專利名稱：：金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜及金屬圖案形成方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜及金屬圖案形成方法，更詳細(xì)地說，涉及適于形成電阻低的電極的金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜及金屬圖案形成方法o
背景技術(shù)：
：近年來，對于電路基板、顯示板的圖案加工，高密度化和高精細(xì)化的要求不斷增高。在這種要求不斷增高的顯示板中，尤為關(guān)注等離子體顯示板(以下也稱為"PDP")、場致發(fā)射顯示器(以下也稱為"FED")等平板顯示器(以下也稱為"FPD")
發(fā)明內(nèi)容圖l是表示交流型PDP的截面形狀的示意圖。在圖1中，101和102是相對配置的玻璃基板，103是隔壁，通過玻璃基板101、玻璃基板102、隔壁103區(qū)劃形成單元。104是固定于玻璃基板101上的透明電極，105是為了降低透明電極104的電阻而在該透明電極104上形成的匯流電極，106是固定于玻璃基板102的定址電極。107是保持于單元內(nèi)的熒光物質(zhì)，108是以覆蓋透明電極104和匯流電極105的方式形成于玻璃基板101內(nèi)面的介電體層，109是以覆蓋定址電極106的方式形成于玻璃基板102內(nèi)面的介電體層，IIO是由例如氧化鎂形成的保護膜。此外，對于彩色PDP，為了獲得對比度高的圖像，在玻璃基板與介電體層之間，設(shè)有濾色器(紅色、綠色、藍(lán)色)、黑矩陣等，或者為了提高發(fā)光輝度而i殳置前面隔壁。用于這種FPD的電極，希望電阻低。作為電極的制造方法，一般使用通過含有導(dǎo)電性粉體的導(dǎo)電性漿料來形成電極的方法。但是，采用該方法，則不可避免導(dǎo)電性漿料中所含的膠粘劑、表面活性劑等作為雜質(zhì)而殘留在電極中，因此由于這些雜質(zhì)而使電極的電阻增高，難以制造電阻低的電極。因此，作為制造電阻低的電極的方法，開發(fā)出使用金屬箔來形成電極的方法(參照特開昭57-40810號公報)。由于金屬箔由純金屬形成，因此能夠降低電極的電阻。然而，金屬箔對玻璃基板的粘接性低。因此，開發(fā)出如下的方法為了使金屬箔粘接于玻璃基板上，將玻璃漿料夾持在金屬箔與玻璃基板之間，由此使金屬箔粘接于玻璃基板上(參照特開平8-293259號公報)。具體而言，在玻璃基板上設(shè)置玻璃漿料層，在其上層疊金屬箔、抗蝕劑層而形成層疊體。對該層疊體進行曝光處理，在抗蝕劑層形成抗蝕劑圖案的潛影，進而進行顯影處理，在抗蝕劑層上顯露出抗蝕劑圖案。對其進行蝕刻處理，形成對應(yīng)于抗蝕劑圖案的金屬箔的圖案。然后，將其進行煅燒，除去抗蝕劑層，由此來制造電極。然而，如果使用玻璃漿料，則存在如下問題在前述的顯影工序中，玻璃漿料層會溶脹，從而喪失玻璃漿料層的平滑性，有損FPD部件的透明性。進而，還存在因該玻璃漿料層的溶脹而使玻璃漿料層從基板上脫離的問題。此外，如果使用金屬箔，則必須通過蝕刻將金屬層溶解除去，因此必須在比使用導(dǎo)電性漿料的情況強烈的條件下進行蝕刻處理。在這樣的條件下進行蝕刻處理，則有在該處理中抗蝕劑層容易從金屬箔上剝離的問題。專利文獻l:特開昭57-40810號7>才艮專利文獻2:特開平8-293259號〃>才艮
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于解決在電極材料中使用金屬箔等來制造FPD部件時所產(chǎn)生的上述問題。即，本發(fā)明的目的是提供一種在顯影工序中能夠維持FPD部件的透明性、并能夠防止金屬箔從玻璃漿料層剝離的材料及方法。此外，本發(fā)明的目的還在于提供在蝕刻工序中能夠防止抗蝕劑層從金屬箔上脫離的材料和方法。實現(xiàn)上述目的的本發(fā)明是一種金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜，其特征在于，在支持膜上按(A)抗蝕劑層、(B)厚為12(Him的金屬層以及(C)玻璃漿料層的順序?qū)盈B而成，所述(C)玻璃漿料層用(C，)玻璃漿料形成，該(C，)玻璃漿料含有(a)玻璃粉末和(b)粘結(jié)樹脂，其中，該粘結(jié)樹脂的來自具有親水性基團的單體的構(gòu)成成分為5質(zhì)量％以下；此外，本發(fā)明是一種金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜，其特征在于，在支持膜上按(B)厚為120nm的金屬層以及(C)玻璃漿料層的順序?qū)盈B而成，所述(c)玻璃漿料層用(c，)玻璃漿料形成，該(c，)玻璃漿料含有(a)玻璃粉末和(b)粘結(jié)樹脂，其中，該粘結(jié)樹脂來自具有親水性基團的單體的構(gòu)成成分為5質(zhì)量％以下。作為優(yōu)選的方式，所述(b)粘結(jié)樹脂是僅由(甲基)丙烯酸烷基酯形成的樹脂；所述金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜中，所述(C，)玻璃漿料還含有(c)溶劑；所述(B)金屬層由選自Ag、Au、Al和Cu中的至少一種形成；所述(B)金屬層由金屬箔形成；所述(B)金屬層通過真空制膜法形成；所述金屬圖案是平板顯示器部件。此外，本發(fā)明是一種金屬圖案形成方法，其特征在于，包括如下工序?qū)盈B工序，在玻璃基板上形成按(C)玻璃漿料層、(B)厚為1~20jim的金屬層以及(A)抗蝕劑層的順序?qū)盈B而成的層疊體，其中，所述(C)玻璃漿料層用(C，)玻璃漿料形成，該(C，)玻璃漿料含有(a)玻璃粉末和(b)粘結(jié)樹脂，該粘結(jié)樹脂的來自具有親水性基團的單體的構(gòu)成成分為5質(zhì)量％以下；曝光工序，對所述層疊體進行曝光處理，在所述(A)抗蝕劑層上6形成抗蝕劑圖案的潛影；顯影工序，對經(jīng)過上述曝光工序的所述層疊體進行顯影處理，在所述(A)抗蝕劑層上顯露出抗蝕劑圖案；蝕刻工序，對經(jīng)過上述顯影工序的所述層疊體進行蝕刻處理，形成對應(yīng)于抗蝕劑圖案的金屬層的圖案；煅燒工序，煅燒經(jīng)過上述蝕刻工序的所述層疊體。作為優(yōu)選的方式，所述金屬圖案形成方法將所述層疊體浸漬在蝕刻液中來進行所述蝕刻工序；將所述層疊體浸漬在蝕刻液中來進行所述顯影工序和所述蝕刻工序；包括在所述曝光潛影形成工序之后所述顯影工序之前、或者在所述顯影工序之后所述蝕刻工序之前，加熱所述層疊體，使所述抗蝕劑層固化的加熱固化工序；包括在所述顯影工序之后所述蝕刻工序之前，將所述層疊體曝光，使所述抗蝕劑層固化的曝光固化工序。此外，作為所述金屬圖案形成方法優(yōu)選的方式，所述金屬圖案是平板顯示器部件。根據(jù)本發(fā)明的金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜及金屬圖案形成方法，能夠制造電阻低的電極，進而在顯影工序中，通過防止玻璃漿料的溶脹，能夠維持FPD部件等的金屬圖案的透明性，能夠阻止金屬箔從玻璃漿料層剝離，此外在蝕刻工序中，能夠防止抗蝕劑層從金屬箔脫離。圖l是表示交流型FPD(具體為PDP)的截面形狀的示意圖。