專利名稱：蔭罩結構體及陰極射線管的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及設置于陰極射線管內部的蔭罩結構體。
背景技術：
在用于電視機及計算機用顯示器等的彩色陰極射線管的內部設置有進行選色的蔭罩結構體。
一般該蔭罩結構體，由選色蔭罩和對其進行支撐的蔭罩框架構成，該選色蔭罩由通過選擇性蝕刻形成多個電子束穿過孔的金屬薄板構成。作為代表性的選色蔭罩之一的是狹槽型蔭罩。該狹槽型蔭罩具有大致長方形的貫穿孔(狹槽)，該貫穿孔是電子束的穿過孔。
此外，作為又一代表例，有下述選色蔭罩，其具有多個細條基本體(也被稱為“格柵基本體”)以規(guī)定間隔排列的結構，相鄰的細條基本體之間的狹縫是電子束的穿過孔，該選色蔭罩被稱為“孔柵”。
作為孔柵相對于狹槽型蔭罩的優(yōu)點之一是耐熱特性?？讝爬O在蔭罩框架上，并在該細條基本體的長度方向上被施加張力。這樣，能夠抑制產生起因于選色蔭罩的熱膨脹的拱起現(xiàn)象，降低陰極射線管的圖像上的色偏。
來自于陰極射線管外部的沖擊及揚聲器的振動等通過蔭罩框架進行傳遞，以孔柵為代表的拉設于蔭罩框架上而使用的張緊型選色蔭罩僅通過保持張力不能充分地減振，而有時產生振動。該選色蔭罩的振動作為圖像的晃動被顯著地識別，是不優(yōu)選的現(xiàn)象。
因此，為了抑制選色蔭罩的振動，進行了各種探討。例如，專利文獻1～3中公開了抑制選色蔭罩的振動的技術。
專利文獻1特開平5-266819號公報專利文獻2特開平11-224615號公報專利文獻3特開平11-250825號公報在采用孔柵那樣的具有細條基本體的張緊型選色蔭罩的蔭罩結構體中，蔭罩框架和細條基本體的固有振動頻率相互一致時，如果從外部施加振動，則因蔭罩框架和細條基本體產生共振，從而，有時選色蔭罩的振動變得更大。
由于細條基本體的固有振動頻率依賴于施加在其上的張力，所以，通過調整施加在選色蔭罩上的張力，能夠使蔭罩框架和細條基本體的固有振動頻率相互不同。但是，如果減小施加在選色蔭罩上的張力，則選色蔭罩相對于來自外部的振動變得更容易振動，此外，如果增大張力，則需要提高蔭罩框架的剛性。因此，利用調整施加在選色蔭罩上的張力來抑制選色蔭罩的振動比較困難。

發(fā)明內容
因此，本發(fā)明是鑒于上述問題作出的，目的在于提供一種技術，該技術在具有細條基本體的張緊型選色蔭罩中，不用調整施加在其上的張力，就能夠抑制振動。
本發(fā)明的蔭罩結構體包括具有設有多個電子束穿過孔的有孔區(qū)域的選色蔭罩和拉設上述選色蔭罩并在第1方向上對上述選色蔭罩施加張力的蔭罩框架，上述有孔區(qū)域包括位于上述第1方向端部上的橋區(qū)域和至少在上述第1方向上與上述橋區(qū)域鄰接的狹縫區(qū)域，在上述狹縫區(qū)域中，設置有多個細條基本體和由相鄰的上述細條基本體的間隔所規(guī)定的狹縫，各細條基本體在上述第1方向上延伸，并在垂直于上述第1方向的第2方向上以規(guī)定的節(jié)距進行排列，在上述橋區(qū)域中，延伸有上述細條基本體，并設有連結相鄰的上述細條基本體的橋。
根據(jù)本發(fā)明的蔭罩結構體，通過調整有孔區(qū)域中的狹縫區(qū)域和橋區(qū)域所占的比例，能夠使蔭罩框架和狹縫區(qū)域中的細條基本體的固有振動頻率相互不同。因此，能夠不用調整施加在選色蔭罩上的張力地抑制狹縫區(qū)域的細條基本體的振動。


