專利名稱：平版印刷印版支架及其生產(chǎn)方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種平版印刷印版支架的生產(chǎn)方法、一種平版印刷印版支架和一種PS印版。具體地說，本發(fā)明涉及一種為具有優(yōu)良打印性能和經(jīng)受重復(fù)打印性能的PS印版的支架的平版印刷印版支架、一種能夠以高生產(chǎn)穩(wěn)定性生產(chǎn)平版印刷印版支架的生產(chǎn)方法、以及一種具有上述優(yōu)點的PS印版。
通常，平版印刷印版支架是通過以下連續(xù)進行的方法生產(chǎn)的。當(dāng)將一研磨劑懸浮于水中的研磨漿液供應(yīng)到鋁或鋁合金板(本文下面為“鋁板”)或網(wǎng)等表面的同時，該表面經(jīng)受通過旋轉(zhuǎn)刷等進行機械研磨的機械表面粗糙化處理。接下來，該平版印刷印版支架經(jīng)過堿試劑的蝕刻處理、電解表面粗糙化處理、陽極化處理等。
在機械表面粗糙化處理時，通常一輥樣刷等進行研磨，同時供應(yīng)研磨漿液(其中粘合劑以顆粒形式懸浮于水或類似物中)。
然而，在機械表面粗糙化時，通常將鋁板等的表面通過輥樣刷的刷毛摩擦，并形成長約1mm的劃痕或者研磨劑刺入表面，從而形成大量壓痕。而且，這些劃痕和壓痕甚至通過之后的蝕刻處理和電解表面粗糙化處理等也不能除去，并留在表面上。
在前述機械研磨過程中，為了保存研磨漿液并使產(chǎn)生的廢水量低，廣泛地將研磨漿液回收并再次利用。然而，在機械研磨時，研磨漿液中的至少部分研磨劑顆粒被磨碎并變成更細小的顆粒。因此，當(dāng)僅將研磨漿液回收和再次利用時，細碎研磨劑顆粒在研磨漿液中積聚，并且研磨漿液中的研磨劑的平均粒徑逐漸降低。結(jié)果，研磨劑顆粒的平均粒徑變得過小，并且平版印刷印版支架的質(zhì)量也不穩(wěn)定。
印版，由在這種平版印刷印版支架上形成感光層的PS印版制成，經(jīng)受重復(fù)打印性能差。而且，當(dāng)使用這種印版進行打印時，油墨粘附到打印機的橡膠輥的輥筒上，并且油墨進入因研磨劑刺入印版引起的劃痕中，這樣弄臟了打印紙表面的非圖像部分。
綜上所述，本發(fā)明的目的是提供一種平版印刷印版支架，它為具有經(jīng)受重復(fù)打印的優(yōu)良性能的PS印版的支架，并且其中沒有例如前輥筒弄臟(弄臟膠印機的橡膠輥筒)的外觀缺陷以及打印紙表面的臟斑點等，本發(fā)明還提供了一種生產(chǎn)該平版印刷印版支架的方法以及具有上述優(yōu)點的PS印版。
本發(fā)明的一個方面是一種平版印刷印版支架的生產(chǎn)方法，包括步驟在供應(yīng)研磨劑顆粒的同時通過旋轉(zhuǎn)刷摩擦使平版印刷印版支架的至少一個表面經(jīng)受機械表面粗糙化處理，研磨劑顆粒的平均粒徑為5-70μm，其中粒徑大于或等于100μm的顆粒含量為10wt％或更低，粒徑大于或等于500μm的顆粒含量為1wt％或更低，顆粒中二氧化硅的含量為90wt％或更高。
按照上述生產(chǎn)方法獲得一種為PS印版的支架的平版印刷印版支架，它具有經(jīng)受重復(fù)打印的優(yōu)良性能，并且甚至打印許多張時在打印紙表面上不會出現(xiàn)外觀缺陷。
本發(fā)明還為一種平版印刷印版支架的生產(chǎn)方法，其中旋轉(zhuǎn)刷的刷毛直徑為0.15-1.35mm并且刷毛的嵌入密度為30-5000根刷毛/cm2。
一種PS印版，其支架是通過上述生產(chǎn)方法獲得的平版印刷印版支架，具有經(jīng)受重復(fù)打印的特別優(yōu)良性能并且?guī)缀醪慌K打印紙表面的優(yōu)點。
本發(fā)明還為一種平版印刷印版支架，其中在供應(yīng)研磨劑顆粒的同時通過旋轉(zhuǎn)刷摩擦使該平版印刷印版支架的至少一個表面經(jīng)受機械表面粗糙化處理，研磨劑顆粒的平均粒徑為5-70μm，其中粒徑大于或等于100μm的顆粒含量為10wt％或更低，粒徑大于或等于500μm的顆粒含量為1wt％或更低，顆粒中二氧化硅的含量為90wt％或更高。
通過在表面已經(jīng)過機械表面粗糙化處理的平版印刷印版支架的表面上形成一感光層，可以生產(chǎn)出具有經(jīng)受重復(fù)打印的優(yōu)良性能且即使打印許多張時打印紙表面上也不會出現(xiàn)外觀缺陷的PS印版。
本發(fā)明還為一種PS印版，其中表面已經(jīng)過表面粗糙化處理的平版印刷印版支架的表面經(jīng)受陽極化處理，并在該表面上形成一感光層。
該PS印版具有優(yōu)良的經(jīng)受重復(fù)打印性能，并且即使打印許多張之后也不會在打印紙表面上出現(xiàn)外觀缺陷。因此，該PS印版特別適宜膠印對經(jīng)受重復(fù)打印性能和打印紙表面的圖像質(zhì)量要求較高的報紙和雜志。
本發(fā)明的另一方面是一種平版印刷印版支架，其中在經(jīng)受表面粗糙化處理和陽極化處理的一個表面上的表面粗糙度Ra為0.3-1.0μm，最大粗糙度Rmax為10μm或更低，凸出高度大于設(shè)定值+0.3μm并且凹入深度大于設(shè)定值-0.3μm的粗糙凸出數(shù)Pc為15-35個凸出/mm，凸出高度大于設(shè)定值+0.6μm并且凹入深度大于設(shè)定值-0.6μm的粗糙凸出數(shù)Pc為7-25個凸出/mm，凸出高度大于設(shè)定值+1.0μm并且凹入深度大于設(shè)定值-1.0μm的粗糙凸出數(shù)Pc為2-18個凸出/mm。
在平版印刷印版支架上形成均勻粗糙的表面。因此，將該平版印刷印版支架作為其支架的PS印版具有優(yōu)良的經(jīng)受重復(fù)打印性能、持水性、色調(diào)再現(xiàn)性、非圖像部分弄臟的困難性、和水/油墨平衡、以及小的點增益。
本發(fā)明還為一PS印版，其中在表面已經(jīng)過表面粗糙化處理和陽極化處理的平版印刷印版支架的表面上形成一感光層。
由于該PS印版在平版印刷印版支架和感光層之間具有優(yōu)良的粘性，因此經(jīng)受重復(fù)打印性能就高。而且，持水性、色調(diào)再現(xiàn)性、非圖像部分弄臟的困難性和水/油墨平衡優(yōu)良，并且點增益小。而且，例如沒有例如外輥筒弄臟和斑點弄臟等的外觀缺陷。
本發(fā)明的另一方面為一種平版印刷印版支架的生產(chǎn)方法，包括研磨漿液供應(yīng)步驟，將研磨漿液供應(yīng)到平版印刷印版支架的至少一個表面上；機械研磨步驟，在一面上已供應(yīng)有研磨漿液的平版印刷印版支架的表面經(jīng)機械研磨；和研磨漿液廢液回收步驟，將機械研磨步驟中產(chǎn)生的研磨漿液廢液回收，并將平均粒徑為研磨漿液供應(yīng)步驟中供應(yīng)的研磨漿液中所含研磨劑顆粒平均粒徑的1/3-1/10的顆粒從研磨漿液廢液中除去，并將剩余漿液返回到研磨漿液供應(yīng)步驟中。
在該生產(chǎn)方法中的研磨漿液廢液回收步驟中，將平均粒徑在特定范圍的小直徑顆粒除去，并將剩余漿液再次使用。因此，不僅研磨漿液的消耗量可以降低，而且研磨漿液中的研磨劑顆粒的平均粒徑不會變得過大或過小。因此，支架為通過該生產(chǎn)方法獲得的平版印刷印版支架的PS印版具有經(jīng)受重復(fù)打印的優(yōu)良性能。而且，當(dāng)將該PS印版用于膠印時，打印機中打印油墨與外輥筒之間的粘性很小，因此很難出現(xiàn)所謂的外輥筒弄臟。
本發(fā)明還為一種平版印刷印版支架的生產(chǎn)方法，其中研磨漿液中的研磨劑的平均粒徑為10-70μm。
一種PS印版，其支架為通過該生產(chǎn)方法獲得的平版印刷印版支架，尤其具有經(jīng)受重復(fù)打印的優(yōu)良性能，并且很難出現(xiàn)外輥筒弄臟。
本發(fā)明還為一種平版印刷印版支架的生產(chǎn)方法，其中在研磨漿液廢液回收步驟中，將平均粒徑為研磨漿液供應(yīng)步驟中供應(yīng)的研磨漿液中所含研磨劑顆粒平均粒徑的1/3-1/10的顆粒通過旋風(fēng)器分級除去。
旋風(fēng)器具有不能移動的部分，與普通濾器等相比其壓力損失低。因此，在該生產(chǎn)方法中，除去平均粒徑在上述范圍內(nèi)的顆粒所需的能量少，并且可靠性高。
