專利名稱:離子鍍膜設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型是一種離子鍍膜設(shè)備。包括鍍膜爐和鍍膜平臺(tái)，鍍膜爐的外圍設(shè)置有加熱保溫爐，加熱保溫爐的頂部設(shè)置有外開(kāi)合頂窗，鍍膜爐的頂部設(shè)置有內(nèi)開(kāi)合頂窗，鍍膜爐內(nèi)設(shè)置有離子源，鍍膜爐內(nèi)還設(shè)置有位于鍍膜平臺(tái)四周的膜料，離子源能夠膜料成為蒸汽鍍?cè)诓Ａ?；加熱保溫爐內(nèi)設(shè)置有加熱盤管。其優(yōu)點(diǎn)在于，一方面，通過(guò)離子源發(fā)射等離子體加熱膜料，使膜料成為膜料蒸汽，均勻鍍?cè)诓Ａ?，另外一方面，膜料位于鍍膜平臺(tái)四周加熱后蒸發(fā)效果好，有利于增強(qiáng)膜層強(qiáng)度，設(shè)置的加熱保溫爐，一方面可以起到加溫作用，進(jìn)一步增強(qiáng)鍍膜強(qiáng)度，更重要的是可以在鍍完膜后出爐過(guò)程中使其具有過(guò)渡作用，有利于提高鍍膜強(qiáng)度和鍍膜質(zhì)量。
【專利說(shuō)明】罔子鍍膜設(shè)備

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種鍍膜裝置，具體地說(shuō)是一種離子鍍膜設(shè)備。

【背景技術(shù)】
[0002]光學(xué)薄膜，就是在鏡片上鑲上一層或多層非常薄的特殊材料，使鏡片能達(dá)到某種特定的光學(xué)效果。傳統(tǒng)上鍍膜的方式很多，有真空蒸鍍方式，將蒸鍍材料在真空蒸鍍機(jī)內(nèi)置于電阻絲或片上，在高真空的情況下，加熱使材料成為蒸氣，直接鍍于鏡片上；電子槍式，其方法是以高壓電子束直接打擊材料，還有濺射方式，是通過(guò)高壓使惰性氣體離子化，打擊材料使之直接濺射至鏡片，由此可見(jiàn)，傳統(tǒng)的鍍膜方式的確多種多樣，但是傳統(tǒng)的這些鍍膜方式由于鍍膜方法不科學(xué)或者鍍膜裝置結(jié)構(gòu)設(shè)置不合理，設(shè)備成本高、鍍膜效率低，所作薄膜的附著力不好，使其鍍膜質(zhì)量差。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、設(shè)備成本低，鍍膜質(zhì)量好的尚子鍍膜設(shè)備。
[0004]為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型的離子鍍膜設(shè)備，包括鍍膜爐和設(shè)置在鍍膜爐內(nèi)的鍍膜平臺(tái)，鍍膜爐的外圍設(shè)置有加熱保溫爐，加熱保溫爐的頂部設(shè)置有由動(dòng)力裝置啟閉的外開(kāi)合頂窗，鍍膜爐的頂部設(shè)置有由動(dòng)力裝置啟閉的內(nèi)開(kāi)合頂窗，鍍膜爐內(nèi)設(shè)置有能夠發(fā)射等離子體的離子源，玻璃片能夠從外開(kāi)合頂窗、內(nèi)合頂窗送入到鍍膜平臺(tái)上，鍍膜爐內(nèi)還設(shè)置有位于鍍膜平臺(tái)四周的膜料，離子源能夠膜料成為蒸汽鍍?cè)诓Ａ?；所述加熱保溫爐內(nèi)設(shè)置有加熱盤管。
[0005]進(jìn)一步地說(shuō)，離子源與離子源電源連接。
[0006]進(jìn)一步地說(shuō)，外開(kāi)合頂窗由位于加熱保溫爐頂部一側(cè)的第一氣缸驅(qū)動(dòng)，內(nèi)開(kāi)合頂窗由位于鍍膜爐頂部一側(cè)的第二氣缸驅(qū)動(dòng)。
[0007]本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于，一方面，通過(guò)離子源發(fā)射等離子體加熱膜料，使膜料成為膜料蒸汽，均勻鍍?cè)诓Ａ希硗庖环矫?，膜料位于鍍膜平臺(tái)四周加熱后蒸發(fā)效果好，有利于增強(qiáng)膜層強(qiáng)度，設(shè)置的加熱保溫爐，一方面可以起到加溫作用，進(jìn)一步增強(qiáng)鍍膜強(qiáng)度，更重要的是可以在鍍完膜后出爐過(guò)程中使其具有過(guò)渡作用，有利于提高鍍膜強(qiáng)度和鍍膜質(zhì)量。