符號說明101玻璃基板102玻璃基板103背面隔壁104透明電極105匯it電極106定址電極107熒光物質(zhì)108介電體層109介電體層110保護層具體實施方式<金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜>本發(fā)明的金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜，是在支持膜上按(A)抗蝕劑層、(B)厚為1~20pm的金屬層以及(C)玻璃漿料層的順序?qū)盈B而成的，或者是在支持膜上按(B)厚為1~20nm的金屬層以及(C)玻璃漿料層的順序?qū)盈B而成的。(A)抗蝕劑層作為形成本發(fā)明的抗蝕劑層的材料，沒有特別限制，可以使用公知的光致抗蝕劑。可以是負(fù)型，也可以是正型。從與正型相比固化所需的曝光量小的觀點出發(fā)，最優(yōu)選負(fù)型。本發(fā)明的抗蝕劑層含有例如感光性單體、光聚合引發(fā)劑和粘結(jié)劑。所述感光性單體是通過曝光而聚合，從而在顯影液中的溶解性發(fā)生變化的物質(zhì)，例如，是通過曝光而聚合，從而曝光部分變?yōu)閴A不溶性或堿難溶性的物質(zhì)。作為感光性單體，使用這樣的通過曝光而變?yōu)閴A不溶性等的物質(zhì)，容易獲得曝光部與未曝光部的對比度，因此具有能夠?qū)崿F(xiàn)圖案的高精細(xì)化、且容易控制圖案形狀的優(yōu)點。作為這樣的通過曝光而變?yōu)閴A不溶性等的物質(zhì)，可以列舉例如含有乙烯性不飽和基團的化合物，優(yōu)選多官能(曱基)丙烯酸酯。作為所述含有乙烯性不飽和基團的化合物，可以列舉乙二醇、丙二醇等烷撐二醇的二(甲基)丙烯酸酯類；聚乙二醇、聚丙二醇等聚烷撐二醇的二(甲基)丙烯酸酯類；兩末端羥基聚丁二烯、兩末端羥基聚異戊二烯、兩末端羥基聚己內(nèi)酯等兩末端羥基化聚合物的二(甲基)丙烯酸酯類；甘油、1，2，4-丁三醇、三羥甲基烷烴、四羥甲基烷烴、季戊四醇、二季戊四醇等三元以上的多元醇的聚(甲基)丙烯酸酯類；三元以上的多元醇的聚烷撐二醇加成物的聚(曱基)丙烯酸酯類；1，4-環(huán)己二醇、l，4-苯二酚等環(huán)式多元醇的聚(甲基)丙烯酸酯類；聚酯(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧(甲基)丙烯酸酯、聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、醇酸樹脂(甲基)丙烯酸酯、硅酮樹脂(甲基)丙烯酸酯、螺環(huán)樹脂(甲基)丙烯酸酯等寡(甲基)丙烯酸酯類等。它們可以單獨使用或兩種以上組合〗吏用。其中，特別優(yōu)選使用三羥甲基丙烷三丙烯酸酯等。作為上述多官能性(甲基)丙烯酸酯的分子量，優(yōu)選為100~2000。作為本發(fā)明的抗蝕劑層中的感光性單體的含有比例，相對于粘結(jié)樹脂100質(zhì)量份，通常為5~100質(zhì)量份，優(yōu)選為1070質(zhì)量份。作為上述光聚合引發(fā)劑的具體例，可以列舉二苯甲酰、苯偶姻、二苯甲酮、樟腦醌、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-羥基環(huán)己基苯基酮、2，2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2-曱基-[4，-(甲石?；?苯基1一2-嗎啉4戈—1-丙酮、2-節(jié)基-2-二甲氨基一l一(4-嗎啉代苯基)-丁烷-1-酮等羰基化合物；偶氮異丁腈、4-疊氮苯甲醛等偶氮化合物或疊氮化合物；硫醇二硫化物、雙(2，4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦等有機硫化合物；過氧化苯甲酰、二叔丁基過氧化物、叔丁基過氧化氫、枯烯過氧化氫、對蓋烷過氧化氫等有機過氧化物；1，3-雙(三氯甲基)一5-(2，一氯苯基)一l，3，5-三溱、2-[2-(2-呋喃基)乙烯基]-4,6-(三氯甲基)-1,3,5-三嗪等三卣代曱烷類；2，2，-雙(2-氯苯基)4，5，4，，5，-四苯基l，2，-雙咪唑等咪唑二聚體等。它們可以單獨使用或兩種以上組合使用。作為本發(fā)明的抗蝕劑層中的光聚合引發(fā)劑的含有比例，相對于感光性單體100質(zhì)量份，通常為5~100質(zhì)量份，優(yōu)選為1050質(zhì)量份。作為所述粘結(jié)樹脂，可以使用各種樹脂，優(yōu)選使用以30~100質(zhì)量0/o的比例含有堿可溶性樹脂的粘結(jié)樹脂。在此，所謂"堿可溶性，，是指具有利用堿性顯影液溶解、并可完成目標(biāo)顯影處理的程度的溶解性的性質(zhì)。使用堿可溶性樹脂具有如下優(yōu)點，即，通過改變例如含羧基單體的含量，可以控制在堿顯影液中的溶解速度、圖案形狀。作為所述的堿可溶性樹脂的具體例，可以列舉例如(甲基)丙烯酸系樹脂、羥基苯乙烯樹脂、酚醛清漆樹脂、聚酯樹脂等。在這樣的堿可溶性樹脂中，特別優(yōu)選下述的單體(一)和單體(三)的共聚物，單體(一)、單體(二)和單體(三)的共聚物等丙烯酸類樹脂。單體(一):含羧基單體類丙烯酸、曱基丙烯酸、馬來酸、富馬酸、巴豆酸、衣康酸、檸康酸、中康酸、桂皮酸、琥珀酸單(2-(甲基)丙烯酰氧基乙基)酯、(c-羧基-聚己內(nèi)酯單(甲基)丙烯酸酯等。單體(二)含OH基單體類(曱基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯等含羥基單體類；鄰羥基苯乙烯、間羥基苯乙烯、對羥基苯乙烯等含酚性羥基的單體類等。單體(三)其他能夠共聚的單體類(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(曱基)丙烯酸正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸節(jié)酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸環(huán)己酯、(甲基)丙烯酸二(四氳雙環(huán)戊二烯基)酯(dicyclopentanyl(metha)acrylate)等單體(一)以外的(甲基)丙烯酸酯類；ct—(羥甲基)丙烯酸甲酯、a一(羥甲基)丙烯酸乙酯、ot—(羥甲基)丙烯酸正丁酯等具有a—羥甲基的丙烯酸酯；苯乙烯、a—甲基苯乙烯等芳香族乙烯基系單體類；丁二烯、異戊二烯等共軛二烯類；聚苯乙烯、聚(甲基)丙烯酸甲酯、聚(甲基)丙烯酸乙酯、聚(甲基)丙烯酸節(jié)酯等在聚合物鏈的一個末端具有(甲基)丙烯?；染酆闲圆伙柡突鶊F的高分子單體類等。上述單體(一)和單體(三)的共聚物或單體(一)、單體(二)和單體(三)的共聚物，由于單體(一)的共聚成分的存在，成為具有堿可溶性的物質(zhì)。其中，從(A)無機粉體的分散穩(wěn)定性及在后述堿顯影液中的溶解性的觀點出發(fā)，特別優(yōu)選單體(一)、單體(二)和單體(三)的共聚物。該共聚物中的來自單體(一)的共聚成分的含有率優(yōu)選為5~60質(zhì)量％，特別優(yōu)選10~40質(zhì)量％;來自單體(二)的共聚成分的含有率優(yōu)選為1~50質(zhì)量％，特別優(yōu)選5~30質(zhì)量。/0。