專利名稱：光學(xué)鍍膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于一種光學(xué)鍍膜裝置，尤其是關(guān)于一種具有旋轉(zhuǎn)擋流板的光學(xué)鍍膜裝置。
背景技術(shù)：
目前，光學(xué)薄膜廣泛應(yīng)用于光學(xué)儀器，如傳感器、半導(dǎo)體雷射、干涉儀、眼鏡以及光纖通訊組件等很多領(lǐng)域。光學(xué)薄膜通常是藉由干涉作用而達到其預(yù)期效果，其是指在光學(xué)組件或獨立基板上鍍上一層或多層的介電質(zhì)膜或金屬膜或介電質(zhì)膜來改變光波傳送特性。
目前，光學(xué)薄膜制作通常以物理蒸鍍法為主(physicsvapor deposition，簡稱PVD)，該方法為將薄膜材料由固態(tài)轉(zhuǎn)化為氣態(tài)或離子態(tài)，氣態(tài)或離子態(tài)的材料，由蒸發(fā)源穿越空間，抵達基板表面，材料抵達基板表面后，將沉積而逐漸形成薄膜。通常，為了制作高純度的薄膜，鍍膜的制程須于高真空環(huán)境下完成。由此延伸出真空鍍膜，一般做法為將基片以超音波洗凈機洗凈，洗凈后排上夾具，送入鍍膜機，進行加熱及抽真空。達到高真空后，開始鍍膜。鍍膜時，用電阻加熱蒸鍍或電子槍的電子轟擊，將薄膜材料變成離子態(tài)，鍍膜時間則視層數(shù)及程序不同而有長短。鍍膜完畢后，待基板冷卻后取出。
然而現(xiàn)有的光學(xué)鍍膜設(shè)備中，為控制鍍膜的厚度分布，通常利用特殊幾何形狀的擋流板隔離離子流，因而適當(dāng)調(diào)整空間離子流的分布，使鍍膜厚度得到控制。如公開于2003年12月3日的中國發(fā)明專利第CN1459517A號，其揭示一鍍膜裝置及鍍膜方法，請參閱圖4，該鍍膜裝置包括一轉(zhuǎn)盤11、一遮板12以及一鍍材源13。其中，轉(zhuǎn)盤11能規(guī)律旋轉(zhuǎn)；遮板12是依照鍍膜層3的特定厚度而設(shè)置，設(shè)置于靠近基板2的位置；鍍材源13與轉(zhuǎn)盤11相對而設(shè)，而使該遮板12設(shè)置于兩者之間。遮板12的形狀是依照不同鍍膜需求而設(shè)計。在上述方案中遮板12固定不動，而對待鍍基板2進行多層不同厚度的重復(fù)鍍膜時，待第一步鍍膜完成后需要更換有不同幾何形狀的遮板12。更換遮板12時，需先行破真空、再更換遮板12、最后重新抽真空的后才可繼續(xù)進行鍍膜，其不僅操作繁瑣，且反復(fù)破真空及抽真空不僅費時費力而且會影響該基板2的鍍膜質(zhì)量。
該基板2的膜層3用鍍膜裝置自帶的監(jiān)控試片進行測定。該基板2的膜層3與監(jiān)控試片呈一定比值，光學(xué)設(shè)計中常常需要多種以上的比值，現(xiàn)今常用光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)使用多種以上不同監(jiān)控波來進行監(jiān)控。但使用多種不同監(jiān)控波進行監(jiān)控會使成本提高，也會因監(jiān)測范圍過大過密，會使誤差增加。

發(fā)明內(nèi)容為克服現(xiàn)有技術(shù)的光學(xué)鍍膜裝置的缺點，有必要提供一種操作方便、鍍膜質(zhì)量高及成本低廉的光學(xué)鍍膜裝置。
一種光學(xué)鍍膜裝置，包括一鍍膜室、一承載架、一旋轉(zhuǎn)馬達、一蒸鍍源及一擋流板。該承載架該鍍膜室內(nèi)，其用于安裝多個待鍍組件。該旋轉(zhuǎn)馬達經(jīng)一連接器帶動該承載架旋轉(zhuǎn)。該蒸鍍源設(shè)在該鍍膜室底部，并與該承載架相對。該擋流板經(jīng)一支撐柱設(shè)在鍍膜源與承載架之間，其包括多個遮板，且該擋流板可以定位旋轉(zhuǎn)。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，所述光學(xué)鍍膜裝置的擋流板由多個遮板組成，且各遮板的形狀各不相同，因此在待鍍組件上鍍不同厚度的膜時，只需采用不同遮板，不需要破壞鍍膜室的真空狀態(tài)，其會簡化操作及降低鍍膜成本。而且因采用形狀各不相同的多個遮板，所以只需單一波長的監(jiān)控波即可測定膜厚，其會減少監(jiān)控成本，而且會提高監(jiān)控精度，進而提高鍍膜質(zhì)量。

圖1是本發(fā)明光學(xué)鍍膜裝置較佳實施方式的剖視圖。
圖2是本發(fā)明光學(xué)鍍膜裝置較佳實施方式的的擋流板的放大圖。
圖3是本發(fā)明光學(xué)鍍膜裝置較佳實施方式的的另一形狀擋流板的放大圖。
圖4是現(xiàn)有技術(shù)技術(shù)光學(xué)鍍膜裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
