單顆錫珠植球裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及錫焊，尤其涉及一種單顆錫珠植球裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)在的電子產(chǎn)品越來(lái)越精密，工藝越來(lái)越復(fù)雜，對(duì)于某些空間狹窄，熱效應(yīng)要求低，無(wú)法進(jìn)爐的精密元件，植球焊接成了其量產(chǎn)化的瓶頸，目前很多高新企業(yè)已經(jīng)開(kāi)始使用激光加工技術(shù)來(lái)解決這類(lèi)問(wèn)題，但是傳統(tǒng)的植球技術(shù)如網(wǎng)板球柵陣列在這類(lèi)產(chǎn)品上難以形成單顆錫珠植球，影響產(chǎn)品的量產(chǎn)化。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型的目的在于提供一種單顆錫珠植球裝置，旨在用于解決現(xiàn)有的錫珠植球難以進(jìn)行單顆植球的問(wèn)題。
[0004]本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的:
[0005]本實(shí)用新型提供一種單顆錫珠植球裝置，包括工作臺(tái)，所述工作臺(tái)上設(shè)置可繞自身軸線水平旋轉(zhuǎn)的磁盤(pán)以及具有容納腔的錫焊噴嘴，于所述磁盤(pán)上開(kāi)設(shè)有間隔設(shè)置用于填塞錫珠的若干通孔，各所述通孔均位于同一圓周上，且所述圓周的圓心位于所述磁盤(pán)的旋轉(zhuǎn)軸線上，于所述工作臺(tái)上還設(shè)置有一端連通所述容納腔的錫珠導(dǎo)孔，所述錫珠導(dǎo)孔的另一端具有豎直朝上且至所述磁盤(pán)的旋轉(zhuǎn)軸線的距離與各所述通孔至所述磁盤(pán)的旋轉(zhuǎn)軸線距離相同的進(jìn)口，所述錫珠導(dǎo)孔沿所述磁盤(pán)至所述容納腔的方向向下延伸，且所述錫珠導(dǎo)孔的口徑不小于所述錫珠直徑。
[0006]進(jìn)一步地，于所述錫珠導(dǎo)孔的所述進(jìn)口的正上方設(shè)置有離子風(fēng)口，所述磁盤(pán)夾設(shè)于所述離子風(fēng)口與所述進(jìn)口之間。
[0007]進(jìn)一步地，于所述磁盤(pán)上還設(shè)置有用于檢測(cè)各所述通孔內(nèi)所述錫珠的若干檢測(cè)孔，各所述檢測(cè)孔與各所述通孔一一對(duì)應(yīng)。
[0008]進(jìn)一步地，還包括設(shè)置于所述工作臺(tái)上用于盛放所述錫珠的容器，所述容器上開(kāi)設(shè)有位于所述磁盤(pán)正上方的錫珠出孔，所述錫珠出孔至所述磁盤(pán)的旋轉(zhuǎn)軸線的距離與各所述通孔至所述磁盤(pán)的旋轉(zhuǎn)軸線的距離相同，且所述錫珠出孔靠近所述磁盤(pán)上表面。
[0009]具體地，各所述通孔均勻間隔設(shè)置，所述錫珠出孔至所述磁盤(pán)上的投影與所述進(jìn)口至所述磁盤(pán)上的投影之間的圓心角為相鄰兩個(gè)所述通孔之間圓心角的整數(shù)倍。
[0010]具體地，所述錫珠導(dǎo)孔包括豎直設(shè)置的直孔段以及斜向下設(shè)置的斜孔段，所述直孔段位于所述磁盤(pán)的下方且至所述磁盤(pán)的旋轉(zhuǎn)軸線的距離與各所述通孔至所述磁盤(pán)的旋轉(zhuǎn)軸線的距離相同，所述進(jìn)口位于所述直孔段上，且所述斜孔段分別連通所述容納腔與所述直孔段。
[0011]進(jìn)一步地，所述磁盤(pán)上豎直設(shè)置有位于所述旋轉(zhuǎn)軸線上的轉(zhuǎn)軸，所述工作臺(tái)上還設(shè)置有用于驅(qū)使所述轉(zhuǎn)軸水平轉(zhuǎn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)件。
