光罩檢查機的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及光罩的檢查技術(shù)，更詳細而言是關(guān)于一種可快速、且準確檢出光罩表面污染物的光罩檢查機。
【背景技術(shù)】
[0002]按，在半導體的制程中，是以微影(Photolithography)與蝕刻制程(EtchingProcess)來完成晶圓表面圖案的制作，其中光罩(Mask)為其不可或缺的關(guān)鍵。光罩是一繪有特定圖案的透光玻璃片，其中包含一具圖形(Pattern)的圖案區(qū)，供利用一光源，將圖案區(qū)上的圖形轉(zhuǎn)移至晶圓上的光阻，再經(jīng)過蝕刻制程于晶圓表面完成圖案。而光罩為了保護圖案區(qū)上的圖形，圖案區(qū)的上方通常會設(shè)有一圖罩護膜(Pellicle)，避免圖案區(qū)上的圖形遭受刮傷、污染或破壞。
[0003]然而，光罩污染是一直存在發(fā)生的問題，在操作波長等于或小于248納米長的光微影制程中，高解析度光罩特別容易受到污染。其中一種光罩污染稱作為霧狀污染。霧狀污染是一種沉淀物或雜質(zhì)，其沉淀物是由清洗光罩過程后所殘留的化學物質(zhì)所形成，而雜質(zhì)系由無塵室或設(shè)備環(huán)境交叉接觸所產(chǎn)生。例如，于清洗光罩過程中，若使用含有硫酸鹽及錢的溶液，則當光罩曝光于短波長的紫外光(Ultrav1let Light)，如波長為193納米長或248納米長，污染將會變得相當明顯。這些有害物質(zhì)會附著于光罩表面，且在經(jīng)長時間儲存或曝光制程的加熱后，會于光罩表面產(chǎn)生微粒附著、結(jié)晶、又或霧化等現(xiàn)象，以光罩應(yīng)用于黃光微影制程例，其會直接影響到光罩的透光率，進而使光罩上的圖形失真，其會造成晶圓良率降低的現(xiàn)象。
[0004]目前已經(jīng)有幾種方法使用于檢測上述光罩污染、其他類型的污染或光罩上的沉淀物。雖然這些方法已經(jīng)符合預期的效果，但這些方法目前仍然無法全面性地解決問題。例如，一方法是由檢查人員以目測方式來檢查整個光罩正、反兩面，其除了有微細的結(jié)晶或微粒難以檢查出來外，一般霧化、水痕等更是不易檢出，且長時間以目測檢查也會有眼睛疲勞的現(xiàn)象，故其誤判率極高。另一方法是使用光學檢測設(shè)備掃描整個光罩表面，藉此檢測光罩上的污染或沉淀物。光學檢測設(shè)備的原理基礎(chǔ)可為使用各種光束(例如:激光束或電子束)的光學掃描技術(shù)。然而，現(xiàn)有光學掃描系統(tǒng)的費用是相當昂貴，且光罩通常是由非常平坦的透明石英片或是透明玻璃片所構(gòu)成的，于進行光學掃描時會有難以聚焦及疊影誤判的狀況。
[0005]換言之，以現(xiàn)有的檢查方法或設(shè)備而言，不僅易因誤判而造成晶圓生產(chǎn)的合格率降低，且掃描整個光罩表面亦是相當費時，因此每日所能檢測的光罩為數(shù)有限，而且檢測光罩的頻率也受限于人力、又或光學檢查設(shè)備，如何解決前述問題，是業(yè)界的重要課題。
[0006]緣是，本創(chuàng)作人乃針對前述現(xiàn)有光罩檢查時所面臨的問題深入探討，并藉由本創(chuàng)作人多年從事相關(guān)開發(fā)的經(jīng)驗，而積極尋求解決之道，經(jīng)不斷努力的研宄與發(fā)展，終于成功的創(chuàng)作出一種光罩檢查機，藉以克服現(xiàn)有者因速度慢及易誤判所造成的困擾與不便。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]因此，本實用新型的主要目的在于提供一種可以有效檢出微粒、霧化或水痕的光罩檢查機，藉以能減少誤判，從而提高后續(xù)晶圓加工的效率與良率。
[0008]又，本實用新型的次一主要目的在于提供一種可以快速掃描的光罩檢查機，其能完整、且迅速檢查光罩表面，提高光罩檢查的效率與頻率。
[0009]為此，本實用新型主要是通過下列的技術(shù)手段，來具體實現(xiàn)上述的各項目的與效能，其至少包含有:
[0010]一機架，機架上設(shè)有一供承載一光罩的載臺；
[0011]一上檢測模組，其于該機架上設(shè)有一位于該載臺上方的光學影像處理模組，且該光學影像處理模組與該載臺可相對線性位移，又該光學影像處理模組可向下擷取該載臺上該光罩的影像，供掃描、辨識、標示及儲存該光罩的污染物，再者該上檢測模組是于該光學影像處理模組一側(cè)另設(shè)有一導光單元，該導光單元具有一光源及一導光板，其中該導光板可導引該光源的光線以線性方式照射于該光學影像處理模組的掃描位置，且該導光單元斜射的光線與該光學影像處理模組垂直的掃描線間形成有一夾角。