作為本發(fā)明組合物中所用的堿可溶性樹脂的特別優(yōu)選的組成，可列舉曱基丙烯酸/曱基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸環(huán)己酯共聚物、曱基丙烯酸/甲基丙烯酸2-羥基丙酯/甲基丙烯酸正丁酯共聚物、以及甲基丙烯酸/琥珀酸單(2-(曱基)丙烯酰氧基乙基)酯/甲基丙烯酸2-羥基丙酯/甲基丙烯酸正丁酯共聚物等。作為上述堿可溶性樹脂的分子量，優(yōu)選Mw為5，000~5,000,000，進一步優(yōu)選10,000~300,000。本發(fā)明的抗蝕劑層優(yōu)選能夠通過加熱或曝光而固化。如果能夠使抗蝕劑層固化，則通過在蝕刻前使抗蝕劑層固化，抗蝕劑層與金屬層之間的粘接變得牢固，即使在強烈的條件下進行蝕刻處理，也能夠防止抗蝕劑層從金屬層脫離。本發(fā)明的抗蝕劑層中，作為任意成分，可以含有顏料、增粘劑、增塑劑、分散劑、顯影促進劑、粘接助劑、防暈劑、流平劑、保存穩(wěn)定劑、消泡劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、增感劑、鏈轉(zhuǎn)移劑等各種添加劑。本發(fā)明的抗蝕劑層的厚度通常為0.1~40nm，優(yōu)選為0.5~20nm。(B)金屬層本發(fā)明的金屬層是指基本上不含金屬以外的成分的層。本發(fā)明的金屬層的厚度為l~20jim。金屬層的厚度小于ljim時，ii難以減小電極的電阻值。金屬層的厚度大于20nm時，蝕刻時溶解除去金屬層需要長時間，在此期間容易產(chǎn)生抗蝕劑層從金屬層上剝離等問題。作為構(gòu)成金屬層的金屬種類，只要能夠形成電極則沒有特別限制，優(yōu)選為選自Ag、Au、Al和Cu中的至少一種。也可以是以這些元素作為基礎(chǔ)的合金。作為金屬層，只要能夠形成所述厚度的金屬層則其形成方法沒有特別限制，可以使用通過各種方法形成的金屬層。例如，本發(fā)明的金屬層可以使用鋁箔等金屬箔來形成。在這種情況下，可以層疊數(shù)片金屬箔。此外，金屬箔可以通過真空蒸鍍法和濺射法等真空制膜法形成。使用金屬箔形成金屬層時，所用的金屬箔厚度通常為l~20nm，優(yōu)選3~15nm,進一步優(yōu)選5~12fim。(C)玻璃漿料層利用本發(fā)明的膜制造電極時，玻璃漿料層存在于金屬層與玻璃基板之間，具有使金屬層與玻璃基板粘接的作用。本發(fā)明的玻璃漿料層用(c，)玻璃漿料形成，該(c，)玻璃漿料含有(a)玻璃粉末和(b)粘結(jié)樹脂，其中，該粘結(jié)樹脂來自具有親水性基團的單體的構(gòu)成成分為5質(zhì)量％以下。此外，(C，)玻璃漿料還可以含有(c)溶劑。(a)玻璃粉末作為構(gòu)成本發(fā)明的含無機粉體的樹脂組合物的玻璃粒子，優(yōu)選軟化點在40o-6oor;范圍內(nèi)的玻璃粉末，特別優(yōu)選在4so58ot:范圍內(nèi)的玻璃粉末。即使是軟化點小于400t:或超過600"的玻璃粉末，也能夠形成良好的圖案形狀，但玻璃粉末的軟化點小于4oor;時，在煅燒工序中，在粘結(jié)樹脂等有機物質(zhì)沒有被完全分解除去的階段，玻璃粉末熔融，因此，在所形成的玻璃燒結(jié)體中會殘留部分有機物質(zhì)，其結(jié)果是，有時所得的玻璃燒結(jié)體會著色，或者揮發(fā)物對板產(chǎn)生不良影響。另一方面，玻璃粉末的軟化點超過600"C時，由于必須在高于600"的高溫下進行煅燒，因此玻璃基板容易產(chǎn)生變形等。作為優(yōu)選的玻璃粉末的具體例，可以例舉I.氧化硼、氧化硅、氧化鋁(B203-Si02-Al203系)的混合物，n.氧化硼、氧化硅、氧化鋅(B203-Si02-ZnO系)的混合物，m.氧化硼、氧化硅、氧化鋁、氧化鋅(B203-Si02-Al203-ZnO系)的混合物等。玻璃粒子的平均粒徑(D50)通常為0.1~5nm。(b)粘結(jié)樹脂本發(fā)明的玻璃漿料層中所含的粘結(jié)樹脂，相對于其構(gòu)成成分總體，來自具有親水性基團的單體的構(gòu)成成分的比例是5質(zhì)量％以下，特別優(yōu)選0質(zhì)量％。所述粘結(jié)樹脂如果含有來自具有親水性基團的單體的構(gòu)成成分多于5質(zhì)量％，則在顯影中粘結(jié)樹脂會吸收大量的水，因此玻璃漿料層會溶脹，喪失玻璃漿料層的平滑性，作為金屬圖案的FPD部件的透明性受損的可能性變高。此外，由于該玻璃漿料層的溶脹，玻璃漿料層從基板上脫離的可能性變高。此處所說的"親水性基團"包括"強親水性基團"和"親水性不太強的基團"，不包括"親水性小的基團"。在此，所謂"強親水性基團"是指國SOsH、-S03M(M是堿金屬或-NH4，下同)、-OS03H、-OS03M、-COOM和-NRsX(R是烷基，X是卣素)等。所謂"親水性不太強的基團，，是指-COOH、-NH2、-CN、-OH、-NHCONH2以及畫(OCH2CH2)n等。所謂"親水性小的基團，，是指-CH20CH"-OCH3、-<:00(:113和《8等。具體而言，作為具有親水性基團的單體，可以列舉例如丙烯酸、甲基丙烯酸、馬來酸、富馬酸、巴豆酸、衣康酸、檸康酸、中康酸、桂皮酸、琥珀酸單(2-(甲基)丙烯酰氧基乙基)酯、co-羧基-聚己內(nèi)酯單(甲基)丙烯酸酯等含羧基單體類；以及(曱基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯等含羥基單體類；聚乙二醇單(曱基)丙烯酸酯、聚丙二醇單(甲基)丙烯酸酯等含有聚烷撐二醇的單體類；以及鄰羥基苯乙烯、間羥基苯乙烯、對羥基苯乙烯等含酚性羥基的單體類等。此夕卜，作為不屬于含有親水性基團的單體的單體，可以列舉例如(甲基)丙烯酸曱酯、(曱基)丙烯酸乙酯、(曱基)丙烯酸正丁酯、(曱基)丙烯酸2-乙基己酯、(曱基)丙烯酸正十二烷基酯等(甲基)丙烯酸烷基酯；(曱基)丙烯酸節(jié)酯、(曱基)丙烯酸苯氧基乙酯等含有苯基的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸環(huán)己酯、(甲基)丙烯酸4-丁基環(huán)己酯、(甲基)丙烯酸二(四氫雙環(huán)戊二烯基)酯、(曱基)丙烯酸二(二氫雙環(huán)戊二烯基)酯(dicyclopentenyl(metha)acrylate)、(曱基)丙烯酸二環(huán)戊二烯酯、(甲基)丙烯酸水片酯、(曱基)丙烯酸異水片酯和(甲基)丙烯酸金剛烷基酯(tricyclodecanyl(metha)acrylate)等脂環(huán)式(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸縮水甘油酯；苯乙烯和oc-甲基苯乙烯等芳香族乙烯基系單體類；以及丁二烯和異戊二烯等共軛二烯類等。作為本發(fā)明的玻璃漿料中的所述粘結(jié)樹脂，最優(yōu)選僅由(甲基)丙烯酸烷基酯形成的樹脂。作為本發(fā)明的玻璃漿料中的所述粘結(jié)樹脂的含有比例，相對于玻璃粉末100質(zhì)量份，通常為5~300重量份，優(yōu)選10~100重量份，進一步優(yōu)選20~75質(zhì)量份。(c)溶劑為了賦予玻璃漿料層適當(dāng)?shù)牧鲃有曰蚩伤苄?、良好的膜形成性，添加溶劑。作為所用的溶劑，?yōu)選與玻璃粉末的親和性以及對粘結(jié)樹脂的溶解性良好、能夠賦予玻璃漿料層適當(dāng)粘性并且能夠通過干燥而蒸發(fā)除去的溶劑。