本發(fā)明還為一種生產(chǎn)平版印刷印版支架的設(shè)備，該設(shè)備包括將研磨漿液供應(yīng)到待研磨的平版印刷印版支架表面上的研磨漿液供應(yīng)設(shè)備；在已供應(yīng)有研磨漿液的面上機械地研磨平版印刷印版支架表面的機械研磨設(shè)備；和將機械研磨設(shè)備中產(chǎn)生的研磨漿液廢液回收，并從研磨漿液廢液中除去平均粒徑為研磨漿液供應(yīng)設(shè)備供應(yīng)的研磨漿液中所含研磨劑顆粒平均粒徑的1/3-1/10的顆粒，以及將剩余漿液返回到研磨漿液供應(yīng)設(shè)備中的研磨漿液廢液回收設(shè)備。在該生產(chǎn)設(shè)備中尤其適宜實施上述生產(chǎn)方法。
附圖簡述

圖1為描述在生產(chǎn)本發(fā)明平版印刷印版支架中所用的研磨設(shè)備的例子的簡圖，其中A為鋁襯底，2A、4A、6A為刷毛。
圖2為描述本發(fā)明的平版印刷印版支架生產(chǎn)設(shè)備的例子的基本結(jié)構(gòu)的簡圖，其中2為刷-粒處理設(shè)備，6為研磨漿液廢液回收設(shè)備，8為旋轉(zhuǎn)刷(機械研磨設(shè)備)，10為旋轉(zhuǎn)刷(機械研磨設(shè)備)，18為第一個研磨劑噴霧器(研磨漿液供應(yīng)設(shè)備)，20為第二個研磨劑噴霧器(研磨漿液供應(yīng)設(shè)備)，以及22為研磨漿液供應(yīng)導(dǎo)管(研磨漿液供應(yīng)設(shè)備)。
圖3為顯示在生產(chǎn)本發(fā)明的平版印刷印版支架的方法的研磨漿液供應(yīng)步驟中供應(yīng)的研磨劑顆粒的粒徑分布與研磨漿液廢液回收步驟中除去的顆粒的粒徑分布之間關(guān)系的粒徑分布圖。
優(yōu)選實施例的詳細描述1、平版印刷印版支架已經(jīng)過表面粗糙化處理和陽極化處理的本發(fā)明的平版印刷印版支架表面的表面粗糙度Ra優(yōu)選為0.3-1.0μm，更優(yōu)選0.45-0.7μm。表面粗糙度Ra為下式1所代表的值Ra=[∫0L|f(x)|dx]L]]>式1其中僅參數(shù)長度L取自測定表面粗糙度的表面上的粗度曲線的平均線方向；并且該提取部分的平均線的方向沿X軸，垂直放大的方向沿Y軸，粗度曲線以y＝f(x)表示。表面粗糙度Ra的單位通常為μm。參數(shù)長度L通常為3mm，但是對該長度沒有限制。
本發(fā)明平版印刷印版支架的前述表面的最大粗糙度Rmax為10μm或更低，優(yōu)選7μm或更低，更優(yōu)選7-2μm。
該最大粗糙度Rmax為評價長度d部分中凸出峰線與凹入底線之間的距離。評價長度通常為3mm，但是與表面粗糙度Ra相同，對該長度也沒有限制。
凸出高度大于設(shè)定值+0.3μm并且凹入深度大于設(shè)定值-0.3μm的粗糙凸出數(shù)Pc為15-35個凸出/mm，優(yōu)選23-30個凸出/mm。凸出高度大于設(shè)定值+0.6μm并且凹入深度大于設(shè)定值-0.6μm的粗糙凸出數(shù)Pc為7-25個凸出/mm，優(yōu)選13-20個凸出/mm。凸出高度大于設(shè)定值+1.0μm并且凹入深度大于設(shè)定值-1.0μm的粗糙凸出數(shù)Pc為2-18個凸出/mm，優(yōu)選5-10個凸出/mm。
粗糙凸出數(shù)Pc的設(shè)定值為一參照水平的高度。因此，凸出高度大于設(shè)定值+0.3μm并且凹入深度大于設(shè)定值-0.3μm的粗糙凸出數(shù)Pc是單位測定長度中凸出高度大于參照水平+0.3μm并且凹入深度大于參照水平-0.3μm的凸出數(shù)，尤其是1mm測定長度中的這些凸出數(shù)。
類似地，凸出高度大于設(shè)定值+0.6μm并且凹入深度大于設(shè)定值-0.6μm的粗糙凸出數(shù)Pc是1mm測定長度中凸出高度大于參照水平+0.6μm并且凹入深度大于參照水平-0.6μm的凸出數(shù)。
而且，凸出高度大于設(shè)定值+1.0μm并且凹入深度大于設(shè)定值-1.0μm的粗糙凸出數(shù)Pc是1mm測定長度中凸出高度大于參照水平+1.0μm并且凹入深度大于參照水平-1.0μm的凸出數(shù)。
表面粗糙度Ra、最大粗糙度Rmax和粗糙凸出數(shù)Pc都可以常規(guī)表面粗糙度測定設(shè)備測定的平版印刷印版表面的粗糙度的結(jié)果為基礎(chǔ)確定。
一種平版印刷印版支架，該平版印刷印版的表面已經(jīng)過表面粗糙化處理和陽極化處理且其表面粗糙度Ra、最大粗糙度Rmax和粗糙凸出數(shù)Pc落入上述范圍，它具有一結(jié)構(gòu)，其中在前述表面上均勻地形成相對粗糙-粒狀的凸出和凹入部分，并且在這些凸出和凹入部分的內(nèi)側(cè)形成更細小-粒狀的均勻凸出和凹入部分。因此，在前述平版印刷印版表面上形成一感光層的PS印版，由于在感光層和平版印刷印版支架之間的優(yōu)良粘性，因此它具有良好的重復(fù)打印耐性。而且，該PS印版的表面具有良好的持水性，難以被油墨弄臟，并且具有優(yōu)良的色調(diào)再現(xiàn)性和水/油墨平衡。因此，可以獲得清潔且誘人的打印紙表面，即打印紙表面的圖像質(zhì)量非常好。
本發(fā)明的平版印刷印版支架可以是鋁襯底等的表面經(jīng)受表面粗糙化處理和陽極化處理形成的支架。
用于鋁襯底的材料可以選自已知的鋁和鋁合金。2、生產(chǎn)平版印刷印版支架的方法本發(fā)明的平版印刷印版支架可以通過例如將用于平版印刷印版的金屬襯底經(jīng)受表面粗糙化處理，然后經(jīng)受陽極化處理來生產(chǎn)。2-1表面粗糙化在本發(fā)明生產(chǎn)方法的表面粗糙化處理中，在供應(yīng)主要組分為二氧化硅顆粒且平均粒徑和粒徑分布在特定范圍內(nèi)的研磨劑顆粒的同時，在用于平版印刷印版的金屬襯底的至少一個表面上機械通過旋轉(zhuǎn)刷摩擦的機械表面粗糙化處理。然后，可以進行蝕刻處理和電解表面粗糙化處理中至少一種。A、機械表面粗糙化處理在機械表面粗糙化處理時，可以進行刷-粒處理，其中用于平版印刷印版的金屬襯底的表面受到旋轉(zhuǎn)刷的摩擦。
例如，經(jīng)常用作PS印版等的支架的金屬板或金屬網(wǎng)(下文的“用于平版印刷印版的金屬網(wǎng)”)可用作平版印刷印版的金屬襯底。例如，由純鋁或鋁合金(下文的“鋁等”)形成的板或薄片等可用作平版印刷印版的金屬網(wǎng)。平版印刷印版的金屬襯底(鋁襯底)可以為連續(xù)薄片形式，或者可以為大小相應(yīng)于PS印版并已產(chǎn)品運輸?shù)姆珠_的薄片形式。
可以在旋轉(zhuǎn)刷和鋁襯底之間供應(yīng)研磨劑顆粒的同時進行刷-粒處理。
在刷-粒處理中所用的研磨劑顆粒的平均粒徑優(yōu)選為5-70μm，特別優(yōu)選10-40μm，最優(yōu)選15-35μm。
粒徑大于或等于100μm的顆粒在研磨劑顆粒中的含量優(yōu)選為10wt％或更低，特別優(yōu)選不超過5wt％。最優(yōu)選這些顆粒的含量不超過2.5wt％，或者幾乎一點都不含。
粒徑大于或等于500μm的顆粒在研磨劑顆粒中的含量優(yōu)選為1wt％或更低，特別優(yōu)選不超過0.5wt％。最優(yōu)選這些顆粒的含量不超過0.2wt％，或者幾乎一點都不含。
優(yōu)選90wt％或更高的研磨劑顆粒為二氧化硅顆粒。研磨劑顆粒可以僅為二氧化硅顆粒。或者，除二氧化硅顆粒之外，還可以含有擦刮研磨劑例如鋁、鐵、粘土、滑石、氧化鐵、氧化鉻、煅燒過的氧化鋁等，以及研磨劑例如金剛石、金剛砂、尖晶石、碳硅砂、剛玉、碳化硼等。
由于進行表面粗糙化處理，在平版印刷印版支架的表面中形成大部分為最粗糙-粒狀凸出和凹入部分的特大波紋以及為比特大波紋稍細-粒狀的凸出和凹入部分的大波紋。特大波紋和大波紋的均勻性與點增益的大小、色調(diào)再現(xiàn)性、表面持水性以及被PS印版的油墨弄臟的困難性特別相關(guān)。在進行表面粗糙化處理時，如果使用上述研磨劑顆粒，研磨劑顆粒不滲透到由于平版印刷印版的金屬網(wǎng)的表面中，并且該表面不被粒徑大的研磨劑顆粒鑿?fù)?。因此，在平版印刷印版支架的表面中不形成?dǎo)致以下情況的大劃痕所謂大輥筒弄臟(其中膠印機的橡膠輥被弄臟)、或者打印紙表面的斑點弄臟等。特別地，具有平版印刷印版支架的PS印版，它是使用上述研磨劑顆粒通過機械表面粗糙化處理獲得且其表面的最大粗糙度Rmax為10μm或更低、表面粗糙度Ra為0.3-1.0μm，即均勻地形成特大波紋和大波紋的平版印刷印版支架的PS印版，具有小的點增益，優(yōu)良的色調(diào)再現(xiàn)性、優(yōu)良的表面持水性，并難以弄臟。
