續(xù)第二間隔物28的考慮，使得第一間隔物25的高度和第二間隔物28的高度不同；光罩30除去第一區(qū)域32及第二區(qū)域31的剩余區(qū)域37為不透膜，綠色光阻層23除去綠色光阻24及第一間隔物25的剩余部分全部顯影消除。
[0091]在本實施例中，光罩30對應(yīng)綠色光阻24的第一區(qū)域32為全透膜，對應(yīng)的綠色光阻層23曝光后全部保留形成綠色光阻24，光罩30對應(yīng)第一間隔物25的第二區(qū)域31的透光性大于不透膜，對應(yīng)的綠色光阻層23曝光后形成凸出紅色光阻22的第一間隔物25，綠色光阻層23的剩余部分被全部顯影消除。
[0092]步驟S205:在陣列基板21上形成藍(lán)色光阻26。
[0093]如圖4f所示，在陣列基板21上涂布藍(lán)色光阻層，對藍(lán)色光阻層進(jìn)行圖形化處理形成藍(lán)色光阻26。
[0094]步驟S206:在紅色光阻22、綠色光阻24、藍(lán)色光阻26上涂布黑矩陣層27;
[0095]如圖4g所示，在紅色光阻22、綠色光阻24、藍(lán)色光阻26上形成具有一定厚度的黑矩陣層27，黑矩陣層27對應(yīng)于陣列基板21的非顯示區(qū)域202上。
[0096]步驟S207:利用一次光罩對黑矩陣層27進(jìn)行曝光；
[0097]如圖4h所示，光罩35采用兩種透光性不同的材料，光罩35的第一區(qū)域34為全透膜，光罩35的第二區(qū)域33的透光性大于不透膜的透光性，對黑矩陣層27進(jìn)行曝光后，第一區(qū)域34對應(yīng)的黑矩陣層27形成第二間隔物28，第二間隔物28位于第二區(qū)域33對應(yīng)的黑矩陣層27留下剩余的黑矩陣層27。
[0098]利用上述步驟完成彩色光阻22/24/26、黑矩陣層27、第一間隔物25及第二間隔物28的形成，可以看出，第一間隔物25與第二間隔物28的高度不同且位置不同；如圖4i所示，是圖4h的俯視示意圖，可以看出，黑矩陣層27、第一間隔物25及第二間隔物28均位于彩色光阻22/24/26對應(yīng)陣列基板21的非顯示區(qū)域202上。
[0099]本發(fā)明基于BOA技術(shù)的顯示面板的制作方法第二實施方式，通過提供一陣列基板21，在陣列基板21上形成紅色光阻22，在紅色光阻22上涂布綠色光阻層23，對綠色光阻層23一次曝光形成綠色光阻24及第一間隔物25，然后形成藍(lán)色光阻26，在紅色光阻22、綠色光阻24、藍(lán)色光阻26上方涂布黑矩陣層27，對黑矩陣層27—次曝光后留下剩余黑矩陣層27及形成第二間隔物28。通過這種方式，本實施方式在形成綠色光阻24和黑矩陣層27的過程中，分別同時形成第一間隔物25和第二間隔物28，減少單獨(dú)制作第一間隔物25和第二間隔物28的流程，從而減少整個顯示面板的制作流程，降低生產(chǎn)成本。
[0100]圖5是本發(fā)明基于BOA技術(shù)的顯示面板的制作方法第三實施方式的流程圖，圖6b-圖6g是本發(fā)明第三實施方式各步驟中顯示面板的截面示意圖，如圖5和圖6所示，該顯示面板的制作方法具體包括以下步驟:
[0101]步驟S301:提供一陣列基板301，該陣列基板301包括顯示區(qū)域3011和非顯示區(qū)域3012；
[0102]請參閱圖6a_圖6b，圖6a是通過步驟S301制備的陣列基板301的俯視示意圖，圖6b是陣列基板301的截面示意圖，提供一陣列基板301，該陣列基板301可包括數(shù)據(jù)線、掃描線、薄膜晶體管以及像素電極等(圖中均未示出)，該陣列基板301包括用于顯示圖像的顯示區(qū)域3011以及用于間隔或區(qū)分不同像素的非顯示區(qū)域3012。
[0103]步驟S302:在陣列基板301上形成彩色光阻層，對彩色光阻層進(jìn)行曝光以形成凹陷區(qū)域及彩色光阻，其中，凹陷區(qū)域位于彩色光阻區(qū)域內(nèi)對應(yīng)于陣列基板301的非顯示區(qū)域3012 上；
[0104]具體地，在陣列基板301上形成彩色光阻層，彩色光阻層包括紅色光阻、綠色光阻、藍(lán)色光阻的一種或組合，通常來說，為了達(dá)到彩色顯示效果，彩色光阻層需包括紅色光阻、綠色光阻及藍(lán)色光阻，凹陷區(qū)域的形成可以是對紅色光阻層進(jìn)行曝光形成紅色光阻的過程中，也可以是在對綠色光阻層進(jìn)行曝光形成綠色光阻的過程中，或者是在對藍(lán)色光阻層進(jìn)行曝光形成藍(lán)色光阻的過程中。