圖1是表示本發(fā)明的實施形式1的彩色陰極射線管的結構的剖視圖；圖2是表示本發(fā)明的實施形式1的蔭罩結構體的結構的立體圖；圖3是表示本發(fā)明的實施形式1的選色蔭罩結構的俯視圖；圖4是表示本發(fā)明的實施形式1的選色蔭罩的結構的俯視圖；圖5是表示本發(fā)明的實施形式1的選色蔭罩的變形例的結構的俯視圖；圖6是表示本發(fā)明的實施形式1的選色蔭罩的變形例的結構的俯視圖；圖7是表示本發(fā)明的實施形式1的選色蔭罩的其它變形例的結構的俯視圖；圖8是表示本發(fā)明的實施形式2的選色蔭罩結構的俯視圖；圖9是表示本發(fā)明的實施形式2的選色蔭罩的變形例的結構的俯視圖；圖10是表示本發(fā)明的實施形式2的選色蔭罩的變形例的結構的俯視圖；圖11是表示本發(fā)明的實施形式2的選色蔭罩的其它變形例的結構的俯視圖；圖12是表示本發(fā)明的實施形式2的選色蔭罩的變形例的結構的俯視圖；圖13是表示本發(fā)明的實施形式2的選色蔭罩的又一變形例的結構的俯視圖；圖14是表示細條基本體接觸的情況的圖；圖15是表示本發(fā)明的實施形式3的細條基本體的結構的圖；圖16是表示本發(fā)明的實施形式3的細條基本體的變形例的結構的圖；具體實施形式實施形式1圖1是表示本發(fā)明的實施形式1的彩色陰極射線管1的結構的剖視圖。如圖1所示，本實施形式1的彩色陰極射線管1具有在內表面上形成有熒光體屏面2的面屏板3和連接到面屏板3上的錐管4。
在錐管4的管頸部4a中設置有電子槍5，在面屏板3的內部設置具有選色蔭罩11和對其進行支撐的蔭罩框架12的蔭罩結構體10。此外，在錐管4的外側，安裝有使從電子槍5發(fā)出的電子束偏轉并進行掃描的偏轉線圈6。
蔭罩結構體10設置為，其選色蔭罩11與熒光體屏面2對置。從電子槍5發(fā)出的3束電子束7以分別著屏在熒光體屏面2的紅色用、綠色用、藍色用的熒光體上的方式通過選色蔭罩11進行選色。
接著，對本實施形式1的蔭罩結構體10進行詳細說明。圖2是表示蔭罩結構體10的結構的立體圖。圖中的X軸、Y軸及Z軸分別表示將蔭罩結構體10設置于錐管4內部中時的圖像水平方向、圖像垂直方向及管軸方向。
如圖2所示，蔭罩結構體10包括選色蔭罩11、拉設選色蔭罩11的蔭罩框架12、與選色蔭罩11接觸地設置的抑制選色蔭罩11的振動的振動衰減機構13。蔭罩框架12與選色蔭罩11的Y軸方向的兩端部接合，并對選色蔭罩11施加Y軸方向的張力。
圖3、圖4是表示選色蔭罩11的結構的俯視圖。圖3是整體圖，圖4是局部放大圖。如圖3所示，選色蔭罩11具有與蔭罩框架12的接合區(qū)域3 0和設有多個來自于電子槍5的電子束的穿過孔的有孔區(qū)域20。接合區(qū)域30位于選色蔭罩11的Y軸方向的兩端部上。而且，有孔區(qū)域20的位置是大致從選色蔭罩11的X軸方向的一端到另一端，在Y軸方向上被接合區(qū)域30夾持。此外，有孔區(qū)域20的尺寸對應于彩色陰極射線管1的圖像中的實際顯示圖像的有效區(qū)域的尺寸。