這些研磨劑顆?？梢岳鐫{液等使用。漿液可以是研磨劑顆粒以約5-70wt％的濃度懸浮于水中的懸浮液等。還可以將增稠劑、如表面活性劑的分散劑、防腐劑等混合于懸浮液中。
例如可以通過使用例如圖1所示的研磨設(shè)備進行該機械表面粗糙化處理。
如圖1所示，該研磨設(shè)備配備有3個輥樣刷2、4、6，它們平行安裝并在相同高度，并且它們研磨已恒定方向a運輸?shù)匿X襯底A；支架輥8A、8B、10A、10B、12A、12B，它們是以平行成對地為輥樣刷2、4、6配備的，并從下面支撐鋁襯底A；和基本上為平行六面體的外殼14，它容納輥樣刷2、4、6和支撐輥8A、8B、10A、10B、12A、12B、以及鋁襯底A通過的內(nèi)部空間。
如圖1所示，輥樣刷2、4、6配備有彼此平行的旋轉(zhuǎn)軸2C、4C、6C；圍繞旋轉(zhuǎn)軸2C、4C、6C旋轉(zhuǎn)的輥筒2B、4B、6B；以及嵌入所述輥筒2B、4B、6B表面中并沿徑向向外面延伸的刷毛2A、4A、6A。
刷毛2A、4A、6A優(yōu)選直徑為0.15-1.35mm，長10-100mm。
刷毛2A、4A、6A的例子為選自由例如尼龍、聚丙烯、聚氯乙烯樹脂等的合成樹脂形成的合成樹脂毛、例如牛毛、豬毛、馬毛等的動物毛、以及例如羊毛等的天然纖維的刷材料。
優(yōu)選將刷毛2A、4A、6A以30-5000根毛/cm2的嵌入密度嵌入輥筒2B、4B、6B中。這些刷毛可以一根一根地嵌入，或者可以將多根毛嵌入，例如10-5000根毛的束。
在機械粗糙化處理時，優(yōu)選使用刷毛直徑和嵌入密度落入上述范圍的輥樣刷以及上述研磨劑，這是因為在鋁襯底的表面中可以形成甚至更均勻的特大波紋和大波紋。
為了在運輸方向上游側(cè)(下文的“上游側(cè)”)鄰接輥樣刷2，4，6的刷毛2A、4A、6A的尖端，配備了支撐輥8A、10A、12A。為了在運輸方向下游側(cè)(下文的“下游側(cè)”)鄰接輥樣刷2，4，6的刷毛2A、4A、6A的尖端，配備了支撐輥8B、10B、12B。
如圖1所示，在待研磨的鋁襯底的表面上，輥樣刷2和4以從上游側(cè)至下游側(cè)的方向旋轉(zhuǎn)。輥樣刷6在待研磨的表面上以從下游側(cè)至上游側(cè)的方向旋轉(zhuǎn)，或者方向與之相反。輥樣刷2、4、6的轉(zhuǎn)速優(yōu)選為約100-1000rpm。
為了圍繞其軸自由旋轉(zhuǎn)，將支撐輥8A、8B、10A、10B、12A、12B都裝上。
如圖1所示，第一個上游側(cè)導(dǎo)向輥16A(將鋁襯底A導(dǎo)向外殼14內(nèi)部)安裝在外殼14上面的鋁襯底A入口側(cè)。第一個下游側(cè)導(dǎo)向輥18A(將鋁襯底A導(dǎo)向外殼14外面)安裝在出口側(cè)。在外殼14內(nèi)，將第二個上游側(cè)導(dǎo)向輥16B以與支撐輥4A和4C平行安裝在支撐輥4A附近的上游側(cè)。第二個上游側(cè)導(dǎo)向輥16B在輥樣刷2和支撐輥2A和2B之間導(dǎo)向由第一個上游側(cè)導(dǎo)向輥16A已導(dǎo)入外殼14中的鋁襯底A。
在支撐輥6B附近的下游側(cè)，與支撐輥12A、12B平行地安裝有第二個下游側(cè)導(dǎo)向輥18B。第二個下游側(cè)導(dǎo)向輥18B將通過輥樣刷2、4、6與支撐輥8A、8B、10A、10B、12A、12B之間的鋁襯底A導(dǎo)向第一個下游側(cè)導(dǎo)向輥18A。
供應(yīng)研磨漿液的研磨漿液供應(yīng)噴嘴20A、20B、20C分別安裝在輥樣刷2、4、6附近的上游側(cè)。
如圖1所示，回收從研磨漿液供應(yīng)噴嘴20A、20B、20C供應(yīng)的研磨漿液的研磨漿液回收槽22安裝在外殼14的下面。研磨漿液回收槽22通過研磨漿液返回導(dǎo)管24與外殼14的底部相連。
研磨漿液回收槽22通過漿液轉(zhuǎn)移導(dǎo)管28與旋風(fēng)器26相連，該旋風(fēng)器將研磨漿液中的研磨劑分成大粒徑的研磨劑和小粒徑的研磨劑。泵28A和溢流槽28B排列在漿液轉(zhuǎn)移導(dǎo)管28上。泵28A將回收槽22中的研磨漿液轉(zhuǎn)移到旋風(fēng)器26。溢流槽28B位于泵28A和研磨漿液回收槽22之間。
旋風(fēng)器26基本上為朝其底部直徑降低的圓錐形。引入研磨漿液的漿液引入管26A安裝在其上表面附近的旋風(fēng)器26的側(cè)面。漿液導(dǎo)出管26B安裝在旋風(fēng)器26上表面的中心部分。該漿液導(dǎo)出管26B排放主要含旋風(fēng)器26中分離的漿液中的小粒徑研磨劑顆粒的漿液。漿液導(dǎo)出管26C安裝在旋風(fēng)器26的下端部分。漿液導(dǎo)出管26C排放主要含漿液中大粒徑研磨劑顆粒的漿液。漿液引入管26A與漿液轉(zhuǎn)移管28相連。漿液導(dǎo)出管26C通過漿液回收導(dǎo)管30與研磨漿液回收槽22相通。漿液導(dǎo)出管26B與后面所述的廢液管線38相連。
研磨漿液回收槽22，通過與研磨漿液回收槽22底部附近相連的研磨漿液供應(yīng)導(dǎo)管32，與研磨漿液供應(yīng)噴嘴20A、20B、20C相通。將研磨漿液供應(yīng)到研磨漿液供應(yīng)噴嘴20A、20B、20C的泵32A安裝在研磨漿液導(dǎo)管32上。
補充研磨劑的研磨劑補充導(dǎo)管34、以及補充水的水補充導(dǎo)管36安裝在研磨漿液回收槽22上。
將漿液導(dǎo)出管26B排放的漿液分成研磨劑顆粒和水的離心分離器40安裝在廢液管線38上。
在圖1所示的研磨設(shè)備中，已沿運輸方向a朝外殼14運輸?shù)匿X襯底A通過第一個上游側(cè)導(dǎo)向輥16A和第二個上游測導(dǎo)向輥16B在輥樣刷2和支撐輥8A之間導(dǎo)向。
在輥樣刷2和支撐輥8B之間導(dǎo)向的鋁襯底A通過輥樣刷2和支撐輥8B之間，然后通過輥樣刷4和合成輥10A和10B之間，然后通過輥樣刷6和合成輥12A和12B之間。然后，貯藏在研磨漿液回收槽22中的研磨漿液從研磨漿液供應(yīng)噴嘴20A、20B、20C供應(yīng)到鋁襯底A的上表面。因此，由于刷毛2A、4A、6A的摩擦以及研磨漿液中研磨劑顆粒的研磨作用，鋁襯底A的上表面經(jīng)機械表面粗糙化，這樣如上所述形成特大波紋和大波紋。
通過輥樣刷6和支撐輥12B之間的鋁襯底A通過第二個下游側(cè)導(dǎo)向輥18B和第一個下游側(cè)導(dǎo)向輥18A導(dǎo)向外殼14的外面。
從研磨漿液供應(yīng)噴嘴20A、20B、20C供應(yīng)的研磨漿液通過研磨漿液返回導(dǎo)管24向下流入研磨漿液回收槽22。
研磨漿液回收槽22中的研磨漿液通過泵28A被轉(zhuǎn)移通過漿液轉(zhuǎn)移導(dǎo)管28，到達旋風(fēng)器26。
在旋風(fēng)器26中，研磨漿液沿內(nèi)側(cè)壁表面引入，并朝下端部分流動，同時沿內(nèi)側(cè)壁表面旋轉(zhuǎn)。因此，在研磨漿液中的研磨劑顆粒中，大粒徑的顆粒由于離心力而收集在內(nèi)側(cè)壁表面的附近，而小粒徑的顆粒聚集在中心部分。漿液被分成主要含相對大粒徑的研磨劑顆粒的漿液以及主要含有粒徑比研磨劑的平均粒徑小得多的研磨劑顆粒的漿液。前者從旋風(fēng)器26下端部分的漿液導(dǎo)出管26C導(dǎo)向漿液回收導(dǎo)管30。后者漿液從旋風(fēng)器26上表面的中心部分的漿液導(dǎo)出管26B導(dǎo)向廢液管線38中。
導(dǎo)向漿液回收導(dǎo)管30的漿液回到研磨漿液回收槽22。
導(dǎo)向廢液管線38的漿液導(dǎo)向離心分離器40，并分成基本上透明的液體和研磨劑顆粒。前者以廢液排放，而后者經(jīng)過適當(dāng)處理作為工業(yè)廢物。
除了機械表面粗糙化處理本發(fā)明的平版印刷印版支架之外，例如可以通過例如圖2所示配備有研磨設(shè)備的生產(chǎn)設(shè)備制備該平版印刷印版支架。
圖2所示的生產(chǎn)設(shè)備配備有刷-粒處理設(shè)備2，當(dāng)向沿固定方向運輸?shù)匿X網(wǎng)W的表面供應(yīng)研磨漿液的同時，通過旋轉(zhuǎn)刷進行研磨處理，即刷-粒處理；一沖洗設(shè)備4，沖洗在刷-粒處理設(shè)備2中已經(jīng)過刷-粒處理的鋁網(wǎng)W；和一研磨漿液廢液回收設(shè)備6，回收刷-粒處理設(shè)備2中產(chǎn)生的研磨漿液，分離出小粒徑，之后將漿液返回到刷-粒處理設(shè)備2中。