作為溶劑的具體例，可以列舉乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丁醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚等醚系醇類；乙酸正丁酯、乙酸戊酯等飽和脂肪族單羧酸烷基酯類；乳酸乙酯、乳酸正丁酯等乳酸酯類；曱基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、丙二醇單曱醚乙酸酯、乙基-3-乙氧基丙酸酯等醚系酯類；萜品醇、丁基卡必醇乙酸酯、丁基卡比醇等。如上所述使抗蝕劑層加熱固化時，在該加熱過程中玻璃漿料層所含的溶劑揮發(fā)，有時在金屬層表面產(chǎn)生泡狀的突起物、即所謂的起泡。因此，為了防止這樣的溶劑揮發(fā)，優(yōu)選具有高于加熱溫度ioi2ox:的沸點的溶劑，更優(yōu)選具有高于加熱溫度2oioor;的沸點的溶劑，進一步優(yōu)選具有高于加熱溫度3070"C的沸點的溶劑。例如，使用沸點為150r;以上的乙基3-乙氧基丙酸酯作為溶劑時，只要使加熱溫度為120"c，則在抗蝕劑層加熱固化時，能夠防止溶劑的揮發(fā)，并且能夠使抗蝕劑層的加熱固化可靠。如上調(diào)制的本發(fā)明的玻璃漿料是具有適于涂布的流動性的漿料狀組合物，其粘度通常為l，000~30，000cP，優(yōu)選3,000~10,000cP。作為本發(fā)明的玻璃漿料中溶劑的含有比例，相對于玻璃粉末100質(zhì)量份，通常為5~50重量份，優(yōu)選為10~40重量份。本發(fā)明的玻璃漿料層，通過將所述玻璃漿料涂布到金屬層上而形成。本發(fā)明的玻璃漿料層的厚度通常為1~50nm,優(yōu)選5~40jim。在本發(fā)明的玻璃漿料層中，作為任意成分，可以含有分散劑、增塑劑等各種添加劑。本發(fā)明的金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜，是通過在支持膜上層疊(A)抗蝕劑層，在該(A)抗蝕劑層上層疊(B)金屬層，在該(B)金屬層上層疊(C)玻璃漿料層而形成的；或者是通過在支持膜上層疊(B)金屬層，在該(B)金屬層上層疊(C)玻璃漿料層而形成的。所述支持膜優(yōu)選是具有耐熱性和耐溶劑性并且具有撓性的樹脂膜。由于支持膜具有撓性，因此能夠通過輥涂機涂布漿料狀組合物，可以在將含有無機粉體的樹脂層在巻繞成巻狀的狀態(tài)下保存、供給。作為形成支持膜的樹脂，可以列舉例如聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚酯、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚酰亞胺、聚乙烯醇、聚氯乙烯、聚氟乙烯等含氟樹脂、尼龍、纖維素等。作為支持膜的厚度，可以設(shè)為例如20100nm。優(yōu)選對支持膜的表面進行脫模處理。由此，在上述的轉(zhuǎn)印工序中，可以容易地進行支持膜的剝離操作。本發(fā)明的轉(zhuǎn)印膜可以如下制造。將抗蝕劑層中所含的上述成分混煉，調(diào)制漿料狀的抗蝕劑組合物，將該抗蝕劑組合物涂布于支持膜上，形成抗蝕劑層。作為涂布抗蝕劑組合物的方法，可以列舉絲網(wǎng)印刷法、輥涂法、旋轉(zhuǎn)涂布法、流延涂布法等各種方法。涂布后，根據(jù)需要將抗蝕劑組合物干燥。作為在支持膜或抗蝕劑層上形成金屬層的方法，可以列舉例如將鋁箔等金屬箔層合于支持膜或抗蝕劑層上的方法、以及利用真空蒸鍍法和濺射法在支持膜或抗蝕劑層上進行真空制膜的方法等。玻璃漿料層通過調(diào)制所述玻璃漿料、并將其涂布于金屬層上來形成。作為涂布玻璃漿料的方法，優(yōu)選能夠高效地形成膜厚均勻性優(yōu)異且膜厚大的涂膜的方法，具體可以列舉利用輥涂機的涂布方法、利用刮刀的涂布方法、利用簾式涂布機的涂布方法、利用線棒涂布機的涂布方法等。其后，根據(jù)需要將轉(zhuǎn)印膜干燥。干燥溫度通常為50~i5or;，干燥時間通常為0.5~30分鐘。干燥后的轉(zhuǎn)印膜中的殘留溶劑的量通常為0.1~2質(zhì)量％，優(yōu)選為0.1~1質(zhì)量％。本發(fā)明的金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜還可以在其玻璃漿料層上設(shè)置保護膜。作為保護膜，可以列舉例如聚乙蜂膜和聚乙烯醇系膜等。本發(fā)明的金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜可以適合用作平板顯示器部件形成用轉(zhuǎn)印膜。<金屬圖案形成方法>本發(fā)明的金屬圖案形成方法，包括如下工序在玻璃基板上形成按(C)玻璃漿料層、(B)厚為120jtm的金屬層以及(A)抗蝕劑層的順序?qū)盈B而成的層疊體的層疊工序，其中，所述(C)玻璃漿料層用(C，)玻璃漿料形成，該(C，)玻璃漿料含有(a)玻璃粉末和(b)粘結(jié)樹脂，該粘結(jié)樹脂來自具有親水性基團的單體的構(gòu)成成分為5質(zhì)量％以下；對16所述層疊體進行曝光處理，在所述(A)抗蝕劑層形成抗蝕劑圖案的潛影的曝光潛影形成工序；對經(jīng)過上述曝光潛影形成工序的所述層疊體進行顯影處理，在所述(A)抗蝕劑層上顯露出抗蝕劑圖案的顯影工序；對經(jīng)過上述顯影工序的所述層疊體進行蝕刻處理，形成對應(yīng)于抗蝕劑圖案的金屬層的圖案的蝕刻工序；以及煅燒經(jīng)過上述圖案形成工序的所述層疊體的煅燒工序。(i)層疊工序?qū)盈B工序是在玻璃基板上形成層疊體的工序，所述層疊體是在(C)玻璃漿料層上層疊(B)金屬層、并在該(B)金屬層上層疊(A)抗蝕劑層而成的。關(guān)于(A)抗蝕劑層、(B)金屬層和(C)玻璃漿料層，以及(C)玻璃漿料層中的(a)玻璃粉末、(b)粘結(jié)樹脂和(c)溶劑，如上述本發(fā)明的金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜中所述。作為玻璃基板，優(yōu)選由具有耐熱性的玻璃形成，例如可適于使用CENTRALGLASS公司制的CP600V。此外，根據(jù)需要，可以對玻璃基板的表面施以采用硅烷偶聯(lián)劑等的化學(xué)試劑處理、等離子體處理、以及釆用離子鍍法、濺射法、氣相反應(yīng)法和真空蒸鍍法等的薄膜形成處理之類的前處理。進行所述化學(xué)試劑處理時，處理液濃度通常為0.1~5質(zhì)量％,干燥溫度通常為80~140"C,干燥時間通常為10~60分鐘。作為所述層疊體的形成方法，只要能夠制造電極就沒有特別限制，可列舉例如使用具有(A)抗蝕劑層、(B)金屬層和(C)玻璃漿料層的本發(fā)明的金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜，將該(A)抗蝕劑層、(B)金屬層和(C)玻璃漿料層轉(zhuǎn)印于玻璃基板上的方法。在此作為轉(zhuǎn)印條件，例如，加熱輥的表面溫度為40~140X:，加熱輥的輥壓為0.1~10kg/cm2,加熱輥的移動速度為0.110m/分鐘。這樣的操作(轉(zhuǎn)印工序)可以利用層合裝置進行?；蹇梢赃M行預(yù)熱，作為預(yù)熱溫度，可以為例如40~140"C。此外，還可以使用具有(A)抗蝕劑層、(B)金屬層和(C)玻璃漿料層中的1層或2層的轉(zhuǎn)印膜，將它們依次轉(zhuǎn)印于玻璃基板上。