如圖3、圖4所示，有孔區(qū)域20具有作為孔柵作用的狹縫區(qū)域21和作為狹槽型蔭罩作用的橋區(qū)域22。橋區(qū)域22設于有孔區(qū)域20的Y軸方向的兩端部上，并從有孔區(qū)域20的X軸方向的一端延伸到另一端。狹縫區(qū)域21從有孔區(qū)域20的X軸方向的一端設置到另一端，并在Y軸方向上被橋區(qū)域22夾持。換言之，狹縫區(qū)域21在Y軸方向上與橋區(qū)域22鄰接。而且，狹縫區(qū)域21和橋區(qū)域22的概略分界線14在X軸方向上直線地延伸。
如圖4所示，在狹縫區(qū)域21中，設有分別在Y軸方向上延伸并在X軸方向上以規(guī)定的節(jié)距進行排列的多個細條基本體124。而且，在狹縫區(qū)域21中，設有由相鄰的細條基本體124的間隔所規(guī)定的多個狹縫123。此外，在本實施形式1中，狹縫123在Y軸方向上的長度相等，狹縫123在Y軸方向上的端面沿著X軸方向直線地排列。這樣，在狹縫區(qū)域21中，由于在X軸方向上，交替地設有狹縫123和細條基本體124，所以，狹縫區(qū)域21起將狹縫123作為電子束穿過孔的孔柵作用。
在橋區(qū)域22中，延伸有狹縫區(qū)域21的細條基本體124，細條基本體124與接合區(qū)域30連結。即，細條基本體124從位于選色蔭罩11的上端部的接合區(qū)域30延伸到位于下端部的接合區(qū)域30。下面，有時將僅存在于狹縫區(qū)域21中的細條基本體124稱為“細條基本體124a”，將僅存在于橋區(qū)域22中的細條基本體124稱為“細條基本體124b”。
在橋區(qū)域22中，設有連結相鄰的細條基本體124的橋25。相對于一組相鄰的細條基本體124設置多個橋25。而且，設有多個方形形狀的貫穿孔122，該貫穿孔由Y軸方向上相鄰的橋25或接合區(qū)域30及在Y軸方向上與其相鄰的橋25和相鄰的細條基本體124所圍成。
在本實施形式1的橋區(qū)域22中，位于狹縫123和在Y軸方向上與其相鄰的貫穿孔122之間的橋25沿著X軸方向直線地排列。因此，狹縫123在Y軸方向上的長度相等，且狹縫123在Y軸方向上的端面沿著X軸方向直線地排列。此外，其余的橋25配置成交錯狀。這樣，貫穿孔122的大部分被配置成交錯狀。
這樣，通過適當?shù)卦O置連結相鄰的細條基本體124的橋25，橋區(qū)域22起將貫穿孔122作為電子束穿過孔的狹槽型蔭罩作用。
如圖2所示，振動衰減機構13具有安裝于蔭罩框架12上的一對阻尼彈簧13a和拉設于該阻尼彈簧13a之間的阻尼線13b。阻尼線13b向X軸方向延伸，并與選色蔭罩11中的狹縫區(qū)域21的細條基本體124a接觸。而且，阻尼線13b被一對阻尼彈簧13a施加X軸方向的張力。
這樣，通過與狹縫區(qū)域21的細條基本體124a接觸地設置阻尼線13b，在阻尼線13b與細條基本體124a之間產生摩擦，能夠抑制選色蔭罩11的振動。
如上所述，在本實施形式1的蔭罩結構體10中，由于在有孔區(qū)域20中設有狹縫區(qū)域21和橋區(qū)域22，所以，通過調整各區(qū)域在有孔區(qū)域20中所占的比例，能夠調整狹縫區(qū)域21中的細條基本體124a的固有振動頻率。
具體而言，通過增加橋區(qū)域22在Y軸方向上的尺寸，從而狹縫區(qū)域21在Y軸方向上的尺寸變小，細條基本體124a在Y軸方向上的尺寸變小。弦的固有振動頻率與其長度成反比，結果，細條基本體124a的固有振動頻率變大。
另一方面，通過減小橋區(qū)域22在Y軸方向上的尺寸，從而狹縫區(qū)域21在Y軸方向上的尺寸變大，細條基本體124a在Y軸方向上的尺寸變大。結果，細條基本體124a的固有振動頻率變小。