如圖2所示，刷-粒處理設(shè)備2配備有研磨鋁網(wǎng)W表面的旋轉(zhuǎn)刷8；旋轉(zhuǎn)刷10，安裝在旋轉(zhuǎn)刷8的運輸方向下游側(cè)，并且相似地研磨鋁網(wǎng)W的表面；支撐輥12A、12B、14A、14B，它們安裝在乙酸表面T的面上，為運輸鋁網(wǎng)W的路徑，該面與旋轉(zhuǎn)刷8和10所安裝的面相對，并從其下面支撐鋁網(wǎng)W；和外殼16，它容納旋轉(zhuǎn)刷8、10和支撐輥12A、12B、14A、14B，并在其上表面有一開口16A。下文，將運輸方向下游側(cè)稱之為“下游側(cè)”，將運輸方向上游側(cè)稱之為“上游側(cè)”。鋁網(wǎng)W為本發(fā)明的平版印刷印版支架的一個例子。旋轉(zhuǎn)刷8、10和支撐輥12A、12B、14A、14B相當(dāng)于本發(fā)明的平版印刷印版支架生產(chǎn)設(shè)備中的機械研磨設(shè)備。
旋轉(zhuǎn)刷8、10配備有與運輸表面T平行的旋轉(zhuǎn)軸8C、10C，并在運輸表面T的橫向延伸；圍繞旋轉(zhuǎn)軸8C、10C旋轉(zhuǎn)的圓筒8B、10B；和嵌入圓筒8B、10B側(cè)面中的刷毛8A、10A。刷毛8A、10A優(yōu)選直徑為0.15-1.35mm，長20-100mm。刷毛8A、10A優(yōu)選以30-5000根毛/cm2的嵌入密度嵌入圓筒8B、10B中。刷毛8A、10A的例子為由例如尼龍、聚丙烯、聚氯乙烯樹脂等的合成樹脂形成的合成樹脂毛。
將旋轉(zhuǎn)刷8、10安裝，使得旋轉(zhuǎn)刷8、10每個的外周部分比運輸表面T要低。如圖2中的箭頭b和c所示，旋轉(zhuǎn)刷8、10通過適宜的旋轉(zhuǎn)裝置以與待研磨的鋁網(wǎng)W表面的運輸方向a相同的方向旋轉(zhuǎn)。
支撐輥12A安裝在旋轉(zhuǎn)刷8的上游側(cè)，并且支撐輥12B安裝在旋轉(zhuǎn)刷8的上游側(cè)。類似地，支撐輥14A安裝在旋轉(zhuǎn)刷10的上游側(cè)，支撐輥14B安裝在旋轉(zhuǎn)刷上游側(cè)。
如圖2所示，第一個研磨劑噴霧器18安裝在旋轉(zhuǎn)刷8的附近，第二個研磨劑噴霧器安裝在旋轉(zhuǎn)刷10的附近。第一個研磨劑噴霧器18從運輸表面T上面向旋轉(zhuǎn)刷8和鋁網(wǎng)W之間的區(qū)域噴霧研磨漿液。第二個研磨劑噴霧器20從運輸表面T上面向旋轉(zhuǎn)刷10和鋁網(wǎng)W之間的區(qū)域噴霧研磨漿液。
第一個研磨劑噴霧器18和第二個研磨劑噴霧器20都為管狀，并且沿運輸表面T的橫向與運輸表面T平行地延伸。許多噴霧孔18A、20A沿縱向形成一排。形成噴霧孔18A、20A，以便以向下角度朝下游側(cè)噴霧研磨漿液，即朝圖2的下右方。第一個研磨劑噴霧器18和第二個研磨劑噴霧器20各自的一端與供應(yīng)研磨漿液的研磨漿液供應(yīng)導(dǎo)管22相連，并且其它端封閉。第一個研磨劑噴霧器18、第二個研磨劑噴霧器20和研磨漿液供應(yīng)導(dǎo)管22相當(dāng)于本發(fā)明的平版印刷印版支架生產(chǎn)設(shè)備中的研磨漿液供應(yīng)設(shè)備。
如圖2所示，在外殼16內(nèi)的最遠下游側(cè)安裝了初步?jīng)_洗噴霧器24，它安裝在運輸表面T的上面，并將洗滌水噴霧到鋁網(wǎng)W的表面上；初步?jīng)_洗噴霧器26，它安裝在運輸表面T的下面并將洗滌水噴霧到鋁網(wǎng)W的反面；和水?dāng)D壓輥28A、28B，它從鋁網(wǎng)W的表面和反面擠壓已從初步?jīng)_洗噴霧器24、26噴霧的水。
初步?jīng)_洗噴霧器24、26都為管狀，并且沿運輸表面T的橫向與運輸表面T平行地延伸。許多洗滌水噴霧孔24A、26A沿縱向形成。形成洗滌水噴霧孔24A、26A，以便向圖2所示的運輸表面T噴霧洗滌水。初步?jīng)_洗噴霧器24、26各自的一端與水供應(yīng)導(dǎo)管24B、26B相連。每米寬度鋁網(wǎng)W上從初步?jīng)_洗噴霧器24噴霧的洗滌水的量優(yōu)選為5-50l/min，并且特別優(yōu)選10-50l/min。另一方面，每米寬度鋁網(wǎng)W上從初步?jīng)_洗噴霧器26噴霧的洗滌水的量優(yōu)選為5-50l/min，并且特別優(yōu)選10-35l/min。
如果在初步?jīng)_洗截面2C上噴霧的洗滌水的量在上面范圍內(nèi)，那么足夠?qū)⒄掣皆阡X網(wǎng)W上的研磨漿液沖洗掉，因此，帶入沖洗設(shè)備4中的研磨劑的量可以較少。而且，沖洗掉的研磨漿液被洗滌水稀釋的程度低。因此，在研磨漿液廢液回收設(shè)備6中，因研磨漿液回收所致的研磨漿液中研磨劑顆粒的濃度可以保持較小的波動。
如圖2所示，水?dāng)D壓輥28A、28B位于初步?jīng)_洗噴霧器24、26的下游側(cè)，并經(jīng)安裝以使其可以自由旋轉(zhuǎn)，并且在分別與鋁網(wǎng)W的上表面和下表面鄰接的同時旋轉(zhuǎn)。
如圖2所示，在外殼16內(nèi)部的最上游側(cè)安裝上游側(cè)導(dǎo)向輥30A、30B。上游側(cè)導(dǎo)向輥30A、30B將已朝外殼16運輸?shù)匿X網(wǎng)W從開口16A導(dǎo)向旋轉(zhuǎn)刷8與支撐輥12A、12B之間的區(qū)域。另一方面，下游側(cè)導(dǎo)向輥32A、32B安裝在外殼16內(nèi)部的最下游側(cè)。下游側(cè)導(dǎo)向輥32A、32B將以通過水?dāng)D壓輥28A、28B的鋁網(wǎng)W導(dǎo)向到外殼16的外面。
沖洗設(shè)備4安裝在外殼16的下游。沖洗設(shè)備4包括一外殼34，該外殼的上表面開放，并且鋁網(wǎng)W通過它；上游側(cè)導(dǎo)向輥36，它將鋁網(wǎng)W從外殼34的開口34A導(dǎo)入外殼34；回轉(zhuǎn)輥38，它安裝在外殼34的下表面附近，并將已導(dǎo)入外殼34的鋁網(wǎng)W通過上游側(cè)導(dǎo)向輥36以朝開口34A的角度向上導(dǎo)向鋁網(wǎng)W；下游側(cè)導(dǎo)向輥40，它將已通過外殼34內(nèi)部的鋁網(wǎng)W朝沖洗設(shè)備4的下游側(cè)導(dǎo)向；和沖洗噴霧器42，它為管狀噴霧器，朝通過外殼34內(nèi)部的鋁網(wǎng)W的兩個表面噴霧洗滌水。
如圖2所示，洗滌噴霧器42與鋁網(wǎng)W在外殼34內(nèi)的運輸路徑平行地安裝。向鋁網(wǎng)W噴霧洗滌水的許多洗滌水噴霧孔42A沿縱向形成一排。洗滌水在洗滌水噴霧器42中的流速通常為每米鋁網(wǎng)W寬度內(nèi)300-50001/min，但是并不限于此。
排放在沖洗過程中產(chǎn)生的廢水的廢水管線46安裝在外殼34的底部。沉淀并除去廢水中的固體的凹坑安裝在廢水管線46。
如圖2所示，研磨漿液廢液回收設(shè)備6配備有漿液循環(huán)槽50，該槽位于外殼16下方并貯藏研磨漿液；導(dǎo)管52，它連通外殼16的底部和漿液循環(huán)罐50，并將研磨漿液廢液導(dǎo)向漿液循環(huán)槽50，該研磨漿液廢液例如有供應(yīng)到刷-粒處理設(shè)備2的研磨漿液和被來自初步?jīng)_洗噴霧器24、26噴霧的洗滌水沖洗掉的研磨漿液；旋風(fēng)器54A、54B，它們串聯(lián)排列，并從漿液循環(huán)槽50中的研磨漿液中除去粒徑小于研磨漿液中所含的研磨劑顆粒的平均粒徑的顆粒(下文的“小粒徑顆?！?；漿液返回導(dǎo)管58，它將已被旋風(fēng)器54A、54B除去小粒徑顆粒的研磨漿液返回到漿液循環(huán)槽50；和研磨漿液供應(yīng)導(dǎo)管22，它將漿液循環(huán)槽50中的研磨漿液供應(yīng)到第一個研磨劑噴霧器18和第二個研磨劑噴霧器20。
研磨漿液供應(yīng)導(dǎo)管22的一端安裝在漿液循環(huán)槽50的底部附近。向第一個研磨劑噴霧器和第二個研磨劑噴霧器供應(yīng)研磨漿液的泵22A安裝在研磨漿液供應(yīng)導(dǎo)管22上。
