層2的表面垂直的軸線的視圖，該視圖示出了該類型的示例性配置。在此，重定向元件27、31的反射表面的法線的與基底臺40的表面平行的分量分別由箭頭
28、32示出?？梢钥吹剑@些分量之間的角34是除180度之外的角。在該示例中，角34約為100度。
[0045]在一個實施例中，激光掃描系統(tǒng)包括可編程的偏振器，該偏振器選擇性地改變待在基底I上掃描的激光束的偏振。在這樣的實施例中的控制模塊36可被配置為使偏振器22根據(jù)激光束在基底上的入射方向來改變激光束的偏振。在重定向單元70包括第一和第二重定向元件27、31的情況下，控制模塊36可被配置為使偏振器22根據(jù)激光束是將經(jīng)由第一重定向元件27引導至基底I上還是將經(jīng)由第二重定向元件31引導至基底I上來改變激光束的偏振。
[0046]以這種方式改變激光束的偏振使得可以根據(jù)在基底I上期望的入射方向來優(yōu)化偏振，以使從空氣到載體界面的反射或從基底所支撐的位于所關(guān)注的層上方的任意界面的反射最小。因此，能夠使由所關(guān)注的層吸收的激光輻射最大化。例如，在圖4所示的實施例中，偏振可被調(diào)節(jié)為使在載體層2與載體層2之上的空氣之間的界面的反射最小，以使得最大量的輻射穿透載體層2到達激光釋放層4。
[0047]當激光源包括DPSS激光器模塊時該方法尤其有效，其中該激光源的輸出通常是偏振的并能夠有效地且以最小的激光強度減少量來實現(xiàn)偏振的改變。準分子激光器是非偏振的，因而以斜角被基底反射的輻射是相當多(例如，高達20%)。
[0048]在一個實施例中，控制模塊36被配置為使偏振器22改變激光束的偏振，使得在控制模塊36被配置為將激光束從第一入射方向和第二入射方向引導至區(qū)域的一部分上的情況下，當將激光束從第一入射方向引導至該部分上時，基底支撐的界面對激光束的反射小于當以相同偏振從第二入射方向引導至該部分時的反射。類似地，控制模塊36可附加地或替換地配置為使偏振器22改變激光束的偏振，使得當將激光束從第二入射方向引導至該部分時，基底支撐的界面對激光束的反射小于當以相同偏振從第一入射方向引導至該部分時的反射。
[0049]例如，在重定向單元70包括第一重定向元件27和第二重定向元件31的實施例中，控制模塊36被配置為使偏振器22改變激光束的偏振，使得當經(jīng)由第一重定向元件27引導激光束時，基底I支撐的界面(例如位于載體層2與載體層2之上的環(huán)境之間的界面)對激光束的反射小于當經(jīng)由第二重定向元件31以相同的偏振引導時的反射。類似地，在這樣的實施例中，控制模塊36可附加地或替換地配置為使偏振器22改變激光束的偏振，使得當經(jīng)由第二重定向元件31引導激光束時，基底I支撐的界面對激光束的反射小于當經(jīng)由第一重定向元件27以相同的偏振引導時的反射。
[0050]在一個實施例中，控制模塊被配置為致使偏振器22使激光束偏振，使得當激光束入射到基底I上時，激光束的的電場分量將基本上與激光束的傳播方向和基底I的表面的法線共面(所謂的P偏振)。
[0051]在一個實施例中，激光束以一角度被引導至基底所支撐的界面(例如，位于載體層2與載體層2之上的環(huán)境之間的界面)上，該角度在該界面的25度的布儒斯特角內(nèi)，優(yōu)選地在10度的布儒斯特角內(nèi)，優(yōu)選地在I度的布儒斯特角內(nèi)。在布儒斯特角處，對P偏振的輻射的反射降為零。
[0052]在一個實施例中，在激光束在基底上掃描的過程中，相對于激光源例如線性地移動基底I。這可通過多種不同的方式實現(xiàn)。
[0053]圖6和7描繪了沿基底表面的法線觀察到的示例性的重定向單元70并示出了在兩個獨立的時段內(nèi)使基底I上的區(qū)域曝光的示例性方法。在所示的實施例中，重定向單元70包括第一和第二重定向元件27、31，這兩個重定向元件被設(shè)置為彼此呈直角(盡管可以使用其他角度)并通過(光學)連接器41剛性地連接在一起。
