;所述第四膜層為高反射金屬層，厚度為10_50nm ;所述第五膜層為高硬度層，厚度為10_50nm。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種過濾藍光防強光耐磨鏡片，其特征在于:所述金屬層的膜材為金、銀、鉑、釹、銅、鋅或鎳，并由電子槍蒸鍍成型。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種過濾藍光防強光耐磨鏡片，其特征在于:所述金屬層的膜材為金合金、銀合金、鈾合金、釹合金、銅合金、鋅合金或鎳合金，并由電子槍蒸鍍成型。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種過濾藍光防強光耐磨鏡片，其特征在于:所述高硬度層的膜材為三氧化二鋁、氧化鋯、二氧化硅晶體或一氧化硅晶體，并由電子槍蒸鍍成型。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種過濾藍光防強光耐磨鏡片，其特征在于:所述高反射金屬層的膜材為鉻或銀，并由電子槍蒸鍍成型。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種過濾藍光防強光耐磨鏡片，其特征在于:所述基片由樹脂或玻璃成型。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述過濾藍光防強光耐磨鏡片的制備方法，其特征在于:所述基片由樹脂成型時，所述制備方法具體包括以下步驟: 1)對基片進行清洗、干燥； 2)分別對基片的內(nèi)、外兩個表面進行鍍膜； A、鍍第一膜層: 將真空鍍膜艙內(nèi)的真空度調(diào)整至小于或等于5.0X 10 3帕，并控制真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第一膜層的膜材，第一膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于基片的外表面，同時控制第一膜層蒸鍍的速率為2.5A/S，第一膜層最終形成后的厚度為10-100nm ;其中，所述第一膜層的膜材為五氧化三鈦，形成五氧化三鈦層； B、鍍第二膜層: 保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0X 10 3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第二膜層的膜材，第二膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟A中第一膜層的表面，同時控制第二膜層蒸鍍的速率為7A/S，第二膜層最終形成后的厚度為50-100nm ;其中，所述第二膜層的膜材為二氧化硅，形成二氧化硅層； C、鍍第三膜層: 保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0X 10 3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第三膜層的膜材，第三膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟B中第二膜層的表面，同時控制第三膜層蒸鍍的速率為1A/S，第三膜層最終形成后的厚度為5-20nm ;其中，所述第三膜層的膜材為金、銀、鉑、釹、銅、鋅、鎳、金合金、銀合金、鈾合金、釹合金、銅合金、鋅合金或鎳合金，形成金屬層； D、鍍第四膜層: 保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0X 10 3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第四膜層的膜材，第四膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟C中第三膜層的表面，同時控制第四膜層蒸鍍的速率為1.5A/S，第四膜層最終形成后的厚度為10-50nm ;其中，所述第四膜層的膜材為鉻或銀，形成高反射金屬層； E、鍍第五膜層: 保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度大于或等于5.0X 10 3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第五膜層的膜材，第五膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟D中第四膜層的表面，同時控制第五膜層蒸鍍的速率為7A/S，第五膜層最終形成后的厚度為10-50nm ;其中，所述第五膜層的膜材為三氧化二鋁、氧化鋯、二氧化硅晶體或者一氧化硅晶體，形成高硬度層。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種過濾藍光防強光耐磨鏡片的制備方法，其特征在于:所述的步驟1)中對基片進行清洗、干燥的具體步驟如下:采用有機溶劑清洗劑對基片進行初次清洗，并以超聲波輔助清洗，采用異丙醇干燥；在基片鍍膜前，將基片放在真空艙內(nèi)用離子槍轟擊基片的外表面2-3分鐘進行再次清洗。9.根據(jù)權(quán)利要求6所述過濾藍光防強光耐磨鏡片的制備方法，其特征在于:所述基片由玻璃成型時，所述制備方法具體包括以下步驟: 1)對基片進行清洗、干燥； 2)分別對基片的內(nèi)、外兩個表面進行鍍膜； A、鍍第一膜層: 將真空鍍膜艙內(nèi)的真空度調(diào)整至小于或等于5.0X 10 3帕，并控制真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為200-300°C，采用電子槍轟擊第一膜層的膜材，第一膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于基片的外表面，同時控制第一膜層蒸鍍的速率為2.5A/S，第一膜層最終形成后的厚度為10-100nm ;其中，所述第一膜層的膜材為五氧化三鈦，形成五氧化三鈦層； B、鍍第二膜層: 保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0X 10 3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為200-300°C，采用電子槍轟擊第二膜層的膜材，第二膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟A中第一膜層的表面，同時控制第二膜層蒸鍍的速率為7A/S，第二膜層最終形成后的厚度為50-100nm ;其中，所述第二膜層的膜材為二氧化硅，形成二氧化硅層； C、鍍第三膜層: 保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0X 10 3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為200-300°C，采用電子槍轟擊第三膜層的膜材，第三膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟B中第二膜層的表面，同時控制第三膜層蒸鍍的速率為1A/S，第三膜層最終形成后的厚度為5-20nm;其中，所述第三膜層的膜材為金、銀、鉑、釹、銅、鋅、鎳、金合金、銀合金、鈾合金、釹合金、銅合金、鋅合金或鎳合金，形成金屬層； D、鍍第四膜層: 保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0X 10 3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為200-300°C，采用電子槍轟擊第四膜層的膜材，第四膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟C中第三膜層的表面，同時控制第四膜層蒸鍍的速率為1.5A/S，第四膜層最終形成后的厚度為10-50nm ;其中，所述第四膜層的膜材為鉻或銀，形成高反射金屬層； E、鍍第五膜層: 保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度大于或等于5.0X 10 3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為200-300°C，采用電子槍轟擊第五膜層的膜材，第五膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟D中第四膜層的表面，同時控制第五膜層蒸鍍的速率為7A/S，第五膜層最終形成后的厚度為10-50nm ;其中，所述第五膜層的膜材為三氧化二鋁、氧化鋯、二氧化硅晶體或者一氧化硅晶體，形成高硬度層。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種過濾藍光防強光耐磨鏡片的制備方法，其特征在于:所述的步驟1)中對基片進行清洗、干燥的具體步驟如下:采用有機溶劑清洗劑對基片進行初次清洗，并以超聲波輔助清洗，采用異丙醇干燥；在基片鍍膜前，將基片放在真空艙內(nèi)用離子槍轟擊基片的外表面5-10分鐘進行再次清洗。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種過濾藍光防強光耐磨鏡片及其制造方法，該鏡片包括基片，基片的內(nèi)、外兩個表面從里到外對稱依序設(shè)有第一膜層、第二膜層、第三膜層、第四膜層和第五膜層；所述第一膜層為五氧化三鈦層，厚度為10-100nm；所述第二膜層為二氧化硅層，厚度為50-100nm；所述第三膜層為金屬層，厚度為5-20nm；所述第四膜層為高反射金屬層，厚度為10-50nm；所述第五膜層為高硬度層，厚度為10-50nm。該制造方法包括以下步驟：1）對基片進行清洗；2）分別對基片的內(nèi)、外兩個表面進行鍍膜。本發(fā)明的鏡片能有效過濾有害藍光、炫光，高硬度層能夠顯著提高鏡片耐磨性，高反射金屬層，能夠反射強光，有效防止強光傷害。
【IPC分類】G02B1/14, G02B1/10, G02C7/10, G02B5/20
【公開號】CN105425416
【申請?zhí)枴緾N201511029178
【發(fā)明人】吳曉彤, 方俊勇
【申請人】奧特路（漳州）光學(xué)科技有限公司
【公開日】2016年3月23日
【申請日】2015年12月31日