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      顯示基板母板及其制造和檢測方法以及顯示面板母板的制作方法

      文檔序號(hào):9645983閱讀:493來源:國知局
      顯示基板母板及其制造和檢測方法以及顯示面板母板的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明至少一實(shí)施例涉及一種顯示基板母板及其制造方法、顯示面板母板、和檢測顯示基板母板的方法。
      【背景技術(shù)】
      [0002]通常,薄膜晶體管液晶顯不器(ThinFilm Transistor Liquid Crystal Display,TFT-1XD),其基本結(jié)構(gòu)包括陣列基板(Array Substrate)、彩膜基板(Color FilterSubstrate)、以及夾設(shè)在兩片基板之間的液晶(Liquid Crystal)層。顯示器件中還包括用于控制液晶偏轉(zhuǎn)的像素電極和公共電極。TFT-LCD中,通過控制液晶分子的偏轉(zhuǎn),從而實(shí)現(xiàn)對(duì)光線強(qiáng)弱的控制,然后通過彩膜基板的濾光作用,實(shí)現(xiàn)彩色圖像顯示。例如,彩膜基板包括黑矩陣和用于顯示顏色的彩色樹脂。陣列基板和/或彩膜基板即為顯示基板。
      [0003]通常,生產(chǎn)過程中,在一張母板基板上可以制作包括多個(gè)顯示基板的顯示基板母板,以提高生產(chǎn)效率。上下兩個(gè)顯示基板(例如,陣列基板和彩膜基板)對(duì)盒后經(jīng)分割成為一個(gè)個(gè)小的液晶顯示面板。
      [0004]在顯示基板的制作過程中,由于各層的厚度差異、各層制作順序的不同會(huì)產(chǎn)生段差。在成盒工藝中,要求顯示基板表面具有一定的平坦度,防止由于平坦度不足而造成的涂覆的取向膜在不平坦處配向效果不佳產(chǎn)生配向不良(Rubbing Mura),從而降低了液晶顯示面板的顯示質(zhì)量。因此,有必要在顯示基板的生產(chǎn)過程中對(duì)各類段差進(jìn)行測定和監(jiān)控。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0005]本發(fā)明至少一實(shí)施例提供一種顯示基板母板及其制造和檢測方法以及顯示面板母板。該顯示基板母板可結(jié)合段差機(jī)對(duì)膜厚和段差進(jìn)行準(zhǔn)確測定,以解決因測量者對(duì)像素輪廓識(shí)別不同而造成的數(shù)據(jù)輸出具有差異的問題,并且不需刮膜即可測定膜厚。
      [0006]本發(fā)明至少一個(gè)實(shí)施例提供一種顯示基板母板,包括襯底基板、位于所述襯底基板上的用以形成多個(gè)顯示基板的多個(gè)顯示基板區(qū)以及位于所述顯示基板區(qū)之間的間隔區(qū),
      [0007]在所述間隔區(qū)內(nèi)設(shè)置有至少一個(gè)檢測區(qū);
      [0008]所述檢測區(qū)包括至少一個(gè)膜層,所述顯示基板區(qū)至少包括與所述檢測區(qū)的至少一個(gè)膜層同層設(shè)置的膜層。
      [0009]例如,在本發(fā)明一實(shí)施例提供的顯示基板母板中,所述檢測區(qū)的膜層和所述顯示基板區(qū)與該膜層同層設(shè)置的膜層具有相同的厚度。
      [0010]例如,在本發(fā)明一實(shí)施例提供的顯示基板母板中,各所述顯示基板區(qū)包括顯示像素區(qū),每個(gè)所述檢測區(qū)包括虛設(shè)像素區(qū),所述檢測區(qū)包括的至少一個(gè)膜層位于所述虛設(shè)像素區(qū)內(nèi),所述顯示基板區(qū)至少包括的與所述檢測區(qū)的至少一個(gè)膜層同層設(shè)置的膜層位于所述顯示像素區(qū)內(nèi)。
      [0011]例如,在本發(fā)明一實(shí)施例提供的顯示基板母板中,所述虛設(shè)像素區(qū)包括的膜層個(gè)數(shù)小于或等于所述顯示像素區(qū)包括的膜層個(gè)數(shù)。