[0?05] 請參閱圖6c_圖6e，是本實施方式中執(zhí)行步驟S302后顯示面板的截面示意圖，可選首先在陣列基板301上形成紅色光阻層302，如圖6c所示；
[0106]如圖6d所示，利用一次光罩310對紅色光阻層302進(jìn)行曝光形成紅色光阻303及位于紅色光阻303區(qū)域內(nèi)的凹陷區(qū)域306，其中，光罩310對應(yīng)紅色光阻303的第一區(qū)域311的透光性大于光罩除去第一區(qū)域311的第二區(qū)域312的透光性，可選第一區(qū)域311為全透膜，第二區(qū)域312為不透膜；
[0107]需要說明的是，凹陷區(qū)域306的個數(shù)可以是一個或多個，每一凹陷區(qū)域306位于紅色光阻303區(qū)域內(nèi)，凹陷區(qū)域306的個數(shù)不做限定。
[0108]形成紅色光阻303及凹陷區(qū)域306后，如圖6e所示，在陣列基板301上繼續(xù)形成綠色光阻304及藍(lán)色光阻305，紅色光阻303、綠色光阻304及藍(lán)色光阻305均位于陣列基板301的顯示區(qū)域3011上，也可覆蓋部分非顯示區(qū)域3012。
[0109]步驟S302:在彩色光阻層上形成黑矩陣層307，黑矩陣層307覆蓋彩色光阻層及凹陷區(qū)域306;
[0110]如圖6f所示，在紅色光阻303、綠色光阻304、藍(lán)色光阻305上涂布具有一定厚度的黑矩陣層307，黑矩陣層307對應(yīng)于陣列基板301的非顯示區(qū)域3012上，由于黑矩陣層307涂布的厚度一致，因此黑矩陣層307在凹陷區(qū)域306的上方仍然處于凹陷狀態(tài)。
[0111]步驟S303:對黑矩陣層307進(jìn)行曝光，使得在凹陷區(qū)域306上形成第一間隔物308，在彩色光阻層對應(yīng)陣列基板301非顯示區(qū)域3012上形成第二間隔物309。
[0112]具體地，如圖6g所示，第一間隔物308及第二間隔物309均形成于形成黑矩陣層307的過程中，可選使用一次光罩320對黑矩陣層307進(jìn)行曝光，使得在凹陷區(qū)域306上形成第一間隔物308，在藍(lán)色光阻305上形成第二間隔物309;
[0113]光罩320對應(yīng)第一間隔物308及第二間隔物309的第一區(qū)域322的透光性大于光罩320除去第一區(qū)域322的第二區(qū)域321的透光性，本實施方式中，第一區(qū)域322為全透膜，第二區(qū)域321的透光性大于不透膜，對應(yīng)第一區(qū)域322的黑矩陣層307全部保留，對應(yīng)第二區(qū)域321的黑矩陣層307上留下剩余的黑矩陣層307，且剩余的黑矩陣層307的高度低于凹陷區(qū)域306內(nèi)黑矩陣層307的高度，從而使得凸出的部分形成第一間隔物308，同樣，在藍(lán)色光阻305上形成凸出剩余的黑矩陣層307的第二間隔物309。通過這種方式，可減少單獨(dú)制作第一間隔物308和第二間隔物309的流程，從而減少整個顯示面板的制作流程，降低生產(chǎn)成本。
[0114]利用上述步驟完成紅色光阻303、綠色光阻304、藍(lán)色光阻305、黑矩陣層307、第一間隔物308及第二間隔物309的形成，可以看出，第一間隔物308與第二間隔物309的高度不同且位置不同；如圖6h所示，是圖6g的俯視示意圖，可以看出，黑矩陣層307、第一間隔物308及第二間隔物309均對應(yīng)位于陣列基板301的非顯示區(qū)域3012上。
[0115]本實施方式中，在形成彩色光阻層的同時形成凹陷區(qū)域306，這樣可使得光罩320采用兩種不同透光性的材料制成即可。在其他實施方式中，如果在形成彩色光阻層的同時沒有預(yù)先形成凹陷區(qū)域，那么在利用一次光罩對黑矩陣層進(jìn)行曝光同時形成第一間隔物及第二間隔物時，該光罩需要采用至少三種不同透光性的材料制成，分為至少三段區(qū)域，光罩對應(yīng)第一間隔物的第一區(qū)域與光罩對應(yīng)第二間隔物的第二區(qū)域的透光性不同，光罩除去第一區(qū)域和第二區(qū)域的第三區(qū)域的透光性也與前兩者不同，從而在彩色光阻層上形成凸出剩余黑矩陣層的不同高度的第一間隔物和第二間隔物。
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