[0012]進(jìn)一步地，所述磁盤(pán)上設(shè)置有凸臺(tái)，所述轉(zhuǎn)軸安設(shè)于所述凸臺(tái)上。
[0013]進(jìn)一步地，所述工作臺(tái)具有用于支撐各所述通孔內(nèi)的所述錫珠的支撐面。
[0014]進(jìn)一步地，所述錫焊噴嘴沿豎直方向設(shè)置，且沿豎直向下的方向所述容納腔呈漸縮狀。
[0015]本實(shí)用新型具有以下有益效果:
[0016]本實(shí)用新型的植球裝置中，在磁盤(pán)上設(shè)置有若干通孔，并在每一通孔內(nèi)填塞有錫珠，當(dāng)驅(qū)使磁盤(pán)繞旋轉(zhuǎn)軸線轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，磁盤(pán)帶動(dòng)各錫珠轉(zhuǎn)動(dòng)，且當(dāng)其中一通孔位于進(jìn)口的正上方時(shí)，則其內(nèi)錫珠可由進(jìn)口進(jìn)入錫珠導(dǎo)孔內(nèi)，再由錫珠導(dǎo)孔進(jìn)入錫焊噴嘴內(nèi)，而當(dāng)磁盤(pán)繼續(xù)旋轉(zhuǎn)一定角度后，另一相鄰的通孔也位于進(jìn)口的正上方，其內(nèi)錫珠也由錫珠導(dǎo)孔進(jìn)入錫焊噴嘴內(nèi)，依次旋轉(zhuǎn)磁盤(pán)使得各通孔內(nèi)的錫珠依次進(jìn)入錫焊噴嘴內(nèi)，在上述過(guò)程中，每次只有一顆錫珠進(jìn)入錫焊噴嘴內(nèi)用于焊接，且通過(guò)磁盤(pán)的旋轉(zhuǎn)從而達(dá)到單顆植球的目的，利于產(chǎn)品的量產(chǎn)化，當(dāng)然在是磁盤(pán)旋轉(zhuǎn)的過(guò)程中，當(dāng)每一通孔內(nèi)的錫珠植球后，應(yīng)向該通孔內(nèi)補(bǔ)充錫珠，進(jìn)而保證單顆錫珠植球過(guò)程的持續(xù)性。
【附圖說(shuō)明】
[0017]為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其它的附圖。
[0018]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的單顆錫珠植球裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019]圖2為圖1的單顆錫珠植球裝置的磁盤(pán)的俯視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0020]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其它實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0021]參見(jiàn)圖1以及圖2，本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種單顆錫珠植球裝置1，包括工作臺(tái)11，在工作臺(tái)11上設(shè)置有磁盤(pán)12以及錫焊噴嘴13，磁盤(pán)12可繞自身軸線水平旋轉(zhuǎn)，通常呈圓形結(jié)構(gòu)，錫焊噴嘴13具有容納腔131，其可將位于容納腔131內(nèi)的錫珠2噴出以達(dá)到錫焊的目的，在磁盤(pán)12上開(kāi)設(shè)有若干通孔121，各通孔121間隔設(shè)置且位于同一圓周上，且該圓周的圓心剛好位于磁盤(pán)12的旋轉(zhuǎn)軸123線上，在每一通孔121內(nèi)均可以填塞有一顆錫珠2，工作臺(tái)11具有支撐面111，磁盤(pán)12的下表面靠近或者接觸該支撐面111，當(dāng)通孔121內(nèi)填塞有錫珠2后，支撐面111支撐該錫珠2，且在磁盤(pán)12旋轉(zhuǎn)后，各通孔121內(nèi)的錫珠2均沿支撐面111移動(dòng)，在工作臺(tái)11上還設(shè)置有錫珠導(dǎo)孔14，該錫珠導(dǎo)孔14的一端連通至錫焊噴嘴13的容納腔131，而其另一端具有進(jìn)口 