      [0012]例如,在本發(fā)明一實(shí)施例提供的顯示基板母板中,所述檢測區(qū)具有外圍邊框,所述外圍邊框圍繞在所述虛設(shè)像素區(qū)外,所述外圍邊框與所述虛設(shè)像素區(qū)之間為裸露所述襯底基板的空白區(qū)。
      [0013]例如,在本發(fā)明一實(shí)施例提供的顯示基板母板中,所述顯示像素區(qū)包括呈陣列排布的多個(gè)顯示像素單元,每個(gè)顯示像素單元包括多個(gè)子顯示像素單元;
      [0014]所述虛設(shè)像素區(qū)包括呈陣列排布的多個(gè)虛設(shè)像素單元,每個(gè)虛設(shè)像素單元包括多個(gè)子虛設(shè)像素單元;
      [0015]每個(gè)所述虛設(shè)像素單元中子虛設(shè)像素單元的個(gè)數(shù)與每個(gè)所述顯示像素單元中子顯示像素單元的個(gè)數(shù)相等,并且所述虛設(shè)像素單元中多個(gè)子虛設(shè)像素單元的尺寸分別與所述顯示像素單元中多個(gè)子顯示像素單元的尺寸一一對(duì)應(yīng)相等;
      [0016]至少一個(gè)所述子虛設(shè)像素單元和所述顯示像素單元中與該子虛設(shè)像素單元對(duì)應(yīng)的子顯示像素單元分別包括所述同層設(shè)置在所述虛設(shè)像素區(qū)和所述顯示像素區(qū)的至少一個(gè)膜層的至少一部分。
      [0017]例如,在本發(fā)明一實(shí)施例提供的顯示基板母板中,所述檢測區(qū)為多個(gè),多個(gè)所述檢測區(qū)內(nèi)的所述虛設(shè)像素區(qū)相同或不同。
      [0018]例如,在本發(fā)明一實(shí)施例提供的顯示基板母板中,至少一個(gè)所述檢測區(qū)內(nèi)的所述虛設(shè)像素區(qū)內(nèi)的各所述虛設(shè)像素單元與所述顯示基板區(qū)的所述顯示像素區(qū)內(nèi)的各所述顯示像素單元相同。
      [0019]例如,在本發(fā)明一實(shí)施例提供的顯示基板母板中,所述檢測區(qū)包括的所述至少一個(gè)膜層包括黑矩陣層和彩膜層中的至少一個(gè)。
      [0020]例如,在本發(fā)明一實(shí)施例提供的顯示基板母板中,至少一個(gè)所述虛設(shè)像素單元中至少一個(gè)子虛設(shè)像素單元只含有黑矩陣層的至少一部分。
      [0021]例如,在本發(fā)明一實(shí)施例提供的顯示基板母板中,多個(gè)只含有黑矩陣層的至少一部分的子虛設(shè)像素單元在所述虛設(shè)像素區(qū)內(nèi)規(guī)則分布。
      [0022]例如,在本發(fā)明一實(shí)施例提供的顯示基板母板中,多個(gè)只含有黑矩陣層的至少一部分的子虛設(shè)像素單元在所述虛設(shè)像素區(qū)內(nèi)不規(guī)則分布。
      [0023]例如,在本發(fā)明一實(shí)施例提供的顯示基板母板中,所述顯示像素單元包括紅色子顯示像素單元、綠色子顯示像素單元和藍(lán)色子顯示像素單元中的至少之一。
      [0024]例如,在本發(fā)明一實(shí)施例提供的顯示基板母板中,所述顯示基板母板包括陣列基板母板或彩膜基板母板。
      [0025]例如,在本發(fā)明一實(shí)施例提供的顯示基板母板中,所述顯示基板母板為彩膜基板母板,所述外圍邊框與所述彩膜基板母板上的黑矩陣同層設(shè)置。
      [0026]例如,在本發(fā)明一實(shí)施例提供的顯示基板母板中,所述虛設(shè)像素區(qū)的面積小于所述顯示像素區(qū)的面積。
      [0027]例如,在本發(fā)明一實(shí)施例提供的顯示基板母板中,所述虛設(shè)像素區(qū)的面積小于所述顯示像素區(qū)的面積的十分之一。
      [0028]本發(fā)明至少一個(gè)實(shí)施例還提供一種顯示面板母板,包括上述任一顯示基板母板。
      [0029]本發(fā)明至少一個(gè)實(shí)施例還提供一種顯示基板母板的制造方法,包括在襯底基板上形成多個(gè)顯示基板區(qū),位于所述顯示基板區(qū)之間的區(qū)域?yàn)殚g隔區(qū),在所述間隔區(qū)內(nèi)形成有至少一個(gè)檢測區(qū),