例如，可以使用僅具有(B)金屬層和(C)玻璃漿料層的本發(fā)明的金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜，將該(B)金屬層和(C)玻璃漿料層轉(zhuǎn)印于玻璃基板上，進而使用具有(A)抗蝕劑層的轉(zhuǎn)印膜，將(A)抗蝕劑層轉(zhuǎn)印于(B)金屬層上?；蛘撸梢耘c上述本發(fā)明的金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜的制造方法相同，在玻璃基板上涂布玻璃漿料而形成玻璃漿料層，在該玻璃漿料層上形成金屬箔或利用真空制膜法等形成金屬層，在其上涂布抗蝕劑組合物而形成抗蝕劑層。(ii)曝光潛影形成工序通過在抗蝕劑層的表面介由曝光用掩模進行紫外線等放射線的選擇性照射(曝光)、掃描激光的方法等，在抗蝕劑層形成圖案的潛影。作為放射線照射裝置，使用在光蝕刻法中一般使用的紫外線照射裝置、在制造半導(dǎo)體和液晶顯示裝置時使用的曝光裝置、激光裝置等，沒有特別限制。光源輸出功率通常為l~100mW/cm2，優(yōu)選0.1~5mW/cm2。曝光時間通常為0.05~1分鐘。曝光量通常為10mJ/cm2。作為所述膝光用掩膜的曝光圖案，雖然根據(jù)材料的不同而異，但是一般為10~500nm寬的條紋。(iii)顯影工序?qū)ι鲜鰧盈B體進行顯影處理，在抗蝕劑層上顯露出抗蝕劑圖案。對于顯影處理條件沒有特別限制，可以根據(jù)抗蝕劑層的種類，適當(dāng)選擇顯影液的種類、組成、濃度、顯影時間、顯影溫度、顯影方法(例如浸漬法、搖動法、噴淋法、噴霧法、浸置法(puddle)等)、顯影裝置等。作為在采用本發(fā)明制造方法的顯影工序中所使用的顯影液，優(yōu)選使用堿顯影液。作為顯影液的有效成分，可列舉例如氫氧化鋰、氫氧化鈉、氬氧化鉀、磷酸氫鈉、磷酸氫二銨、磷酸氫二鉀、磷酸氫二鈉、磷酸二氫銨、磷酸二氫鉀、磷酸二氫鈉、硅酸鋰、硅酸鈉、硅酸鉀、碳酸鋰、碳酸鈉、碳酸鉀、硼酸鋰、硼酸鈉、硼酸鉀、氨等無機堿性化合物；四甲基氳氧化銨、三曱基羥基乙基氫氧化銨、單甲基胺、二甲基胺、三甲基胺、單乙基胺、二乙基胺、三乙基胺、單異丙基胺、二異丙基胺、乙醇胺等有機堿性化合物等。堿顯影液可以通過將所述堿性化合物中的一種或兩種以上溶解于水等中來調(diào)制。堿性顯影液中的堿性化合物的濃度通常為0.001~10質(zhì)量％。采用堿顯影液進行顯影處理后，通常施以水洗處理。顯影溫度通常為20~50匸。(iv)蝕刻工序?qū)?jīng)過上述顯影工序的所述層疊體進行蝕刻處理，將金屬層的不需要部分溶解除去，由此形成對應(yīng)于抗蝕劑圖案的金屬層的圖案。對蝕刻處理條件沒有特別限制，可以根據(jù)金屬層的種類等，適當(dāng)選擇蝕刻液的種類、組成、濃度、處理時間、處理溫度、處理方法(例如浸漬法、搖動法、噴淋法、噴霧法、浸置法等)、處理裝置等。在使用金屬層的金屬圖案形成方法中，在蝕刻工序中必須將基本上由純金屬形成的金屬層也溶解除去，因此，蝕刻必須在比感光性漿料法等不采用金屬層的方法強烈的條件下進行。作為本發(fā)明的蝕刻處理方法，優(yōu)選將所述層疊體浸漬于蝕刻液中的浸漬法。作為在該浸漬法中所用的蝕刻液的種類，只要是能夠?qū)⑿纬缮鲜鼋饘賹拥慕饘傥g刻的溶液就沒有特別限制，可以使用例如酸性水溶液、堿性水溶液。作為酸性水溶液，可以使用硝酸、硫酸、鹽酸、磷酸、乙酸及它們的混合水溶液。作為堿性水溶液，可以使用與上述堿顯影液相同的溶液。作為其濃度，可以為例如0.01~10質(zhì)量％。此外，作為浸漬于這樣的蝕刻液中的溫度，可以為例如20~50X:，作為浸漬的時間，可以為例如10~60分鐘。如果預(yù)先選擇抗蝕劑層的種類，使得可以使用與在顯影工序中使用的顯影液相同的溶液作為蝕刻液，則可以在同一工序中連續(xù)地進行顯影工序和蝕刻工序，可以實現(xiàn)因工序筒化而帶來的制造效率的提高。如上所述，如果在抗蝕劑層中添加的粘結(jié)樹脂中使用堿可溶性樹脂，則可以通過使顯影液和蝕刻液為相同的堿性溶液，從而在同一工序中連續(xù)地進19行顯影工序和蝕刻工序。在這種情況下，根據(jù)上述理由，優(yōu)選在作為蝕刻液且作為顯影液的溶液中浸漬層疊體，由此進行顯影工序和蝕刻工序。此外，在本發(fā)明中，如上所述，由于必須在強烈條件下進行蝕刻，因此有時在蝕刻工序中會發(fā)生抗蝕劑層從金屬層上剝離的現(xiàn)象。為了防止這種情況，使抗蝕劑層固化、并將抗蝕劑層與金屬層之間的粘接進行牢固化處理是有效的。作為使抗蝕劑層固化的方法，可以列舉加熱層疊體而使抗蝕劑層固化的加熱固化、以及將層疊體曝光而使抗蝕劑層固化的曝光固化等。即，在本發(fā)明中，優(yōu)選在曝光潛影形成工序之后顯影工序之前、或在顯影工序之后蝕刻工序之前進行加熱固化工序；或者在顯影工序之后蝕刻工序之前進行曝光固化工序。加熱固化的溫度通常為ioo~3oor;，優(yōu)選120300匸。固化時間為10~120分鐘。作為曝光固化的條件，優(yōu)選進行紫外線等放射線照射(曝光)的方法。作為放射線照射裝置，可以使用與在上述曝光工序中使用的裝置相同的裝置。作為使抗蝕劑層固化的方法，從可以更有效地防止抗蝕劑層從金屬層上剝離的觀點出發(fā)，與曝光固化相比，優(yōu)選加熱固化。此外，如上所述，將抗蝕劑層加熱固化時，玻璃漿料層所含的溶劑揮發(fā)，有時在金屬層表面產(chǎn)生泡狀的突起物、即所謂的起泡。為了防止這樣的溶劑揮發(fā)，如上所述，考慮使用具有比加熱溫度高的沸點的溶劑。(V)煅燒工序?qū)?jīng)過上述蝕刻工序的層疊體進行煅燒處理，將抗蝕劑層中的有機物質(zhì)燒除，從而將殘存于形成有圖案的金屬層上的抗蝕劑層除去。通過該工序，形成作為FPD部件的電極。此外，通過該煅燒，玻璃漿料層與玻璃基板一體化。作為煅燒處理的溫度，必須是將抗蝕劑層中的有機物質(zhì)燒除的溫度，通常為400~600"C。此外，煅燒時間通常為10~卯分鐘。本發(fā)明的金屬圖案形成方法，可以適合作為平板顯示器部件形成方法來進行。實施例以下，對本發(fā)明的實施例進行說明，但本發(fā)明并不限于這些例子。應(yīng)說明的是，以下"份，，表示"質(zhì)量份"。此外，實施例中的各評價方法3口下所示。利用東曹公司制的凝膠滲透色譜法(GPC)(商品名HLC-802A)測定按聚苯乙烯換算的重均分子量。目視觀察后烘培后的基板，將沒有看到起泡產(chǎn)生的情況評價為，確認(rèn)有起泡產(chǎn)生的情況評價為x。[蝕刻后的玻璃漿料層的剝離I對蝕刻工序后的基板噴吹空氣，將玻璃漿料層沒有剝離的情況評價為O，將玻璃漿料層剝離的情況評價為x。[蝕刻后的Al箔的剝離對煅燒后的基板噴吹空氣，將Al箔沒有剝離的情況評價為O,將Al箔剝離的情況評價為x。<實施例1>金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜的形成作為堿可溶性樹脂使用甲基丙烯酸節(jié)酯/甲基丙烯酸環(huán)己酯/曱基丙烯酸=50/35/15(質(zhì)量％)共聚物(Mw=30,000)100份，作為感光性單體使用聚丙二醇丙烯酸酯(n—12，東亞合成制"M270")33.3份和三羥甲基丙烷EO改性三丙烯酸酯(n—2，東亞合成制"M360")16.6份，并且作為光聚合引發(fā)劑使用2-節(jié)基-2-二曱氨基-1-(4-嗎啉代苯基)-丁烷-l-酮(汽巴精化公司制"IRG.369")15份，將它們用攪拌脫泡裝置混煉后，用三聯(lián)輥分散，由此調(diào)制抗蝕劑組合物。