141，該進(jìn)口 141豎直向上且至磁盤(pán)12旋轉(zhuǎn)軸123線的距離與各通孔121至磁盤(pán)12旋轉(zhuǎn)軸123線的距離相同，且錫珠導(dǎo)孔14沿磁盤(pán)12至容納腔131的方向向下延伸，即當(dāng)磁盤(pán)12旋轉(zhuǎn)時(shí)，可以調(diào)節(jié)其中一通孔121位于錫珠導(dǎo)孔14的進(jìn)口 141的正上方，另外該錫珠導(dǎo)孔14的口徑應(yīng)不小于錫珠2的直徑，即當(dāng)內(nèi)置有錫珠2的通孔121位于錫珠導(dǎo)孔14進(jìn)口 141的正上方時(shí)，錫珠2可由該通孔121經(jīng)進(jìn)口141掉落至錫珠導(dǎo)孔14內(nèi)。本實(shí)用新型中，在每一通孔121內(nèi)均填塞有錫珠2，當(dāng)旋轉(zhuǎn)磁盤(pán)12至一定角度時(shí)，其中一通孔121剛好位于錫珠導(dǎo)孔14進(jìn)口 141的正上方，其內(nèi)錫珠2經(jīng)錫珠導(dǎo)孔14進(jìn)入磁盤(pán)12噴嘴的容納腔131內(nèi)進(jìn)行錫焊，然后磁盤(pán)12再次旋轉(zhuǎn)一定角度與上述通孔121相鄰的另一通孔121位于錫珠導(dǎo)孔14進(jìn)口 141的正上方，則該通孔121內(nèi)的錫珠2也沿錫珠導(dǎo)孔14進(jìn)入錫焊噴嘴13內(nèi)進(jìn)行錫焊，依次旋轉(zhuǎn)磁盤(pán)12 —定角度，從而可以使得各通孔121內(nèi)的錫珠2 —顆一顆進(jìn)入錫焊噴嘴13內(nèi)，即達(dá)到了單顆錫珠2植球的目的，有利于產(chǎn)品焊接的量產(chǎn)化。當(dāng)然在上述磁盤(pán)12旋轉(zhuǎn)的過(guò)程中，當(dāng)其中一個(gè)或者部分通孔121內(nèi)的錫珠2植入錫焊噴嘴13內(nèi)后，應(yīng)向該通孔121內(nèi)繼續(xù)填塞錫珠2，進(jìn)而保證單顆錫珠2植球過(guò)程的持續(xù)性，提高錫焊工作效率。對(duì)于錫焊噴嘴13應(yīng)沿豎直方向設(shè)置，且沿豎直向下的方向容納腔131呈漸縮狀，且其底部位置的尺寸略大于錫珠2的直徑。在錫焊噴嘴13上方設(shè)置有激光發(fā)生器(圖中未示出)，容納腔131即為激光束的通道，在錫焊時(shí)，錫焊噴嘴13的正下方設(shè)置有焊盤(pán)3，且在焊盤(pán)3上設(shè)置有若干限位結(jié)構(gòu)31，當(dāng)錫珠2由錫焊噴嘴13內(nèi)噴出后，該錫珠2剛好位于焊盤(pán)3的其中一限位結(jié)構(gòu)31內(nèi)，從而完成單顆錫珠2植球過(guò)程，而將容納腔131設(shè)計(jì)為漸縮狀，則可有利于錫珠2在錫焊噴嘴13內(nèi)的移動(dòng)。
[0022]參見(jiàn)圖1，優(yōu)化上述實(shí)施例，在工作臺(tái)11上還設(shè)置有離子風(fēng)口 15，該離子風(fēng)口 15豎直朝向可以持續(xù)向下吹出潔凈的離子風(fēng)，該離子風(fēng)口 15位于錫珠導(dǎo)孔14的進(jìn)口 141的正上方，且磁盤(pán)12剛好夾設(shè)于離子風(fēng)口 15與進(jìn)口 141之間。本實(shí)用新型中，錫珠2的尺寸為0.050mm-0.760mm,當(dāng)磁盤(pán)12旋轉(zhuǎn)時(shí)，錫珠2與工作臺(tái)11支撐面111之間摩擦產(chǎn)生靜電，且當(dāng)錫珠2位于錫珠導(dǎo)孔14進(jìn)口 141的正上方時(shí)，由于該錫珠2表面的靜電沒(méi)有消除其可能發(fā)生不掉落至錫珠導(dǎo)孔14內(nèi)的現(xiàn)象，對(duì)此本實(shí)施例中，在磁盤(pán)12上方設(shè)置有離子風(fēng)口 15，當(dāng)錫珠2移動(dòng)至錫珠導(dǎo)孔14的進(jìn)口 141正上方時(shí)