這樣，通過調整狹縫區(qū)域21和橋區(qū)域22在有孔區(qū)域20中所占的比例，能夠調整狹縫區(qū)域21中的細條基本體124a的固有振動頻率。因此，不用調整施加在細條基本體124a上的張力，就能夠使蔭罩框架12和細條基本體124a的固有振動頻率相互不同。結果，能夠抑制蔭罩框架12和細條基本體124a的共振所引起的選色蔭罩11的振動。
而且，由于在有孔區(qū)域20的Y軸方向的端部設有作為狹槽型蔭罩作用的橋區(qū)域22，所以，在彩色陰極射線管1的圖像的Y軸方向的端部不會產生圖象質量劣化。
而且，通過在彩色陰極射線管1中采用這種蔭罩結構體10，能夠向用戶提供高品位圖象質量。
此外，如果相鄰的狹縫123在Y軸方向上的長度相互不同，則對選色蔭罩11施加張力時，施加在狹縫123附近的應力也相互產生差別，所以，比較容易產生使狹縫123向X軸方向變形的力。但是，在本實施形式1中，由于相鄰的狹縫123在Y軸方向上的長度相同，所以，能夠降低狹縫123中所產生的X軸方向的力。
另外，在本實施形式1中，盡管將橋區(qū)域22從有孔區(qū)域20的X軸方向的一端設置到另一端，但也可以如圖5、圖6所示，利用狹縫區(qū)域21將橋區(qū)域22斷開，使到達接合區(qū)域30的狹縫123介于橋區(qū)域22之間。換言之，也可以在有孔區(qū)域20的Y軸方向的端部上設置沿X軸方向排列的多個橋區(qū)域22，并使狹縫區(qū)域21的狹縫123介于相鄰的橋區(qū)域22之間。另外，圖6是圖5的A部分的放大圖。
這樣，通過使狹縫123介于相鄰的橋區(qū)域22之間，比圖3所示的選色蔭罩11更能抑制在橋區(qū)域22中產生拱起現(xiàn)象。另外，即使在這種情況下，在狹縫區(qū)域21中，于狹縫123的長度相等的部分中，也能象上述那樣減小狹縫123中所產生的X軸方向的力。
此外，在本實施形式1中，盡管在有孔區(qū)域20的Y軸方向的兩端部上設置橋區(qū)域22，但也可以如圖7所示，將橋區(qū)域22設置于有孔區(qū)域20的Y軸方向的任一端部上。此時，狹縫區(qū)域21延伸到不設置橋區(qū)域22的端部。
此外，在本實施形式1中，盡管只設置一條阻尼線13b，但也可以設置多對阻尼彈簧13a，并設置多條阻尼線13b。
此外，在本實施形式1中，盡管采用了具有阻尼線13b的振動衰減機構13，但是，也可以采用專利文獻2、3中所公開的振動衰減機構來代替該振動衰減機構13。
實施形式2圖8是表示本發(fā)明的實施形式2的選色蔭罩51的俯視圖。本實施形式2的選色蔭罩51是在上述實施形式1的選色蔭罩11中、將狹縫123和在Y軸方向上與其相鄰的貫穿孔122之間的橋25的配置進行變形的蔭罩，這樣，相鄰的狹縫123的長度相互不同。
如圖8所示，在橋區(qū)域22中，位于狹縫123和在Y軸方向上與其相鄰的貫穿孔122之間的橋25沿X軸方向被配置成交錯狀。結果，在整個橋區(qū)域22中，橋25被配置成交錯狀。此外，選色蔭罩51的上端部的橋區(qū)域22和下端部的橋區(qū)域22的橋25的配置相對于選色蔭罩51在Y軸方向上的中心軸，成為對稱配置。