      [0030]所述檢測區(qū)包括至少一個(gè)膜層,所述顯示基板區(qū)至少包括與所述檢測區(qū)的至少一個(gè)膜層同層形成的膜層。
      [0031]例如,在本發(fā)明一實(shí)施例提供的顯示基板母板的制造方法中,所述檢測區(qū)與所述顯示基板區(qū)同層形成的膜層通過一次構(gòu)圖工藝形成。
      [0032]本發(fā)明至少一個(gè)實(shí)施例還提供一種檢測上述任一顯示基板母板的方法,包括如下步驟:
      [0033](1)根據(jù)檢測區(qū)設(shè)計(jì)的位置參數(shù),找到所述檢測區(qū)的位置;
      [0034](2)檢測所述檢測區(qū)至少一個(gè)膜層的厚度。
      [0035]例如,在本發(fā)明一實(shí)施例提供的檢測顯示基板母板的方法中,每個(gè)所述檢測區(qū)內(nèi)設(shè)置有虛設(shè)像素區(qū),所述檢測區(qū)具有外圍邊框,所述外圍邊框圍繞在所述虛設(shè)像素區(qū)外,所述外圍邊框與所述虛設(shè)像素區(qū)之間為裸露所述襯底基板的空白區(qū),
      [0036]檢測所述檢測區(qū)至少一個(gè)膜層的厚度的方法包括將段差機(jī)探針從所述檢測區(qū)的空白區(qū)向所述虛設(shè)像素區(qū)平移。
      【附圖說明】
      [0037]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅涉及本發(fā)明的一些實(shí)施例,而非對(duì)本發(fā)明的限制。
      [0038]圖1為一種段差機(jī)測量數(shù)據(jù)輸出圖;
      [0039]圖2為顯不基板母板區(qū)域不意圖;
      [0040]圖3為圖2中虛線框A所示區(qū)域的示意圖;
      [0041]圖4a和圖4b分別為圖3中B_B’和C_C’的截面示意圖;
      [0042]圖5為檢測區(qū)黑矩陣示意圖或只含有黑矩陣的檢測區(qū)內(nèi)虛設(shè)像素區(qū)示意圖;
      [0043]圖6為檢測區(qū)的虛設(shè)像素區(qū)內(nèi)設(shè)置有藍(lán)色、綠色和紅色子虛設(shè)像素單元的示意圖;
      [0044]圖7為檢測區(qū)的虛設(shè)像素區(qū)內(nèi)只設(shè)置一種顏色的子虛設(shè)像素單元的示意圖;
      [0045]圖8為檢測區(qū)的虛設(shè)像素區(qū)內(nèi)部分設(shè)置藍(lán)色、綠色和紅色子虛設(shè)像素單元的示意圖;
      [0046]圖9為掩模板區(qū)域示意圖;
      [0047]圖10為圖9中虛線框A’所示區(qū)域的示意圖;
      [0048]圖11為用于形成藍(lán)色子顯示像素單元和藍(lán)色子虛設(shè)像素單元的圖9中虛線框A’所示區(qū)域掩模板設(shè)計(jì)示意圖;
      [0049]圖12為用于形成圖8所示的藍(lán)色子虛設(shè)像素單元的檢測區(qū)掩模板設(shè)計(jì)示意圖;
      [0050]圖13為段差機(jī)探針檢測顯示基板母板中的檢測區(qū)的示意圖。
      [0051]附圖標(biāo)記:
      [0052]100-顯不基板母板;101-襯底基板;102-顯不基板區(qū);103-間隔區(qū);104-檢測區(qū);105_黑矩陣;1051_黑矩陣;106_顯示像素單元;107_子顯示像素單元;108_顯示像素區(qū);109_虛設(shè)像素區(qū);110_外圍邊框;111-空白區(qū);112_虛設(shè)像素單元;113_子虛設(shè)像素單元;114_彩膜層;1141_彩膜層;115_藍(lán)色子顯示像素單元;116_綠色子顯示像素單元;117-紅色子顯示像素單元;1151_藍(lán)色子虛設(shè)像素單元;1161_綠色子虛設(shè)像素單元;11
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