[0054]圖6示出了基底I在所述時段中的一個時段內(nèi)的移動46。在該實施例中，該基底移動與第一重定向元件27垂直?？刂颇K36被配置為使激光束在第一重定向元件27上以往復(fù)方式掃描。在該實施例中，往復(fù)掃描的方向42還垂直于移動方向46。對往復(fù)掃描的頻率和基底移動速度進行協(xié)調(diào)來以所需的方式曝光基底I上的區(qū)域。在所示的示意圖中，區(qū)域44表示通過激光束沿第一重定向元件27上的路徑42(例如從A到B)掃描而曝光的區(qū)域。可以看到的是，通過基底I的適當移動和在第一重定向元件27上激光束的重復(fù)掃描，能夠曝光沿移動方向46延伸的范圍更大的矩形區(qū)域。
[0055]圖7示出了基底I在后續(xù)時段內(nèi)的移動52。這種情況下的基底移動52與第二重定向元件31垂直?？刂颇K36被配置為使激光束在第二重定向元件31上以往復(fù)方式掃描。在該實施例中，往復(fù)掃描的方向48還垂直于移動方向52。在這種情況下，區(qū)域50表不通過激光束沿第二重定向元件31上的路徑48(例如從C到D)掃描而曝光的區(qū)域。通過基底的適當移動和在第二重定向元件27上激光束的重復(fù)掃描，能夠曝光沿移動方向52延伸的范圍更大的矩形區(qū)域，該區(qū)域與在之前時段內(nèi)所曝光的區(qū)域重疊或相同(如圖6所示)。
[0056]因此，一個區(qū)域在第一時期經(jīng)由第一重定向元件27的反射而被曝光，并在第二時期經(jīng)由第二重定向元件31的反射而被曝光。因此，曝光區(qū)域的每個部分從兩個不同方向被曝光兩次。
[0057]圖6和7的方法是有效率的，這是因為基本上施加到基底表面的所有激光束能量能夠被用于從不同方向進行曝光的一部分。換句話說，可以使在兩個時段中的每個時段內(nèi)曝光的區(qū)域彼此完全重疊(盡管這不是必要的)。
[0058]圖8描繪了沿基底表面的法線觀察到的替換的示例性重定向單元70，并示出了在單一移動方向上移動基底I的同時從不同方向曝光該基底上的區(qū)域的替換的示例性方法。在所示的實施例中，重定向單元70包括第一和第二重定向元件27、31，第一和第二重定向元件設(shè)置為互相呈直角并通過連接器41剛性地連接在一起。
[0059]在該實施例中，第一和第二重定向元件27、31被設(shè)置為與基底I的移動方向60呈相同角度(在所示示例中為45度)。在其他實施例中，重定向元件27、31可被設(shè)置為彼此呈不同的角度。區(qū)域56表示通過激光束沿第一反射元件27上的路徑54(例如從E到F)掃描而曝光的區(qū)域。區(qū)域58表示通過激光束沿第二反射元件31上的路徑54(例如從G到H)掃描而曝光的區(qū)域。因此，激光束在兩個重定向元件27、31上從E到H的掃描在基底上產(chǎn)生十字形狀，中心部分65在掃描期間從兩個不同的方向接收入射福射?；椎囊苿?0在垂直方向掃描該十字并允許曝光基底上的介于虛線62和64之間的區(qū)域。在一個實施例中，對基地移動和兩個重定向元件27、31的激光束的往復(fù)掃描(例如，往復(fù)地從E到H再返回)進行協(xié)調(diào)?？梢钥吹降氖?，在虛線內(nèi)的曝光區(qū)域?qū)ㄒ淹ㄟ^兩個重定向元件27、31曝光的區(qū)域。例外情況是在基底移動路徑的最末端處的三角形區(qū)域。與圖6和7的設(shè)置相比，給定方向下的基底I的移動所需的總長度可以稍長，以將這些三角形區(qū)域考慮在內(nèi)。然而，在后續(xù)的曝光序列中，并不需要在不同的方向上再次移動基底。因此簡化了對于從不同方向的輻射曝光基底上的區(qū)域所需的整體基底移動操作。
【主權(quán)項】
1.一種用于使激光束在基底的表面上掃描的激光掃描系統(tǒng)，包括: 激光源，用于產(chǎn)生激光束； 基底臺，用于支撐所述基底； 掃描模塊，包含可編程光學器件，所述可編程光學器件用于選擇性重定向所述激光束；控制模塊，用于對所述掃描模塊進行控制，以使所述激光束在所述基底的表面上掃描；以及 重定向單元，位于所述激光束在所述掃描模塊與所述基底之間的光路中的一位置處，所述重定向單元被配置為控制所述激光束在所述基底上的入射方向，其中: 所述控制模塊和所述重定向單元被配置為使所述激光束在所述基底的預(yù)定的區(qū)域上掃描，使得所述區(qū)域的每個部分都被所述激光束從多個不同的入射方向曝光。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中， 所述重定向單元包括第一重定向元件和第二重