【附圖說(shuō)明】

[0008]圖1為本實(shí)用新型離子鍍膜設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0009]下面墊結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型的離子鍍膜設(shè)備作詳盡說(shuō)明。
[0010]如圖1所示，本實(shí)用新型的離子鍍膜設(shè)備，離子鍍膜設(shè)備，包括鍍膜爐I和設(shè)置在鍍膜爐內(nèi)的鍍膜平臺(tái)2，鍍膜爐I的外圍設(shè)置有加熱保溫爐3，加熱保溫爐3的頂部設(shè)置有由動(dòng)力裝置啟閉的外開(kāi)合頂窗4，鍍膜爐I的頂部設(shè)置有由動(dòng)力裝置啟閉的內(nèi)開(kāi)合頂窗5，鍍膜爐I內(nèi)設(shè)置有能夠發(fā)射等離子體的離子源6，待鍍膜的玻璃片能夠從外開(kāi)合頂窗4、內(nèi)合頂窗5送入到鍍膜平臺(tái)2上，鍍膜爐I內(nèi)還設(shè)置有位于鍍膜平臺(tái)四周的膜料7，離子源6能夠膜料成為蒸汽鍍?cè)诓Ａ?；所述加熱保溫爐3內(nèi)設(shè)置有加熱盤管8，離子源6與離子源電源連接，外開(kāi)合頂窗4由位于加熱保溫爐3頂部一側(cè)的第一氣缸9驅(qū)動(dòng)，內(nèi)開(kāi)合頂窗5由位于鍍膜爐I頂部一側(cè)的第二氣缸10驅(qū)動(dòng)。
【權(quán)利要求】
1.一種離子鍍膜設(shè)備，包括鍍膜爐(I)和設(shè)置在鍍膜爐內(nèi)的鍍膜平臺(tái)(2)，其特征在于:所述鍍膜爐(I)的外圍設(shè)置有加熱保溫爐(3)，加熱保溫爐(3)的頂部設(shè)置有由動(dòng)力裝置啟閉的外開(kāi)合頂窗(4)，鍍膜爐(I)的頂部設(shè)置有由動(dòng)力裝置啟閉的內(nèi)開(kāi)合頂窗(5)，所述鍍膜爐(I)內(nèi)設(shè)置有能夠發(fā)射等離子體的離子源(6)，玻璃片能夠從外開(kāi)合頂窗(4)、內(nèi)合頂窗(5)送入到鍍膜平臺(tái)(2)上，所述鍍膜爐(I)內(nèi)還設(shè)置有位于鍍膜平臺(tái)四周的膜料(7)，所述離子源(6)能夠膜料成為蒸汽鍍?cè)诓Ａ?；所述加熱保溫爐(3)內(nèi)設(shè)置有加熱盤管(8)。2.按照權(quán)利要求1所述的離子鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述離子源(6)與離子源電源連接。3.按照權(quán)利要求1所述的離子鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述外開(kāi)合頂窗(4)由位于加熱保溫爐(3)頂部一側(cè)的第一氣缸(9)驅(qū)動(dòng)，所述內(nèi)開(kāi)合頂窗(5)由位于鍍膜爐(I)頂部一側(cè)的第二氣缸(10)驅(qū)動(dòng)。
【文檔編號(hào)】C23C14-28GK204265830SQ201420729936
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