旋風(fēng)器54A配備有旋風(fēng)器主體54C，它形成為朝其底部直徑降低的大致圓錐形；漿液引入管54E，它安裝在旋風(fēng)器主體54C的側(cè)面，以便以切向從其上表面附近延伸，通過它將研磨漿液從漿液循環(huán)槽50引入；漿液導(dǎo)出管54G，它安裝在旋風(fēng)器主體54C的下端部分，通過它將已在旋風(fēng)器54A中除去小粒徑顆粒的研磨漿液導(dǎo)出；和小粒徑顆粒漿液排放管54i，它安裝在旋風(fēng)器主體54C的上表面，以便從中心部分向上延伸，通過它排放已在旋風(fēng)器54A中分級的小粒徑顆粒漿液。
旋風(fēng)器54B配備有旋風(fēng)器主體54D，與旋風(fēng)器54A的旋風(fēng)器主體54C相似地形成；漿液引入管54F，與漿液引入管54E相似地形成，并且通過引入從旋風(fēng)器54A的漿液導(dǎo)出管54i導(dǎo)出的研磨漿液；回收漿液導(dǎo)出管54H，與回收漿液導(dǎo)出管54G相似，安裝在旋風(fēng)器主體54D的下端部分，通過它將已在旋風(fēng)器54B中除去小粒徑顆粒的回收漿液導(dǎo)出；和小粒徑顆粒漿液排放管54J，與小粒徑顆粒漿液排放管54i相似地安裝在旋風(fēng)器主體54D的上表面，通過它排放已在旋風(fēng)器54B中分級的小粒徑顆粒漿液。
旋風(fēng)器主體54C、54D的內(nèi)壁用例如耐磨橡膠、聚氨酯樹脂、陶瓷等的耐磨材料襯里，或者通過鍍鉻等經(jīng)耐磨噴鍍。
旋風(fēng)器54A的漿液引入管54E通過漿液引入導(dǎo)管56與漿液循環(huán)槽50的底部附近相通。將漿液循環(huán)槽50中的研磨漿液送料到漿液引入管54的泵56A位于漿液引入導(dǎo)管56上，并且溢流槽56B排列在漿液循環(huán)槽50和泵56A之間的漿液引入導(dǎo)管56上。
旋風(fēng)器54A上的回收漿液引入管54G和旋風(fēng)器54B上的回收漿液引入管54H分別經(jīng)過漿液返回導(dǎo)管58a和漿液返回導(dǎo)管58b與漿液循環(huán)槽50相通。
補充研磨劑的研磨劑補充導(dǎo)管62和補充水的水補充導(dǎo)管64安裝在漿液循環(huán)槽50。
旋風(fēng)器54A的小粒徑顆粒漿液排放管54i與旋風(fēng)器54B的漿液引入泵54F相連。旋風(fēng)器54B的小粒徑顆粒漿液排放管54J與廢水管線60相連。
下面描述圖2所示的生產(chǎn)設(shè)備的操作。
通過運輸設(shè)備(未顯示)將鋁網(wǎng)W以箭頭a方向運輸，并通過上游側(cè)導(dǎo)向輥30A、30B將其導(dǎo)入刷-粒處理設(shè)備2。
漿液循環(huán)槽50中的研磨漿液從第一個研磨劑噴霧器18供應(yīng)到在刷-粒處理設(shè)備2中導(dǎo)向的鋁網(wǎng)W的表面上。
在本實施方式中，研磨漿液中研磨劑顆粒的平均粒徑優(yōu)選為10-70μm，特別優(yōu)選25-50μm。當(dāng)研磨劑顆粒的平均粒徑在該范圍時，獲得一為具有特別優(yōu)良的打印性能和經(jīng)受重復(fù)打印性能的PS印版的支架的平版印刷印版支架。
已從第一個研磨劑噴霧器18供應(yīng)有研磨漿液的鋁網(wǎng)W通過旋轉(zhuǎn)刷8和支撐輥12A、12B之間，并且其表面通過旋轉(zhuǎn)刷8的刷毛8A進行機械研磨。
與從第一個研磨劑噴霧器18供應(yīng)的研磨漿液相同的研磨漿液從第二個研磨劑噴霧器20供應(yīng)到已通過旋轉(zhuǎn)刷8機械研磨的鋁網(wǎng)W的表面上。已從第二個研磨劑噴霧器20供應(yīng)有研磨漿液的鋁網(wǎng)W通過旋轉(zhuǎn)刷10和支撐輥14A、14B之間，并且其表面通過旋轉(zhuǎn)刷10的刷毛10A進行機械研磨。
表面經(jīng)過刷毛8、10研磨的鋁網(wǎng)W接下來通過初步?jīng)_洗噴霧器24和初步?jīng)_洗噴霧器26。由于洗滌水從初步?jīng)_洗噴霧器24、26噴霧到鋁網(wǎng)W的表面，在上述機械研磨中粘附在鋁網(wǎng)W的正面和反面的大部分研磨漿液被沖洗掉。
鋁網(wǎng)W接下來通過水?dāng)D壓輥28A、28B之間，并將粘附在正面和反面的水滴等擠出。
已通過水?dāng)D壓輥28A、28B的鋁網(wǎng)W通過下游側(cè)導(dǎo)向輥32A、32B導(dǎo)向外殼16的外面。接下來，鋁網(wǎng)W通過上游側(cè)導(dǎo)向輥36導(dǎo)入沖洗設(shè)備4的外殼34中，并將洗滌水從沖洗噴霧器42噴霧到其正面和反面。依次進行本發(fā)明生產(chǎn)方法的沖洗過程。
已在沖洗設(shè)備4中沖洗的鋁網(wǎng)W通過下游側(cè)導(dǎo)向輥40導(dǎo)向后處理，例如蝕刻設(shè)備(未顯示)，在進行蝕刻。
研磨漿液廢液，包括從第一個研磨劑噴霧器18和第二個研磨劑噴霧器20供應(yīng)的研磨漿液、來自初步?jīng)_洗噴霧器24、26的洗滌水以及已從鋁網(wǎng)W的正面和反面沖洗掉的研磨漿液，在外殼16的底部混合，并通過導(dǎo)管52流入漿液循環(huán)槽50。因此，研磨漿液廢液與漿液循環(huán)槽50中的研磨漿液混合。
研磨漿液廢液包括作為小粒徑顆粒的細碎研磨劑顆粒，它是在刷-粒處理設(shè)備2中經(jīng)進機械研磨粉碎從而使其粒徑降低的研磨劑顆粒；和因研磨產(chǎn)生的研磨劑渣滓等。因此，這些小粒徑顆?；旌显跐{液循環(huán)槽50的研磨漿液中。
將漿液循環(huán)槽50中的研磨漿液通過溢流槽56B從漿液引入管54E引入旋風(fēng)器54A。
如上所述，漿液引入管54E以旋風(fēng)器主體54A的切向安裝。因此，在引入旋風(fēng)器主體54A的研磨漿液中產(chǎn)生圍繞旋風(fēng)器主體54A的軸旋轉(zhuǎn)的流動。因此，大部分大粒徑顆粒，流入研磨漿液中的研磨劑顆粒等，向旋風(fēng)器主體54A的壁表面移動，并且大部分小粒徑顆粒聚集在旋風(fēng)器主體54A的中心部分。以這種方式，可以從研磨漿液中除去大部分小粒徑顆粒。大部分小粒徑顆粒已被除去的研磨漿液從漿液導(dǎo)出管54G通過漿液返回導(dǎo)管58a返回到漿液循環(huán)槽50。
從旋風(fēng)器54A的漿液排放管54i排放的漿液被引入旋風(fēng)器54B的漿液引入管54F。
在上述漿液中，小粒徑顆粒已在旋風(fēng)器54B中除去的的研磨漿液從漿液導(dǎo)出管54H通過漿液返回管58b返回到漿液循環(huán)槽50。
在旋風(fēng)器54B中分離的漿液中的顆粒幾乎全部為小粒徑顆粒，并從漿液排放管54J通過漿液排放導(dǎo)管60排放到系統(tǒng)外面。
可以根據(jù)需要從研磨劑補充導(dǎo)管62和水補充導(dǎo)管64將研磨劑顆粒和水補充到研磨劑循環(huán)槽50，以便研磨劑循環(huán)槽50中的研磨漿液的研磨劑濃度和粒徑分布為常數(shù)。
在旋風(fēng)器54B中分離的小粒徑顆粒的平均粒徑為研磨劑漿液中研磨劑粒徑平均粒徑的1/3-1/10。這里，研磨漿液中研磨劑顆粒的平均粒徑例如為漿液循環(huán)槽50內(nèi)的研磨漿液中所含的研磨漿液的平均粒徑。研磨漿液中研磨劑顆粒的平均粒徑與小粒徑顆粒的平均粒徑的關(guān)系示于圖2中。由圖2可以看出，與研磨漿液中的研磨劑顆粒相同，小粒徑顆粒的粒徑也沿正常曲線分布。假設(shè)研磨漿液中研磨劑顆粒的平均粒徑為d，那么小粒徑顆粒的平均粒徑為d/3-d/10。
例如可以根據(jù)常規(guī)方法，通過測定從漿液排放管54J排放的小粒徑顆粒漿液中顆粒的粒徑分布來確定小粒徑顆粒的顆粒分布。這種方法的例子包括篩選法、沉淀法、光掃描法、光學(xué)衍射法等。以相同方式可以測定漿液循環(huán)槽50中研磨漿液的研磨劑顆粒的平均粒徑。
如果在旋風(fēng)器54B中分離的小粒徑顆粒的平均粒徑在上述范圍內(nèi)，那么研磨漿液的消耗少，且經(jīng)濟。而且，由于研磨漿液中的研磨劑顆粒的平均粒徑不是太大，因此可以防止平版印刷印版支架的表面粗糙度Ra變得過大。因此，該平版印刷印版支架可以在高生產(chǎn)穩(wěn)定性下生產(chǎn)。而且，支架為上述平版印刷印版支架的PS印版具有優(yōu)良的打印性能和經(jīng)受重復(fù)打印性能。
