11:基座；15:描繪臺；15c:抽吸連接器；15r:凹部；15v:抽吸孔；15P:蓋板；15Q:臺主體；17:基板壓件；18:控制裝置；19:真空源；20:光源部；30:曝光描繪部；41:基準標記；41h:基準標記孔；41j:基準標記形成光源；41k:反射元件；42:標記形成單元；42h:對準標記孔；42j:對準標記形成光源；43:電路基板；AC:對準攝像機(攝像單元)；AM:對準標記；W:基板。
【具體實施方式】
[0024]圖1是本發(fā)明的描繪裝置100整體的結構概念圖。描繪裝置100具備基座11、從基座11的兩側部豎立設置的門12以及被支承在該門12上的曝光描繪部30。
[0025]基座11上配置有描繪臺15，描繪臺15載置了在正反面涂覆有感光性材料的基板Wo該描繪臺15例如能夠借助直線電機移動單元而沿著導軌14在X方向上進行移動。下面，將水平面內與X方向垂直的方向設為Y方向，將垂直面內與X方向垂直的方向設為Z方向。
[0026]在曝光描繪部30的前表面上設置有沿Y方向延伸的滑動件13，在滑動件13上，以在Y方向上隔開的方式設置有一對對準攝像機(攝像單元)AC?；瑒蛹?3通過直線電機驅動或步進電機驅動，將對準攝像機AC移動至Y方向的任意位置處。
[0027]曝光描繪部30具備光源部20。光源部20由具有相同內部結構的2個光源部20a及光源部20b構成。由于光源部20a與光源部20b為相同的結構，因此以光源部20a為代表進行說明。
[0028]光源部20a由UV燈21、第1全反射鏡22、聚光透鏡23、第2全反射鏡24、復眼透鏡25及光圈(aperture)(未圖示)構成。光源部20a具備UV燈21，從UV燈21射出混合存在365nm至440nm的各種波長的紫外光。
[0029]從UV燈21射出的紫外光被橢圓鏡26向天空方向(+Z軸方向)照射，其方向被第1全反射鏡22改變?yōu)樗椒较颍谕ㄟ^聚光透鏡23會聚之后，其方向被第2全反射鏡24改變?yōu)榈孛娣较?一 Z軸方向)。改變了方向的紫外光經過復眼透鏡25及光圈而成為分成4路的光束。光束進一步經由8個第1投影透鏡33及8個反射鏡34，入射至8個DMD (DigitalMicro-mirror Device:數字微鏡器件)元件36，由此成為被控制后的光束。該被控制后的光束穿過第2投影透鏡組37，由此對要投影的曝光描繪的倍率進行調整而照射至基板W。即，描繪裝置100依照預先保存有期望的曝光像的描繪數據，對光源部20a及光源部20b的紫外光進行控制。
[0030]描繪臺15具備臺主體(下部臺)15Q及該臺主體15Q上的蓋板15P。圖2至圖4示出了描繪臺15的詳細情況。描繪臺15呈外表面沿著XYZ的三個垂直平面方向延伸的長方體狀。臺主體15Q與蓋板15P在X方向及Y方向上的尺寸相同，蓋板15P在Z方向上的厚度比臺主體15Q薄。臺主體15Q及蓋板15P可以如圖2中示意性地表示的那樣進行分解，例如利用未圖示的定位裝置及吸附裝置，被固定在正規(guī)位置而構成描繪臺15(圖1、圖3及圖4)。
[0031]在矩形的描繪臺15的基板載置面的四角分別設有一個基準標記41以及形成與各基準標記41對應的對準標記的標記形成單元42。S卩，在描繪臺15上設有多個基準標記41以及與各基準標記41對應的多個標記形成單元42。
[0032]各基準標記41由形成在蓋板15P上的一個基準標記孔(貫通孔)41h以及支承在臺主體15Q上的基準標記形成光源41 j形成。標記形成單元42由形成在蓋板15P上的多個(在圖示的實施方式中為4個)對準標記孔(貫通孔)42h以及與各對準標記孔42h對應地支承在臺主體15Q上的4個對準標記形成光源42j形成?；鶞蕵擞浶纬晒庠?1 j由紅色(可見光)LED構成，將由反射元件41k反射后的光從基準標記孔41h向Z方向(對準攝像機AC方向)射出。對準標記形成光源42 j由紫外LED構成，將光從對準標記孔42h直接向Z方向射出?；鶞蕵擞浶纬晒庠?1 j及對準標記形成光源42 j被固定在電路基板43 (圖4)上，該電路基板43及反射元件41k配設在臺主體15Q上形成的凹部15r內。
[0033]1個基準標記孔41h (基準標記形成光源41 j)及4個對準標記孔42h (對準標記形成光源42j)在X方向上排成一列地形成，使得容易利用搭載在曝光描繪部30上的同一個對準攝像機AC進行拍攝。如圖3、圖4所示，在圖示的例子中，標記形成單元42的各對準標記孔42h的間隔相同，基準標記41與這些標記形成單元42相隔了對準標記孔42h彼此間的間隔以上的距離。
[0034]1個基準標記41與4個標記形成單元42之間的位置關系在描繪臺15上是固定的，相互的位置關系(XY平面上的坐標系)能夠嚴格地進行識別(已被識別)。因此，對準攝像機AC拍攝標記形成單元42 (基準標記41)來求出標記位置等同于求出基準標記41 (由標記形成單元42形成的對準標記)的位置。
[003