在橋區(qū)域22中，通過這樣配置橋25，從而在狹縫區(qū)域21中，在Y軸方向上具有長度x的狹縫123和在Y軸方向上具有比長度x短的長度y的狹縫123交替地排列。此外，由于橋25的這種配置，狹縫區(qū)域21和橋區(qū)域22的分界線14形成以排列狹縫123的間隔進行彎曲的波形。關于其它結構，由于與實施形式1的選色蔭罩11相同，所以省略其說明。
這樣，在本實施形式2的選色蔭罩51中，由于相鄰的狹縫123的長度相互不同，所以，狹縫區(qū)域21中的相鄰的細條基本體124a的形狀變得相互不同。因此，通過在蔭罩結構體10中采用本實施形式2的選色蔭罩51來代替選色蔭罩11，從而，相鄰的細條基本體124a的振動方式變得相互不同。另外，在圖8中，用左上斜線表示狹縫區(qū)域21中的細條基本體124a。
相鄰的細條基本體124a的振動方式相同時，在細條基本體124a之間容易產生共振。但是，在本實施形式2中，由于使相鄰的細條基本體124a的振動方式不同，所以，能夠抑制在細條基本體124a之間產生共振。
此外，在蔭罩結構體10中，象圖2所示的振動衰減機構13及專利文獻2、3所公開的振動衰減機構那樣，采用與選色蔭罩接觸地設置的振動衰減機構時，如果相鄰的細條基本體124a的振動方式相同，則有時該振動衰減機構有助于細條基本體124a之間的共振。例如，在上述振動衰減機構13中，振動通過阻尼線13b進行傳遞，從而有時相鄰的細條基本體124a產生共振。
在本實施形式2中，由于相鄰的細條基本體124a的振動方式相互不同，所以也能夠抑制由與選色蔭罩接觸地設置的振動衰減機構所形成的在細條基本體124a之間產生的共振。
另外，在本實施形式2中，盡管交替地排列長狹縫123和短狹縫123，但在狹縫區(qū)域21中，也可以設置狹縫123在Y軸方向上的長度單調增加或單調減少的部分。
例如，也可以如圖9、圖10所示，以狹縫區(qū)域21和橋區(qū)域22的分界線14整體成為大致曲線的形式，沿著沿X軸方向延伸的曲線80配置狹縫123和在Y軸方向上與其相鄰的貫穿孔122之間的橋25，并在狹縫區(qū)域21中設置狹縫123的長度單調變化的部分。另外，圖10是圖9的B部分的放大圖。
此外，也可以如圖11、12所示，以狹縫區(qū)域21和橋區(qū)域22的分界線14整體大致成為三角波形狀的形式，沿著沿X軸方向延伸的三角波形狀的線81配置狹縫123和在Y軸方向上與其相鄰的貫穿孔122之間的橋25，并設置狹縫123的長度單調變化的部分。另外，圖12是圖11的C部分的放大圖。
這樣，通過在狹縫區(qū)域21中設置狹縫123的長度單調變化的部分，從而相鄰的細條基本體124a的長度變得相互不同。結果，由于相鄰的狹縫123的形狀和固有振動頻率變得相互不同，所以，能夠進一步抑制在細條基本體124a之間產生共振。
而且，由于狹縫123的長度階段性地變化，所以，將選色蔭罩51拉設于蔭罩框架12上時，能夠抑制施加在狹縫123的X軸方向上的力。
此外，此時，蔭罩結構體10具有與選色蔭罩接觸地設置的振動衰減機構時，能夠進一步抑制產生因振動衰減機構而在細條基本體124a之間引起的共振。
另外，在專利文獻1中也公開了通過使相鄰的細條基本體的長度相互不同來抑制因阻尼線而在細條基本體之間所引起的共振的技術。但是，此時，由于細條基本體的長度差在陰極射線管的圖像上被識別為凹凸狀，因此，產生在圖像的垂直方向端部不正確地顯示圖像的問題。