將該抗蝕劑組合物用刮涂機涂布于由PET膜形成的支持膜(寬200mm、長30m、厚38jim)上，形成厚10nm的抗蝕劑層。在該抗蝕劑層上層合厚12nm的鋁箔，形成厚12nm的金屬層。作為玻璃粉末使用B203-ZnO系玻璃料(軟化點485X:、粒徑(D50)2.5nm)100份，作為粘結(jié)樹脂使用曱基丙烯酸正丁酯/甲基丙烯酸2-乙基己酯=40/60(質(zhì)量％)共聚物(Mw=100,000)32份，作為增塑劑使用壬二酸二辛酯2份，作為溶劑使用乙基3-乙氧基丙酸酯15份，將它們用攪拌脫泡裝置混煉后，用三聯(lián)輥分散，由此調(diào)制玻璃漿料。將該抗蝕劑組合物用刮涂機涂布于金屬層上，形成厚25jim的玻璃漿料層。如上所述，制作金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜。(2)電極的形成(i)層疊工序用加熱輥將上述金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜熱壓合于玻璃基板上。在此，作為壓合條件，將加熱輥的表面溫度設(shè)為ioox:，將輥壓設(shè)為2.5kg/cm，將加熱輥的移動速度設(shè)為0.5m/分鐘。由此，在玻璃基板上形成按玻璃漿料層、金屬層和抗蝕劑層的順序?qū)盈B而成的層疊體。(ii)曝光潛影形成工序?qū)τ谒鰧盈B體的抗蝕劑層，介由線寬60fim、間距寬60jim的條紋狀負(fù)型曝光用掩模，利用超高壓水銀燈，照射i射線(波長為365nm的紫外線)。此時的曝光量按用365nm的傳感器測得的照度換算，為200mJ/cm2o(iii)顯影工序?qū)τ诮?jīng)過上述曝光潛影形成工序的層疊體，將液溫為30"C的0.3質(zhì)量o/。的碳酸鈉水溶液作為顯影液，通過噴淋法進行顯影處理60秒，接著，用超純水進行水洗。(iv)加熱固化工序在上述顯影工序之后，將上述層疊體在12or;加熱60分鐘，使所述抗蝕劑層固化。在該后烘培之后，評價起泡的產(chǎn)生。結(jié)果示于表i中。(V)蝕刻工序?qū)⒔?jīng)過上述加熱固化工序的層疊體浸漬于液溫為25X:、4質(zhì)量％的氬氧化鈉水溶液蝕刻液中20分鐘。評價該蝕刻工序后的玻璃漿料層的剝離以及A1箔的剝離。結(jié)果示于表l中。(vi)煅燒工序?qū)⒔?jīng)過上述蝕刻工序的層疊體在煅燒爐中、于5701C的溫度環(huán)境下煅燒20分鐘。由此，可以在玻璃基板上得到圖案寬60fim、厚12nm的電極。<實施例2>(1)金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜的形成在實施例1的玻璃漿料中，將作為粘結(jié)樹脂使用的甲基丙烯酸正丁酯/甲基丙烯酸2-乙基己酯=40/60(質(zhì)量％)共聚物(Mw=100,000)的量設(shè)為40份，將玻璃漿料層的厚度設(shè)為30nm，除此以外，與實施例l同樣地操作，制成金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜。(2)電極的形成使用上述金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜，與實施例1同樣地形成電極。將后烘培后起泡的產(chǎn)生、蝕刻后玻璃漿料層的剝離以及Al箔剝離的評價結(jié)果示于表l中。根據(jù)以上操作，可以在玻璃基板上得到圖案寬60nm、厚12nm的電極。<實施例3>(1)金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜的形成在實施例1的玻璃漿料中，將作為粘結(jié)樹脂使用的甲基丙烯酸正丁酯/曱基丙烯酸2-乙基己酯=40/60(質(zhì)量％)共聚物(Mw=100,000)的量設(shè)為48份，將玻璃漿料層的厚度設(shè)為35nm，除此以外，與實施例l同樣地操作，制成金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜。(2)電極的形成使用上述金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜，與實施例1同樣地形成電極。將后烘培后起泡的產(chǎn)生、蝕刻后玻璃漿料層的剝離以及Al箔剝離的評價結(jié)果示于表l中。根據(jù)以上操作，可以在玻璃基板上得到圖案寬60jim、厚12nm的電極。<實施例4>(1)金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜的形成在實施例1的玻璃漿料中，將作為粘結(jié)樹脂使用的曱基丙烯酸正丁酯/甲基丙烯酸2-乙基己酉旨-40/60(質(zhì)量o/。)共聚物(Mw=100,000)的量設(shè)為56份，將玻璃漿料層的厚度設(shè)為36jim，除此以外，與實施例l同樣地操作，制成金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜。(2)電極的形成使用上述金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜，與實施例1同樣地形成電極。將后烘培后起泡的產(chǎn)生、蝕刻后玻璃漿料層的剝離以及Al箔剝離的評價結(jié)果示于表l中。根據(jù)以上操作，可以在玻璃基板上得到圖案寬60nm、厚12nm的電極。<實施例5>(1)金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜的形成在實施例1的玻璃漿料中，將作為粘結(jié)樹脂使用的曱基丙烯酸正丁酯/曱基丙烯酸2-乙基己酯=40/60(質(zhì)量％)共聚物(Mw=100,000)的量設(shè)為72份，將玻璃漿料層的厚度設(shè)為30nm,除此以外，與實施例l同樣地操作，制成金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜。(2)電極的形成使用上述金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜，與實施例1同樣地形成電極。將后烘培后起泡的產(chǎn)生、蝕刻后玻璃漿料層的剝離以及Al箔剝離的評價結(jié)果示于表l中。根據(jù)以上操作，可以在玻璃基板上得到圖案寬60fim、厚12nm的電極。<實施例6>(1)金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜的形成在實施例1的玻璃漿料中，將鋁箔的厚度設(shè)為6nm，將作為粘結(jié)樹脂使用的甲基丙烯酸正丁酯/甲基丙烯酸2-乙基己酯=40/60(質(zhì)量％)共聚物(Mw=100,000)的量設(shè)為40份，將玻璃漿料層的厚度設(shè)為30nm,除此以外，與實施例l同樣地操作，制成金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜。(2)電極的形成使用上述金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜，與實施例1同樣地形成電極。將后烘培后起泡的產(chǎn)生、蝕刻后玻璃漿料層的剝離以及Al箔剝離的評價結(jié)果示于表l中。根據(jù)以上操作，可以在玻璃基板上得到圖案寬60nm、厚12nm的電極。