為了使小粒徑顆粒的平均粒徑落入上述范圍，可以調(diào)整旋風(fēng)器54A、54B中的研磨漿液的引入流速和引入壓力。或者，通過調(diào)整從研磨劑補充導(dǎo)管62補充的研磨劑的粒徑分布，可以調(diào)整漿液循環(huán)槽50中研磨漿液的研磨劑的平均粒徑。
在上述平版印刷印版支架生產(chǎn)設(shè)備中，兩個旋風(fēng)器串聯(lián)排列。然而，可以使用一個旋風(fēng)器，或者可以串聯(lián)排列3個或多個旋風(fēng)器。而且，兩個或多個旋風(fēng)器可以并聯(lián)排列。
在上述生產(chǎn)設(shè)備中，研磨漿液廢液中的細碎研磨劑顆粒和研磨劑渣滓等通過旋風(fēng)器54B以小粒徑顆粒漿液除去，并將剩余漿液回收，作為研磨漿液再次利用。因此，可以降低研磨漿液的消耗量。而且，研磨漿液中的研磨劑顆粒的濃度和粒徑分布可以長時間地保持恒定。因此，可以高生產(chǎn)穩(wěn)定性地生產(chǎn)出為具有優(yōu)良打印性能和經(jīng)受重復(fù)打印的優(yōu)良性能的PS印版的支架的平版印刷印版支架。
由于旋風(fēng)器54A、54B都為不能移動的部分，因此研磨漿液廢液回收設(shè)備6的結(jié)構(gòu)簡單，并且研磨漿液廢液回收設(shè)備6很少破壞。
在上述機械表面粗糙化處理之后，鋁襯底可以經(jīng)過蝕刻處理和電解表面粗糙化處理中至少一種。而且，在電解表面粗糙化處理之后，鋁襯底可以經(jīng)過第二次蝕刻處理?；蛘撸X襯底可以按以下順序經(jīng)過以下步驟第一次蝕刻處理、第一次消光處理、電解表面粗糙化處理、第二次蝕刻處理和第二次消光處理。
B、蝕刻處理使用堿性試劑堿性蝕刻處理。
堿性試劑的例子為苛性堿或堿金屬鹽溶液。堿性試劑在溶液中的濃度優(yōu)選為0.01-30wt％，溫度優(yōu)選為20-90℃。
苛性堿的例子包括蘇打、苛性鉀等。
堿金屬鹽的例子包括堿金屬硅酸鹽例如偏硅酸鈉、硅酸鈉、偏硅酸鉀、硅酸鉀等；堿金屬碳酸鹽例如碳酸鈉、碳酸鉀等；堿金屬鋁酸鹽例如鋁酸鈉、鋁酸鉀等；堿金屬醛糖酸鹽例如葡萄糖酸鈉、葡萄糖酸鉀等；和堿金屬磷酸氫鹽例如二代磷酸鈉、二代磷酸鉀、三代磷酸鈉、三代磷酸鉀等。從蝕刻速度快和成本低的角度，特別優(yōu)選苛性堿溶液作為堿性試劑。
蝕刻量優(yōu)選為為0.1-20g/m2，特別優(yōu)選1-15g/m2，最優(yōu)選2-10g/m2。蝕刻時間優(yōu)選為5秒鐘-5分鐘。
如果蝕刻量和蝕刻時間在上面范圍內(nèi)，那么在堿性表面粗糙化處理中產(chǎn)生的擦掉的渣滓和留在鋁襯底表面上的膜等溶解并除去。然而，保留沒有弄平的特大波紋和大波紋，這是優(yōu)選的。
可以通過使用常用于鋁襯底蝕刻處理的蝕刻槽堿性該蝕刻處理。蝕刻槽可以為間歇型或連續(xù)型。
除去留在鋁襯底表面上的殘留渣滓并且不需要堿性溶液的第一次消光處理，可以在蝕刻處理和接下來的電解表面粗糙化處理之間進行。第一次消光處理可以通過例如如下進行將已經(jīng)過蝕刻處理的鋁襯底沖洗，然后用例如硝酸、磷酸、硫酸、鉻酸等的強酸或其混合物處理鋁襯底。
C、電解表面粗糙化處理在電解表面粗糙化處理時，在上述化學(xué)蝕刻步驟中已經(jīng)過蝕刻的鋁襯底例如通過向一酸性電解液中施加一交流電來經(jīng)過交流電電解。
該酸性電解液的例子為含有硫酸、鹽酸和硝酸中至少一種的電解液。硫酸、鹽酸和硝酸在酸性電解液中的濃度可以根據(jù)電解條件等適當(dāng)?shù)卮_定，但是優(yōu)選總共0.3-15wt％。根據(jù)需要，酸性電解液還可以含有有機酸，例如草酸、乙酸、檸檬酸、酒石酸、乳酸等；磷酸、鉻酸、硝酸鹽、氯化物、胺和醛。該酸性電解液可以含有鋁離子，但鋁離子的含量優(yōu)選為50g/l或更低。酸性電解液的溫度還可以根據(jù)電解條件等經(jīng)過適當(dāng)調(diào)整，但是優(yōu)選30-80℃。
施加到鋁襯底的交流電的頻率優(yōu)選為0.1-100Hz。電壓優(yōu)選10-50V，具有該陽極-時間電壓作為基準(zhǔn)。陰極-時間電壓可以與陽極-時間電壓相同，或者可以比陽極-時間電壓低。
電流密度優(yōu)選為5-100A/dm2，陽極電量優(yōu)選為150-600庫侖/dm2。交流電可以為正弦波電流，或者可以為矩形波電流?；蛘?，交流電可以為JP-昭52-58602A中公開的梯形波電流。
在交流電電解處理中可以使用間歇型或連續(xù)型交流電電解槽。
由于電解表面粗糙化處理，因此主要形成為具有比大波紋更細顆粒的凸出和凹入部分的蜂窩和為具有比該蜂窩更細顆粒的凸出和凹入部分的微孔。蜂窩和微孔主要與感光層和PS印版的支架之間的粘性、持水性、弄臟的困難性、水/油墨平衡、耐磨性等有關(guān)。通過在上述條件下進行電解表面粗糙化，粗糙凸出數(shù)Pc落入本申請權(quán)利要求1所述的范圍，即，可以獲得均勻地形成蜂窩和微孔的平版印刷印版支架。因此，使用該平版印刷印版支架作為支架的PS印版具有小的點增益，優(yōu)良的色調(diào)再現(xiàn)性、表面優(yōu)良的持水性，并且難以弄臟，還具有優(yōu)良的經(jīng)受重復(fù)打印性能，水/油墨平衡和耐磨性。
電解表面粗糙化處理之后，可以進行第二次蝕刻處理。
第二次蝕刻處理可以在pH為10或更高的堿性溶液中進行。進行溶液的具體例子為含有與前述蝕刻處理中相同類型的堿性試劑的溶液。堿性溶液中堿性試劑的濃度與前述蝕刻處理中所述的相同。堿性溶液的溫度優(yōu)選為25-60℃，蝕刻量優(yōu)選為0.1-5g/m2。蝕刻時間可以根據(jù)蝕刻量、堿性溶液的組成、溫度等適當(dāng)?shù)剡M行調(diào)整，落入優(yōu)選1-10秒鐘。
該鋁襯底進行蝕刻處理之后，可以通過浸泡在溫度為25-65℃且硫酸濃度為5-40wt％的硫酸水溶液中經(jīng)過第二次消光處理。2-2陽極化處理在陽極化處理中，按照已知方法將已經(jīng)過上述表面粗糙化處理的鋁襯底經(jīng)過陽極化處理。
在陽極化處理中，在含有例如硫酸、磷酸、草酸、鉻酸和氨基磺酸中至少一種的電解液中對該鋁襯底施加直流電或脈沖電流。
除上述電解液之外，陽極化處理中所用的電解液的一個例子為含有鋁離子和硫酸、磷酸、草酸、鉻酸和氨基磺酸中至少一種的溶液。
電解質(zhì)在電解液中的濃度優(yōu)選為1-80wt％，溫度優(yōu)選為5-70℃。
陽極化處理優(yōu)選使陽極化膜的量為0.1-10g/m2。電流密度優(yōu)選為0.5-60A/dm2，電壓優(yōu)選為1-100V。電解時間優(yōu)選為1秒鐘-5分鐘。
在已經(jīng)過陽極化處理使陽極化膜的量落入上述范圍的平版印刷印版支架上，在該表面上均勻地形成足夠厚且硬的陽極化膜。因此，使用該平版印刷印版支架作為支架的PS印版具有非圖像部分優(yōu)良的耐磨性。
3、PS印版可以通過在上述已經(jīng)過表面粗糙化處理且已形成陽極化膜的平版印刷印版支架的表面上形成一感光層生產(chǎn)本發(fā)明的PS印版。
通過在前述平版印刷印版支架的表面上涂布一含有光敏樹脂的光敏樹脂液，并在暗處將該涂布液干燥，可以形成該感光層。
光敏樹脂的例子為光照射其上時溶于顯影液中的正型光敏樹脂和光照射其上時不溶于顯影液的負型光敏樹脂。
正型光敏樹脂的例子為例如醌二疊氮化物或萘醌二疊氮化物的二疊氮化物與例如苯酚酚醛樹脂或甲酚酚醛樹脂的酚樹脂的組合，等等。
負型光敏樹脂的例子為例如重氮樹脂(例如，芳族重氮鹽和例如甲醛的醛類的縮合產(chǎn)物)的重氮化合物和例如(甲基)丙烯酸酯樹脂、聚酰胺樹脂、聚氨酯等的粘合劑的組合；例如(甲基)丙烯酸酯樹脂或聚苯乙烯樹脂的乙烯基樹脂與例如(甲基)丙烯酸酯或苯乙烯的乙烯基單體以及例如安息香衍生物、二苯酮衍生物或噻噸酮衍生物的光聚合引發(fā)劑的組合；等等。
以光敏樹脂液的溶液的例子為將該光敏樹脂溶解并在室溫揮發(fā)至一定程度的溶液。具體例子包括醇溶劑、酮溶劑、酯溶劑、醚溶劑、二醇醚溶劑、酰胺溶劑和碳酸酯溶液。
醇溶劑的例子有乙醇、丙醇、丁醇等。酮溶劑的例子有丙酮、甲基乙基酮、甲基丙基酮、甲基異丙基酮、二乙酮等。酯溶劑的例子包括乙酸乙酯、乙酸丙酯、甲酸甲酯、甲酸乙酯等。醚溶劑的例子包括四氫呋喃、二噁烷等。二醇醚溶劑的例子包括乙基溶纖劑、甲基溶纖劑、丁基溶纖劑等。酰胺溶劑的例子包括二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺等。碳酸酯溶劑的例子包括碳酸亞乙酯、碳酸亞丙酯、碳酸二乙酯、碳酸二丁酯等。