另一方面，在本實施形式2中，由于在有孔區(qū)域20的Y軸方向的端部上設有作為狹槽型蔭罩作用的橋區(qū)域22，所以，能夠在圖像的垂直方向的端部上正確地顯示圖像。
此外，在本實施形式2中，盡管從有孔區(qū)域20的X軸方向的一端到另一端設置了橋區(qū)域22，但是，也可以利用狹縫區(qū)域21將橋區(qū)域22斷開，并使到達接合區(qū)域30的狹縫123介于橋區(qū)域22之間。例如，如圖13所示，通過在狹縫區(qū)域21中設置狹縫123在Y軸方向上的長度單調變化的部分的同時，使狹縫123介于橋區(qū)域22之間，能夠抑制在細條基本體124a之間產生共振的同時，能夠抑制在橋區(qū)域22中產生拱起現(xiàn)象。
實施形式3在上述實施形式1、2中，在狹縫區(qū)域21中，有時產生下述情況，相鄰的細條基本體124a因振動相互接觸，并產生摩擦而重合在一起不恢復原來的狀態(tài)，產生糾合現(xiàn)象(下面稱為“格柵聚合”)。
圖14表示細條基本體124a因振動而接觸的情況，圖14(a)表示接觸前的情況，圖14(b)表示接觸后的情況。
如圖14(a)所示，如果因選色蔭罩的振動，向相鄰的細條基本體124a施加箭頭所示方向的力，則如圖14(b)所示，細條基本體124a彼此以線接觸的方式進行接觸。因此，有時在細條基本體124a之間產生大的摩擦，而產生格柵聚合。
因此，在本實施形式3中，通過在狹縫區(qū)域21的細條基本體124a上設置向X軸方向突出的突起部，在細條基本體124a彼此接觸時，降低它們之間所產生的摩擦，從而抑制格柵聚合。以下進行詳細說明。
圖15是表示本實施形式3的狹縫區(qū)域21的細條基本體124a的形狀的圖。另外，圖15(a)表示細條基本體124a因振動而接觸之前的情況，圖15(b)表示接觸后的情況。
如圖15所示，在細條基本體124a的X軸方向的兩端面上設有向X軸方向突出并不連結相鄰的細條基本體124a的突起部16。在本實施形式3中，在相鄰的細條基本體124a中，設于相互面對的各端面上的突起部16在Y軸方向上的位置相同，并相互對置地配置。此外，突起部16的前端形狀為例如圓弧形。
這樣，通過至少在狹縫區(qū)域21的細條基本體124a上設置突起部16，在對細條基本體124a施加圖15(a)的箭頭所示方向的力時，如圖15(b)所示，細條基本體124a彼此進行點接觸。因此，細條基本體124a間的接觸面積減小，所產生的摩擦減小。結果，格柵聚合的產生得到抑制。
另外，突起部16不需要一定設置在細條基本體124a的兩端面上，如圖16(a)所示，也可以僅設置在細條基本體124a的X軸方向的一個端面上。此時，在相鄰的細條基本體124a中，于相同一側的端面上設置突起部16。
此外，即使在細條基本體124a的兩端面上設置突起部16，也可以如圖16(b)所示，在相鄰的細條基本體124a上，設于相互面對的各端面上的突起部16在Y軸方向上的位置相互不同地進行配置。
此外，在本實施形式3中，盡管突起部16的前端形狀為圓弧形，但由于只要能夠降低相鄰的細條基本體124a間的接觸面積即可，所以突起部16的前端形狀也可以是該形狀以外的形狀。
權利要求