<實施例7>(1)金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜的形成在實施例1的玻璃漿料中，將鋁箔的厚度設(shè)為7nm，將作為粘結(jié)樹25脂使用的甲基丙烯酸正丁酯/曱基丙烯酸2-乙基己酯=40/60(質(zhì)量％)共聚物(Mw=100,000)的量設(shè)為40份，將玻璃漿料層的厚度設(shè)為30nm，除此以外，與實施例l同樣地操作，制成金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜。(2)電極的形成使用上述金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜，與實施例1同樣地形成電極。將后烘培后起泡的產(chǎn)生、蝕刻后玻璃漿料層的剝離以及Al箔剝離的評價結(jié)果示于表l中。根據(jù)以上操作，可以在玻璃基板上得到圖案寬60nm、厚12nm的電極。<實施例8>(1)金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜的形成在實施例1的玻璃漿料中，將鋁箔的厚度設(shè)為9jim，將作為粘結(jié)樹脂使用的甲基丙烯酸正丁酯/甲基丙烯酸2-乙基己酯=40/60(質(zhì)量％)共聚物(Mw=100,000)的量設(shè)為40份，將玻璃漿料層的厚度i殳為30jim，除此以外，與實施例l同樣地操作，制成金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜。(2)電極的形成使用上述金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜，與實施例1同樣地形成電極。將后烘培后起泡的產(chǎn)生、蝕刻后玻璃漿料層的剝離以及Al箔剝離的評價結(jié)果示于表l中。根據(jù)以上操作，可以在玻璃基板上得到圖案寬60nm、厚12nm的電極。<實施例9>(1)金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜的形成在實施例1的玻璃漿料中，除了代替甲基丙烯酸正丁酯/曱基丙烯酸2-乙基己酯=40/60(質(zhì)量％)共聚物(Mw=100,000)32份而使用甲基丙烯酸正丁酯/甲基丙烯酸2-乙基己酯/曱基丙烯酸2-羥基丙酯=35/60/5(質(zhì)量％)共聚物(Mw=85,000)32份作為粘結(jié)樹脂以外，與實施例l同樣地操作，制成金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜。(2)電極的形成使用上述金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜，與實施例1同樣地形成電極。將后烘培后起泡的產(chǎn)生、蝕刻后玻璃漿料層的剝離以及Al箔剝離的評價結(jié)果示于表l中。<實施例10>(1)金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜的形成在實施例1的玻璃漿料中，代替曱基丙烯酸正丁酯/甲基丙烯酸2-乙基己酯=40/60(質(zhì)量％)共聚物(Mw=100,000)32份而使用甲基丙烯酸正丁酯/甲基丙烯酸2-乙基己酯/曱基丙烯酸2-羥基丙酯=37/60/3(質(zhì)量％)共聚物(Mw=85,000)32份作為粘結(jié)樹脂，將玻璃漿料層的厚度設(shè)為26jim,除此以外，與實施例l同樣地操作，制成金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜。(2)電極的形成使用上述金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜，與實施例1同樣地形成電極。將后烘培后起泡的產(chǎn)生、蝕刻后玻璃漿料層的剝離以及Al箔剝離的評價結(jié)果示于表l中。<實施例11>(1)金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜的形成在實施例1的玻璃漿料中，代替曱基丙烯酸正丁酯/甲基丙烯酸2-乙基己酯=40/60(質(zhì)量％)共聚物(Mw=100,000)32份而使用甲基丙烯酸正丁酯/甲基丙烯酸2-乙基己酯/曱基丙烯酸2-羥基丙酯-39/60/1(質(zhì)量％)共聚物(Mw=80,000)32份作為粘結(jié)樹脂，除此以外，與實施例l同樣地操作，制成金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜。(2)電極的形成使用上述金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜，與實施例1同樣地形成電極。將后烘培后起泡的產(chǎn)生、蝕刻后玻璃漿料層的剝離以及Al箔剝離的評價結(jié)果示于表l中。<比較例1>(1)金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜的形成在實施例1的玻璃漿料中，代替甲基丙烯酸正丁酯/甲基丙烯酸2—乙基己酯=40/60(質(zhì)量％)共聚物(Mw=100,000)32份而使用甲基丙烯酸正丁酯/甲基丙烯酸2-乙基己酯/曱基丙烯酸2-羥基丙酯=30/60/10(質(zhì)量％)共聚物(Mw=80,000)32份作為粘結(jié)樹脂，將玻璃漿料層的厚度設(shè)為26jim,除此以外，與實施例l同樣地操作，制成金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜。(2)電極的形成使用上述金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜，與實施例1同樣地形成電極。將后烘培后起泡的產(chǎn)生、蝕刻后玻璃漿料層的剝離以及Al箔剝離的評價結(jié)果示于表l中。<比較例2>(1)金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜的形成在實施例1的玻璃漿料中，代替曱基丙烯酸正丁酯/甲基丙烯酸2-乙基己酯=40/60(質(zhì)量％)共聚物(Mw=100,000)32份而使用甲基丙烯酸正丁酯/甲基丙烯酸2-乙基己酯/甲基丙烯酸2-羥基丙酯=30/60/10(質(zhì)量％)共聚物(Mw=80,000)40份作為粘結(jié)樹脂，代替乙基3-乙氧基丙酸酯而使用丙二醇單甲醚作為溶劑，將玻璃漿料層的厚度設(shè)為23nm，除此以外，與實施例l同樣地操作，制成金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜。(2)電極的形成28使用上述金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜，與實施例1同樣地形成電極。將后烘培后起泡的產(chǎn)生、蝕刻后玻璃漿料層的剝離以及Al箔剝離的評價結(jié)果示于表l中。