可以將任意不同的著色劑混合到該光敏樹脂液中。除常規(guī)染料之外，可以使用經(jīng)曝光形成顏色的曝光成色染料和曝光后幾乎無色或完全無色的曝光脫色染料作為著色劑。曝光成色染料的例子包括隱色染料等。曝光脫色染料的例子包括三苯基甲烷染料、二苯基甲烷染料、噁嗪染料、呫噸染料、亞氨基萘醌染料、偶氮甲堿染料、蒽醌染料等。
按照以下方法制備本發(fā)明的PS印版。
首先，根據(jù)需要，將平版印刷印版支架浸泡在例如硅酸鈉或硅酸鉀等的堿金屬硅酸鹽的水溶液中，使其表面經(jīng)過親水化處理，如US2714066和3181461中所公開的?；蛘撸绻枰脑?，在平版印刷印版支架上通過涂布具有NH2基團、-COOH基團和砜基團的親水化合物，或者涂布例如具有磺酸基團的對苯乙烯磺酸的含有磺酸基團的乙烯基單體與例如丙烯酰酯、(甲基)丙烯酸酯等的常規(guī)乙烯基單體的共聚物，在其上形成一親水內(nèi)涂層，如JP-昭59-101651A和JP-昭60-149491A中所公開的。
接下來，如上所述，將一光敏樹脂液涂布到已經(jīng)過表面粗糙化處理并形成陽極化膜的該平版印刷印版支架的表面上。在暗處將該涂布液干燥，從而形成一光敏層。
涂布該光敏樹脂液的方法的例子包括常規(guī)已知方法，例如旋涂法、線錠法、浸涂法、氣刀涂布法、輥涂法、板涂法等。
根據(jù)需要將該PS印版切割成適宜大小之后，進行曝光和顯影，以形成印版?？梢愿鶕?jù)與常規(guī)已知PS印版所用相同的方法進行曝光和顯影。
實施例下面，使用實施例具體描述本發(fā)明。
1、平版印刷印版支架的制備(實施例1-6，對比實施例1-8)1-1表面粗糙化處理A、機械表面粗糙化處理使用圖1中所示的研磨設(shè)備將鋁襯底的一個表面(鋁板厚0.3mm)經(jīng)過機械表面粗糙化處理。使用8號尼龍刷作為輥樣刷。該8號尼龍刷的外徑為600mm，刷毛直徑為0.5mm，刷毛長度為50mm，刷毛嵌入密度為400根毛/cm2。研磨壓力為0.5A/100mm，輥樣刷的周速為470m/min。
進行機械表面粗糙化處理時，在實施例1-3和對比實施例1-5中，所用研磨劑顆粒的主要組分為SiO2，平均粒徑為20μm，粒徑大于或等于100μm的顆粒所占的比例為2wt％并且粒徑大于或等于500μm的顆粒所占的比例為0wt％。
在實施例4-6中，所用研磨劑顆粒的主要組分為SiO2，平均粒徑、粒徑大于或等于100μm的顆粒所占的比例以及粒徑大于或等于500μm的顆粒所占的比例分別參見表1。在對比實施例6-8中，所用研磨劑顆粒的主要組分為SiO2，平均粒徑、粒徑大于或等于100μm的顆粒所占的比例以及粒徑大于或等于500μm的顆粒所占的比例分別參見表2。
將研磨劑顆粒以400g/l懸浮于水中的研磨漿液從研磨劑噴霧噴嘴已每個噴霧噴嘴200l/min的速率涂布到待研磨的鋁板表面上。鋁襯底的運輸速度為30m/min。
B、蝕刻處理將已經(jīng)過機械表面粗糙化處理的鋁襯底以前述進料速度通過連續(xù)型蝕刻槽，該槽貯藏有濃度為10wt％且液溫為60℃的苛性鈉溶液，進行蝕刻處理，使蝕刻量為10g/m2。
蝕刻處理之后，將該鋁襯底通過一水槽進行沖洗，然后將其通過一連續(xù)型消光處理槽，在該槽中貯藏有濃度為30wt％且液溫為60℃的硫酸水溶液，這樣進行第一次消光處理。
C、電解表面粗糙化處理使用濃度為2wt％且液溫為40℃的稀硝酸作為酸性電解液。通過以下進行電解表面粗糙化處理在消光處理之后，將該鋁襯底連續(xù)通過酸性電解液的同時，對該鋁襯底施加一頻率為60Hz、電流密度為20A/dm2、陽極電量為200庫侖/cm2且電壓為20V的交流電進行交流電電解。
將已經(jīng)過電解表面粗糙化處理的鋁襯底連續(xù)通過濃度為10wt％且液溫為35℃的苛性鈉溶液，使蝕刻量為1.5g/m2，由此進行第二次蝕刻處理。已經(jīng)過第二次蝕刻處理的鋁襯底經(jīng)沖洗，并連續(xù)通過濃度為30wt％且液溫為60℃的稀硫酸，這樣進行第二次消光處理。1-2陽極化處理將該表面粗糙化處理之后的鋁襯底連續(xù)浸泡在濃度為10wt％且液溫為30℃的稀硫酸中。施加一40V的直流電，使電量密度為10A/dm2。進行陽極化處理，以使陽極化膜的量為2g/m2，由此制備了平版印刷印版支架。
就實施例1-3和對比實施例1-5而言，表面已經(jīng)過表面粗糙化處理和陽極化處理且根據(jù)上述方法制備之后，使用表面粗糙度計(由Tokyo Seimitsu有限公司生產(chǎn)；商品名為SURFCOM470570A；指示筆；2μmR)測定該平版印刷印版支架的表面粗糙度。由這些結(jié)果確定表面粗糙度Ra、最大粗糙度Rmax、凸出高度大于設(shè)定值+0.3μm并且凹入深度大于設(shè)定值-0.3μm的粗糙凸出數(shù)Pc、凸出高度大于設(shè)定值+0.6μm并且凹入深度大于設(shè)定值-0.6μm的粗糙凸出數(shù)Pc、凸出高度大于設(shè)定值+1.0μm并且凹入深度大于設(shè)定值-1.0μm的粗糙凸出數(shù)Pc。結(jié)果示于表1中。2、PS印版的制備在濃度為3wt％且液溫為70℃的硅酸鈉溶液中將上述平版印刷印版支架浸泡30分鐘，從而使該表面親水。
接下來，將具有以下組成的光敏樹脂液已1.5g/m2的涂布量涂布，以便形成光敏層。
(a)1，2-重氮基萘醌-5-磺酰氯和連苯三酚-丙酮樹脂的酯化合物(引證于US3635709中的實施例1)0.8g(b)下面結(jié)構(gòu)式I所示的酚醛樹脂I1.5g(c)下面結(jié)構(gòu)式II所示的酚醛樹脂II0.2g(d)下面結(jié)構(gòu)式III所示的酚醛樹脂III0.4g(e)2-正辛基苯酚-甲醛樹脂(引證于US4123279)0.02g(f)萘醌-1，2-二疊氮-4-磺酰氯0.01g(g)四氫鄰苯二醛0.02g(h)苯甲酸0.02g(i)連苯三酚0.05g(j)4-[對-N，N-二(乙氧基羰基甲基)氨基苯基1-2，6-二(三氯甲基)-S-三嗪0.07g(k)Victoria純藍(由Hodogaya化學(xué)有限公司生產(chǎn))的反荷離子用1-萘磺酸替換的染料0.045g(1)氟基表面活性劑(商品名F176PF，由Dainippon油墨與化學(xué)有限公司生產(chǎn))0.01g(m)甲基乙基酮15g(n)1-甲氧基-2丙醇10g
結(jié)構(gòu)式I Mw＝8000結(jié)構(gòu)式II Mw＝15000結(jié)構(gòu)式III 3、評價打印特性將上述PS印版通過距離為1m的3kW金屬鹵化物燈曝光1分鐘。
曝光過的PS印版在30℃下使用具有下面組成的顯影液A和顯影液B通過Fuji膠卷有限公司生產(chǎn)的PS處理器(商品名900VR)顯影12秒鐘。
顯影液A的組成(a)山梨糖醇5.1重量份(b)氫氧化鈉1.1重量份(c)三羥乙基胺-氧化乙烯加合物(30mol)0.03重量份(d)水93.8重量份顯影液B的組成(a)硅酸鈉水溶液，其中[SiO2/Na2O]摩爾比為1.2，SiO2的含量為1.4wt％(b)乙二胺-氧化乙烯(30mol)0.03重量份按照以下方法評價如上所述生產(chǎn)的PS印版的經(jīng)受重復(fù)打印性能和弄臟的容易性。結(jié)果示于表1和2中。經(jīng)受重復(fù)打印性能使用打印機(商品名LITHRONE26，由Komori Insatsuki KK生產(chǎn))進行打印，通過直到不能進行正常打印的紙張數(shù)評價經(jīng)受重復(fù)打印性能。紙張數(shù)越多，經(jīng)受重復(fù)打印性能越好。弄臟的容易性在使用打印機(商品名Daiya 1F-2，由Mitsubishi Heavy Industries有限公司生產(chǎn))打印1000張之后，停止打印并取出PS印版。將從打印機中取出的該PS印版靜置30分鐘。之后，將該PS印版再次安裝在打印機中，并打印100張。此時觀察到打印機的橡膠輥筒弄臟(前輥筒弄臟)并且打印紙表面弄臟(斑點弄臟)。結(jié)果示于表1中。在表1中，＂0.3-0.3＂、＂0.6-0.6＂、＂1.0-1.0＂的意思分別為凸出高度大于設(shè)定值+0.3μm并且凹入深度大于設(shè)定值-0.3μm的凸出、凸出高度大于設(shè)定值+0.6μm并且凹入深度大于設(shè)定值-0.6μm的凸出、凸出高度大于設(shè)定值+1.0μm并且凹入深度大于設(shè)定值-1.0μm的凸出。