1.一種蔭罩結構體，包括具有設有多個電子束穿過孔的有孔區(qū)域的選色蔭罩、和拉設上述選色蔭罩并在第1方向上對上述選色蔭罩施加張力的蔭罩框架，上述有孔區(qū)域包括位于上述第1方向端部上的橋區(qū)域和至少在上述第1方向上與上述橋區(qū)域鄰接的狹縫區(qū)域，在上述狹縫區(qū)域中，設置有多個細條基本體和由相鄰的上述細條基本體的間隔所規(guī)定的狹縫，各細條基本體在上述第1方向上延伸，并在垂直于上述第1方向的第2方向上以規(guī)定的節(jié)距進行排列，在上述橋區(qū)域中，延伸有上述細條基本體，并設有連結相鄰的上述細條基本體的橋。
2.如權利要求1所述的蔭罩結構體，上述有孔區(qū)域具有沿上述第2方向排列的多個上述橋區(qū)域，上述狹縫介于相鄰的上述橋區(qū)域之間。
3.如權利要求1及2任一項所述的蔭罩結構體，在上述狹縫區(qū)域中，至少在一部分中，相鄰的上述狹縫在上述第1方向上的長度相同。
4.如權利要求1及2任一項所述的蔭罩結構體，在上述狹縫區(qū)域中，至少在一部分中，相鄰的上述狹縫在上述第1方向上的長度相互不同。
5.如權利要求4所述的蔭罩結構體，在上述狹縫區(qū)域中，在上述第1方向上具有第1長度的上述狹縫和在上述第1方向上具有比上述第1長度短的第2長度的上述狹縫交替地排列。
6.如權利要求4所述的蔭罩結構體，在上述狹縫區(qū)域中，上述狹縫在上述第1方向上的長度單調地變化。
7.如權利要求4所述的蔭罩結構體，還包括與上述選色蔭罩接觸地設置的振動衰減機構。
8.如權利要求7所述的蔭罩結構體，上述振動衰減機構具有阻尼線，該阻尼線沿上述第2方向延伸，并在上述第2方向上被施加張力，而且與上述狹縫區(qū)域的上述至少一部分的上述細條基本體接觸。
9.如權利要求1及2任一項所述的蔭罩結構體，上述狹縫區(qū)域中的上述細條基本體具有向上述第2方向突出的突起部。
10.一種陰極射線管，是具有蔭罩結構體的陰極射線管，上述蔭罩結構體包括具有設有多個電子束穿過孔的有孔區(qū)域的選色蔭罩、和拉設上述選色蔭罩并在第1方向上對上述選色蔭罩施加張力的蔭罩框架，上述有孔區(qū)域包括位于上述第1方向端部上的橋區(qū)域和至少在上述第1方向上與上述橋區(qū)域鄰接的狹縫區(qū)域，在上述狹縫區(qū)域中，設置有多個細條基本體和由相鄰的上述細條基本體的間隔所規(guī)定的狹縫，各細條基本體在上述第1方向上延伸，并在垂直于上述第1方向的第2方向上以規(guī)定的節(jié)距進行排列，在上述橋區(qū)域中，延伸有上述細條基本體，并設有連結相鄰的上述細條基本體的橋。
全文摘要
提供一種技術，即在具有細條基本體的張緊型選色蔭罩中、不用調整施加在其上的張力，就能夠抑制振動的技術。在選色蔭罩中設置具有狹縫區(qū)域(21)和橋區(qū)域(22)的有孔區(qū)域(20)。橋區(qū)域(22)設于有孔區(qū)域(20)的上下端部上。在狹縫區(qū)域(21)中，交替地排列有作為電子束穿過孔的狹縫(123)和細條基本體(124)。此外，在橋區(qū)域(22)中，延伸有細條基本體(124)，并設有連結相鄰的細條基本體(124)的橋(25)和作為電子束穿過孔的貫穿孔(122)。
文檔編號H01J29/80GK1518039SQ20041000299
公開日2004年8月4日 申請日期2004年1月21日 優(yōu)先權日2003年1月21日
發(fā)明者秋山裕介, 綿貫晴夫, 牧野惠三, 狩田利一, 中澤雅博, 一, 三, 博, 夫 申請人:三菱電機株式會社