<比較例3>(1)金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜的形成在實施例1的玻璃漿料中，代替甲基丙烯酸正丁酯/曱基丙烯酸2-乙基己酯=40/60(質(zhì)量％)共聚物(Mw=100,000)32份而使用甲基丙烯酸正丁酯/甲基丙烯酸2-乙基己酯/甲基丙烯酸2-羥基丙酯-30/60/10(質(zhì)量％)共聚物(Mw=80,000)40份作為粘結(jié)樹脂，代替乙基3-乙氧基丙酸酯而使用丙二醇單曱醚作為溶劑，將玻璃漿料層的厚度設(shè)為23nm，除此以外，與實施例l同樣地操作，制成金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜。(2)電極的形成使用上述金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜，除了不進行加熱固化工序(后烘培)之外，與實施例1同樣地形成電極。將蝕刻后玻璃漿料層的剝離以及Al箔剝離的評價結(jié)果示于表1中。表l中所示的編號等所表示的物質(zhì)如下所示。感光性單體l:聚丙二醇丙烯酸酯(n^12)感光性單體2:三羥甲基丙烷EO改性三丙烯酸酯(n—2)粘結(jié)樹脂1:甲基丙烯酸正丁酯/甲基丙烯酸2-乙基己酯/甲基丙烯酸2—幾基丙酯=30/60/10(質(zhì)量％)共聚物(Mw=80,000)粘結(jié)樹脂2:甲基丙烯酸正丁酯/曱基丙烯酸2一乙基己酯=40/60(質(zhì)量％)共聚物(Mw=100,000)粘結(jié)樹脂3:曱基丙烯酸正丁酯/甲基丙烯酸2—乙基己酯/甲基丙烯酸2—羥基丙酯=35/60/5(質(zhì)量o/q)共聚物(Mw=85,000)粘結(jié)樹脂4:曱基丙烯酸正丁酯/曱基丙烯酸2—乙基己酯/甲基丙烯酸2—羥基丙酯=37/60/3(質(zhì)量％)共聚物(Mw=85,000)粘結(jié)樹脂5:甲基丙烯酸正丁酯/曱基丙烯酸2—乙基己酯/甲基丙烯酸2—羥基丙酯=39/60/1(質(zhì)量％)共聚物(Mw=80,(DOAz:壬二酸二辛酉旨EEP:乙基3-乙氧基丙酸酯PGME:丙二醇單曱醚[表1<table>tableseeoriginaldocumentpage31</column></row><table>權(quán)利要求1、一種金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜，其特征在于，在支持膜上按(A)抗蝕劑層、(B)厚為1～20μm的金屬層以及(C)玻璃漿料層的順序?qū)盈B而成，其中，所述(C)玻璃漿料層用(C’)玻璃漿料形成，該(C’)玻璃漿料含有(a)玻璃粉末和(b)粘結(jié)樹脂，該粘結(jié)樹脂來自具有親水性基團的單體的構(gòu)成成分為5質(zhì)量％以下。2、一種金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜，其特征在于，在支持膜上按(B)厚為120nm的金屬層以及(C)玻璃漿料層的順序?qū)盈B而成，其中，所述(C)玻璃漿料層用(C，)玻璃漿料形成，該(C，)玻璃漿料含有(a)玻璃粉末和(b)粘結(jié)樹脂，該粘結(jié)樹脂來自具有親水性基團的單體的構(gòu)成成分為5質(zhì)量％以下。3、根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜，其特征在于，所述(b)粘結(jié)樹脂是由(甲基)丙烯酸烷基酯形成的樹脂。4、根據(jù)權(quán)利要求1~3中任一項所述的金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜，其特征在于，所述(C，)玻璃漿料還含有(c)溶劑。5、根據(jù)權(quán)利要求1~4中任一項所述的金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜，其特征在于，所述(B)金屬層由選自Ag、Au、Al和Cu中的至少一種形成。6、根據(jù)權(quán)利要求1~5中任一項所述的金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜，其特征在于，所述(B)金屬層由金屬箔形成。7、根據(jù)權(quán)利要求1~5中任一項所述的金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜，其特征在于，所述(B)金屬層通過真空制膜法形成。8、根據(jù)權(quán)利要求1~7中任一項所述的金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜，其特征在于，所述金屬圖案是平板顯示器部件。9、一種金屬圖案形成方法，其特征在于，包括如下工序?qū)盈B工序，在玻璃基板上形成按(C)玻璃漿料層、(B)厚為1~20nm的金屬層以及(A)抗蝕劑層的順序?qū)盈B而成的層疊體，其中，所述(C)玻璃漿料層用(C，)玻璃漿料形成，該(C，)玻璃漿料含有(a)玻璃粉末和(b)粘結(jié)樹脂，該粘結(jié)樹脂來自具有親水性基團的單體的構(gòu)成成分為5質(zhì)量％以下；曝光潛影形成工序，對所述層疊體進行曝光處理，在所述(A)抗蝕劑層上形成抗蝕劑圖案的潛影；顯影工序，對經(jīng)過所述曝光潛影形成工序的所述層疊體進行顯影處理，在所述(A)抗蝕劑層上顯露出抗蝕劑圖案；蝕刻工序，對經(jīng)過所述顯影工序的所述層疊體進行蝕刻處理，形成對應(yīng)于抗蝕劑圖案的金屬層的圖案；煅燒工序，煅燒經(jīng)過所述蝕刻工序的所述層疊體。10、根據(jù)權(quán)利要求9所述的金屬圖案形成方法，其中，將所述層疊體浸漬在蝕刻液中來進行所述蝕刻工序。11、根據(jù)權(quán)利要求9所述的金屬圖案形成方法，其中，將所述層疊體浸漬在蝕刻液中來進行所述顯影工序和蝕刻工序。12、根據(jù)權(quán)利要求9~11中任一項所述的金屬圖案形成方法，其中，包括在所述曝光潛影形成工序之后所述顯影工序之前、或者在所述顯影工序之后所述蝕刻工序之前，加熱所述層疊體，使所述抗蝕劑層固化的加熱固4匕工序。13、根據(jù)權(quán)利要求9~11中任一項所述的金屬圖案形成方法，其中，包括在所述顯影工序之后所述蝕刻工序之前，將所述層疊體曝光，使所述抗蝕劑層固化的曝光固化工序。14、根據(jù)權(quán)利要求9~13中任一項所述的金屬圖案形成方法，其中，所述金屬圖案是平板顯示器部件。全文摘要本發(fā)明提供一種金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜，該金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜是在支持膜上按抗蝕劑層、厚為1～20μm的金屬層以及玻璃漿料層的順序?qū)盈B而成的，且所述玻璃漿料層含有玻璃粉末和粘結(jié)樹脂，該粘結(jié)樹脂來自具有親水性基團的單體的構(gòu)成成分為5質(zhì)量％以下；本發(fā)明還提供形成這些層而進行的金屬圖案形成方法。根據(jù)本發(fā)明的金屬圖案形成用轉(zhuǎn)印膜和金屬圖案形成方法，可以制造電阻低的電極，進而在顯影工序中，能夠維持FPD部件的透明性，能夠阻止金屬箔從玻璃漿料層剝離，此外在蝕刻工序中，能夠防止抗蝕劑層從金屬箔脫離。文檔編號H01J9/02GK101425441SQ20081017256公開日2009年5月6日申請日期2008年10月28日優(yōu)先權(quán)日2007年10月31日發(fā)明者井上靖健,山下隆德,川岸誠治,桑田博昭申請人:Jsr株式會社