[0012]藉此，通過前述技術(shù)手段的具體實現(xiàn)，使本實用新型的光罩檢查機可利用由線性影像感光元件構(gòu)成的光學影像處理模組，快速掃描光罩的表面，且通過斜設(shè)的導光單元導光板的作用，使光源的光線可斜射于光學影像處理模組掃描處，而提高其聚焦效果，從而提高污染物的辨識率，故能有效增進其檢查效率與準確率，減少不必要的人力及誤判狀況，進一步可提尚晶圓后續(xù)加工的合格率，并可提尚其工作效率，而能增加其附加價值，并能提尚其經(jīng)濟效益。
[0013]為使貴審查委員能進一步了解本實用新型的構(gòu)成、特征及其他目的，以下乃舉本實用新型的若干較佳實施例，并配合圖式詳細說明如后，供讓熟悉該項技術(shù)領(lǐng)域者能夠具體實施。
【附圖說明】
[0014]圖1為本實用新型光罩檢查機的外觀示意圖；
[0015]圖2為本實用新型光罩檢查機的局部外觀示意圖，供說明各組件的態(tài)樣及其相對關(guān)系;
[0016]圖3為本實用新型光罩檢查機的內(nèi)部組成示意圖；
[0017]圖4為本實用新型光罩檢查機中夾持機構(gòu)的外觀示意圖；
[0018]圖5為本實用新型光罩檢查機于實際使用時的平面動作示意圖；
[0019]圖6為本實用新型光罩檢查機于實際使用時的另一平面動作示意圖。
[0020]附圖標記說明:10-機架；11_基板；12_長導槽；15_導軌組；18_載臺；20_上檢測模組；21_上框體；25_光學影像處理模組；26_導光單元；27_光源；28_導光板；30_下檢測模組；31_下框體；35_光學影像處理模組；36_導光單元；37_光源；38_導光板；50_光罩取料裝置；51_開盒機構(gòu)；510_座板；52_移動板；53_立柱；54_頂板；55_夾持機構(gòu)；56_旋轉(zhuǎn)懸臂；57_夾持器；60_光罩傳送盒；61_底板；65_蓋體；70_光罩。
【具體實施方式】
[0021]以下結(jié)合附圖和實施例，對本實用新型上述的和另外的技術(shù)特征和優(yōu)點作更詳細的說明。
[0022]本實用新型一種光罩檢查機，隨附圖例示本實用新型的具體實施例及其構(gòu)件中，所有關(guān)于前與后、左與右、頂部與底部、上部與下部、以及水平與垂直的參考，僅用于方便進行描述，并非限制本實用新型，亦非將其構(gòu)件限制于任何位置或空間方向。圖式與說明書中所指定的尺寸，當可在不離開本實用新型的申請專利范圍內(nèi)，根據(jù)本實用新型的具體實施例的設(shè)計與需求而進行變化。
[0023]而本實用新型的光罩檢查機的簡要架構(gòu)，如圖1、2所示，該光罩檢查機于一機架10上設(shè)有一載臺18及一光罩取料裝置50，且機架10上分設(shè)有位于載臺18上方與下方的上檢測模組20及一下檢測模組30，且該載臺18可供承載一光罩70、且相對上、下檢測模組20、30往復線性移動；
[0024]關(guān)于本實用新型的詳細構(gòu)成，則請配合參看圖1、2及3所示，機架10上具有一基板11，且基板11頂面形成有一長導槽12，且機架10上設(shè)有一對應(yīng)基板11長導槽12的導軌組15，而載臺18設(shè)于導軌組15上，使載臺18可供光罩70擺置定位，且相對機架10進行線性位移；
[0025]而上檢測模組20于機架10基板11上方設(shè)有一跨越長導槽12的上框體21，該上框體21上設(shè)有一可向下擷取影像的光學影像處理模組25，其中光學影像處理模組25選自線性影像感光元件(Line Scan CCD)，供掃描、辨識、標示及儲存污染物，再者上檢測模組20于光學影像處理模組25 —側(cè)另設(shè)有一導光單元26，該導光單元26具有一光源27及一導光板28，其中導光板28可導引光源27的光線以線性方式照射于光學影像處理模組25的掃描位置，且導光單元26斜射的光線與光學影像處理模組25垂直的掃描線間形成有一夾角，使上檢測模組20的光學影像處理模組25僅能掃描到光罩70的上表面，再者上檢測模組20的導光單元26的導光板28可進一步加裝不同光譜的濾鏡，用以過濾光罩60上表面不同波長的水痕，大幅提高其污染物的辨識效果；
[0026]又下檢測模組30于機架10的基板11下方設(shè)有一跨越長導槽12的下框體31，該下框體31上設(shè)有一可向上擷取影像的光學影像處理模組35，其中光學影像處理模組35選自線性影像感光元件(Line Scan CCD)，供掃描、辨識、標示及儲存污染物，再者下檢測模組30于光學影像處理模組35 —側(cè)另設(shè)有一導光單元36，該導光單元36具有一光源37及一導光板38，其中導光板38可導引光源37的光線以線性方式照射于光學影像處理模組35的掃描位置，且導光單元36斜射的光線與光學影像處理模組35垂直的掃描線間形成有一夾角，使下檢測模組30的光學影像處理模組35僅能掃描到光罩70的下表面，再者下檢測模組30的導光單元36的導光板38可進一步加裝不同光譜的濾鏡，用以過濾光罩60下表面