表1
表2
(實施例7和8，對比實施例9和10)在與實施例1中相同的條件下使用圖2所示的生產(chǎn)設(shè)備進行機械研磨。使用MD-II旋風(fēng)器(商品名，由Daiki Engineering有限公司生產(chǎn))作為旋風(fēng)器54A、54B。然后在與實施例1中相同的條件下機械蝕刻處理、電解表面粗糙化處理和陽極化處理，從而制備實施例7和8乙基對比實施例9和10的平版印刷印版支架。
將這些平版印刷印版支架在濃度為2.5wt％且液溫為70℃的硅酸鈉溶液中浸泡14秒鐘，從而使表面親水。然后，將具有以下組成的光敏樹脂液通過線錠法以2.0g/m2涂布到平版印刷印版支架上，并在100℃下干燥1分鐘，從而制得PS印版。N-(4-羥基苯基)甲基丙烯酰胺/甲基丙烯酸2-羥乙酯/丙烯腈/甲基丙5.0g烯酸甲酯/甲基丙烯酸/(單體單元摩爾比＝15∶10∶30∶38∶7)共聚物(平均分子量＝60000)4-重氮二苯胺和甲醛的縮合產(chǎn)物的六氟磷酸酯0.5g亞磷酸 0.05gVictoria純藍-BOH(由Hodogaya Chemical有限公司生產(chǎn)) 0.1g2-甲氧基乙醇100.0g將打印有試驗圖案的膠卷疊加在PS印版上，通過距離1mm的3kw金屬鹵化物燈照射曝光50秒鐘。
該曝光的PS印版通過具有以下組成的顯影液顯影，從而制得用于膠印的印版。亞硫酸鈉 5.0g苯甲醇 30.0g碳酸鈉 5.0g異丙基萘磺酸鈉 12.0g純凈水 1000.0g在上述機械研磨步驟中，將研磨劑顆粒以400g/l的比例懸浮于水中的研磨漿液從第一個研磨劑噴霧器18和第二個研磨劑噴霧器20以每個噴霧器200l/min的速率涂布到待研磨的鋁網(wǎng)W的表面上。鋁網(wǎng)W的運輸速度為50m/min。使用激光衍射/散射型粒徑分布測定設(shè)備(商品名LA-910，由Horiba有限公司生產(chǎn))測定漿液循環(huán)槽50中的研磨漿液所含的研磨劑顆粒的平均粒徑。
就小粒徑顆粒的平均粒徑而言，以與研磨漿液中所含的研磨劑顆粒的平均粒徑的相同測定方式測定從安裝在生產(chǎn)設(shè)備中的廢水管線60中排放到系統(tǒng)外面的小粒徑漿液中所含的顆粒的平均粒徑。
將研磨漿液補充到漿液循環(huán)槽50中，以使?jié){液循環(huán)槽中的研磨漿液的濃度和平均粒徑保持恒定。在補充量的研磨漿液的基礎(chǔ)上進行平均，并給出4個等級◎、○、△和×。
將用于膠印的印版安裝到膠印機上，并使用黑色油墨打印試驗圖案。肉眼觀察打印的紙表面，并通過直到打印的表面出現(xiàn)外觀缺陷的打印紙張數(shù)評價平版印刷印版經(jīng)受重復(fù)打印性能。而且，肉眼觀察膠印機的前輥筒，并評價前輥筒弄臟的大小。以打印70000紙張為100％，通過前述打印的紙張數(shù)的百分數(shù)評價經(jīng)受重復(fù)打印性能。肉眼檢測前輥筒臟物，并用4個等級◎、○、△和×進行評價。
結(jié)果示于表3中。
表3
綜上所述，按照本發(fā)明顯然可以獲得成為具有優(yōu)良打印性能和經(jīng)受重復(fù)打印性能的PS印版的支架的平版印刷印版支架、一種能夠以高度的生產(chǎn)穩(wěn)定性生產(chǎn)平版印刷印版支架的方法、以及具有上述優(yōu)點的PS印版。
權(quán)利要求
1.一種平版印刷印版支架，其中在供應(yīng)研磨劑顆粒的同時通過旋轉(zhuǎn)刷摩擦使該平版印刷印版支架的至少一個表面經(jīng)受機械表面粗糙化處理，研磨劑顆粒的平均粒徑為5-70μm，其中粒徑大于或等于100μm的顆粒含量為10wt％或更低，粒徑大于或等于500μm的顆粒含量為1wt％或更低，顆粒中二氧化硅的含量為90wt％或更高。
2.如權(quán)利要求1的平版印刷印版支架，其中在經(jīng)受機械表面粗糙化處理和陽極化處理的一個表面上的表面粗糙度Ra為0.3-1.0μm，最大粗糙度Rmax為10μm或更低，凸出高度大于設(shè)定值+0.3μm并且凹入深度大于設(shè)定值-0.3μm的粗糙凸出數(shù)Pc為15-35個凸出/mm，凸出高度大于設(shè)定值+0.6μm并且凹入深度大于設(shè)定值-0.6μm的粗糙凸出數(shù)Pc為7-25個凸出/mm，凸出高度大于設(shè)定值+1.0μm并且凹入深度大于設(shè)定值-1.0μm的粗糙凸出數(shù)Pc為2-18個凸出/mm。
3.一種平版印刷印版支架的生產(chǎn)方法，包括步驟在供應(yīng)研磨劑顆粒的同時通過旋轉(zhuǎn)刷摩擦使平版印刷印版支架的至少一個表面經(jīng)受機械表面粗糙化處理，研磨劑顆粒的平均粒徑為5-70μm，其中粒徑大于或等于100μm的顆粒含量為10wt％或更低，粒徑大于或等于500μm的顆粒含量為1wt％或更低，顆粒中二氧化硅的含量為90wt％或更高。
4.如權(quán)利要求3的平版印刷印版支架的生產(chǎn)方法，其中旋轉(zhuǎn)刷的刷毛直徑為0.15-1.35mm，并且刷毛的嵌入密度為30-5000根刷毛/cm2。
5.一種平版印刷印版支架的生產(chǎn)方法，包括研磨漿液供應(yīng)步驟，將研磨漿液供應(yīng)到平版印刷印版支架的至少一個表面上；機械研磨步驟，在一面上已供應(yīng)有研磨漿液的平版印刷印版支架的表面經(jīng)機械研磨；和研磨漿液廢液回收步驟，將機械研磨步驟中產(chǎn)生的研磨漿液廢液回收，并將平均粒徑為研磨漿液供應(yīng)步驟中供應(yīng)的研磨漿液中所含研磨劑顆粒平均粒徑的1/3-1/10的顆粒從研磨漿液廢液中除去，并將剩余漿液返回到研磨漿液供應(yīng)步驟中。
6.如權(quán)利要求5的平版印刷印版支架的生產(chǎn)方法，其中研磨漿液中的研磨劑的平均粒徑為10-70μm。
7.如權(quán)利要求5的平版印刷印版支架的生產(chǎn)方法，其中在研磨漿液廢液回收步驟中，將平均粒徑為研磨漿液供應(yīng)步驟中供應(yīng)的研磨漿液中所含研磨劑顆粒平均粒徑的1/3-1/10的顆粒通過旋風(fēng)器分級除去。
8.如權(quán)利要求6的平版印刷印版支架的生產(chǎn)方法，其中在研磨漿液廢液回收步驟中，將平均粒徑為研磨漿液供應(yīng)步驟中供應(yīng)的研磨漿液中所含研磨劑顆粒平均粒徑的1/3-1/10的顆粒通過旋風(fēng)器分級除去。
9.一種PS印版，其中表面已經(jīng)過表面粗糙化處理的權(quán)利要求1的平版印刷印版支架的表面經(jīng)受陽極化處理，并在該表面上形成一感光層。
10.一種PS印版，其中表面已經(jīng)過表面粗糙化處理的權(quán)利要求2的平版印刷印版支架的表面經(jīng)受陽極化處理，并在該表面上形成一感光層。
11.一種PS印版，其中表面已經(jīng)過表面粗糙化處理的權(quán)利要求5的平版印刷印版支架的表面經(jīng)受陽極化處理，并在該表面上形成一感光層。
12.一種生產(chǎn)平版印刷印版支架的設(shè)備，該設(shè)備包括將研磨漿液供應(yīng)到平版印刷印版支架的至少一個表面上的研磨漿液供應(yīng)設(shè)備；在已供應(yīng)有研磨漿液的面上機械地研磨平版印刷印版支架表面的機械研磨設(shè)備；和將機械研磨設(shè)備中產(chǎn)生的研磨漿液廢液回收，并從研磨漿液廢液中除去平均粒徑為研磨漿液供應(yīng)設(shè)備供應(yīng)的研磨漿液中所含研磨劑顆粒平均粒徑的1/3-1/10的顆粒，以及將剩余漿液返回到研磨漿液供應(yīng)設(shè)備中的研磨漿液廢液回收設(shè)備。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種為PS印版的支架的平版印刷印版支架,該PS印版具有優(yōu)良的經(jīng)受重復(fù)打印性能,并且在其中不發(fā)生例如弄臟等的外觀缺陷。本發(fā)明還提供了一種生產(chǎn)該平版印刷印版支架的方法以及具有這些優(yōu)點的PS印版。
文檔編號B24B37/04GK1328921SQ01115759
公開日2002年1月2日 申請日期2001年6月8日 優(yōu)先權(quán)日2000年6月9日
發(fā)明者三輪英樹, 安竹輝芳, 松浦睦, 上杉彰男 申請人:富士膠片株式會社