請參閱圖1，圖1是本發(fā)明較佳實施方式的光學(xué)鍍膜裝置剖視圖。本發(fā)明較佳實施方式光學(xué)鍍膜裝置10包括一鍍膜室20、一承載架30、一旋轉(zhuǎn)馬達301、一擋流板40及一蒸鍍源50。該光學(xué)鍍膜裝置10還包括在該旋轉(zhuǎn)馬達301與該承載架30之間的一連軸器302。該連軸器302的一端與旋轉(zhuǎn)馬達301連接，并位于該鍍膜室20外，該連軸器302的另一端與承載架30相連，并位于該鍍膜室20內(nèi)。該承載架30外形為一圓盤形，其由旋轉(zhuǎn)馬達301帶動旋轉(zhuǎn)，該承載架30上設(shè)置有多個夾板裝置(圖未示)，該夾板裝置用于安裝多個待鍍基片。該蒸鍍源50設(shè)在該鍍膜室20的底面，與該承載架30相對。該鍍膜室20的底面設(shè)有與底面垂直的一支撐柱41，該支撐柱41用于支撐該擋流板40，使該擋流板40在該鍍膜源50與該承載架30之間。該檔流板40包括有不同形狀的多個遮板410，且每一遮板410皆可旋轉(zhuǎn)至一特定位置。為便于把該擋流板40安裝至該支撐柱41上，在該擋流板40的中心設(shè)計一安裝孔420。為在鍍膜室20外控制該擋流板40的旋轉(zhuǎn)位置，可將該支撐柱41密封延伸至該鍍膜室20外，藉由另一馬達驅(qū)動。蒸鍍源50位于擋流板40下適當(dāng)距離處，與該承載架30相對。該蒸鍍源50加熱方式可采用電阻加熱蒸鍍法或電子束轟擊法。
鍍膜時，首先按不同的鍍膜要求設(shè)置好擋流板40形狀。旋轉(zhuǎn)馬達301通過連接軸302帶動承載架30按一定轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)，同時，蒸鍍蒸鍍源50。按照不同的鍍膜需求，改變擋流板40的形狀，使其適當(dāng)調(diào)整空間離子流的分布，以滿足具有不同需求的待鍍基板的鍍膜要求。請參閱圖2，是本發(fā)明第一實施方式的光學(xué)鍍膜裝置的擋流板的放大圖。該擋流板40采用四遮板410結(jié)構(gòu)，即該四遮板410呈十字形結(jié)構(gòu)，且各遮板410的形狀根據(jù)不同鍍膜需要而設(shè)，即每一遮板410的形狀不相同。對待鍍組件進行多層不同厚度的重復(fù)鍍膜時，待第一層鍍膜完成后，旋轉(zhuǎn)密封延伸至該鍍膜室20外的支撐柱41，使檔流板40的其它遮板410置于承載架30與蒸鍍源50之間，而后繼續(xù)下一步鍍膜程序。在鍍膜室20外旋轉(zhuǎn)支撐柱41，使不同遮板410分別置于承載架30與蒸鍍源50之間，此時不需要破壞鍍膜室20內(nèi)的真空狀態(tài)及重新抽真空的程序，所以不僅操作方便，而且會提高鍍膜質(zhì)量。
在測定膜厚時旋轉(zhuǎn)支撐柱41，使有不同形狀的遮板410分別置于承載架30與蒸鍍源50之間，因此不需要多種監(jiān)控波來進行監(jiān)控，只需單一監(jiān)控波就可以進行監(jiān)控，其可以有效降低監(jiān)控成本。又因采用單一監(jiān)控波長進行監(jiān)控，所以波監(jiān)測范圍不會過大過密，其會增加監(jiān)控精度。
該擋流板40還可以采用有其它數(shù)量的遮板410結(jié)構(gòu)，如三遮板結(jié)構(gòu)，即Y字形結(jié)構(gòu)等，請參閱圖3，是三遮板式結(jié)構(gòu)即Y字形結(jié)構(gòu)擋流板40的放大圖。
為滿足不同需求，在該旋轉(zhuǎn)馬達301與連軸器302之間安裝一變速箱(圖未示)，以改變該承載架30的旋轉(zhuǎn)速度。
可以理解，本發(fā)明光學(xué)鍍膜裝置10的真空室20的形狀也可為其它形狀如長方體、正方體、球體或圓柱體。另’該承載架30也可為其它具有支撐作用的框架或組件，如其可為一半球狀，或者為一延伸四連桿的承載架或二于其中間交錯連接的二承載桿，但為減少該承載架30旋轉(zhuǎn)時所產(chǎn)生的離心力，優(yōu)先采用對稱形結(jié)構(gòu)。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)鍍膜裝置，包括一鍍膜室、一承載架、一旋轉(zhuǎn)馬達、一鍍膜源及一擋流板，該承載架其設(shè)在該鍍膜室內(nèi)，用于安裝多個待鍍組件，該旋轉(zhuǎn)馬達經(jīng)一連軸器帶動該承載架旋轉(zhuǎn)，該鍍膜源設(shè)在該鍍膜室的底部并與承載架相對，其特征在于該擋流板經(jīng)一支撐柱設(shè)在鍍膜源與承載架之間，該擋流板包括有不同形狀的多個遮板，且每一遮板皆可旋轉(zhuǎn)至一特定位置。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)鍍膜裝置，其特征在于該各遮板的形狀根據(jù)不同鍍膜需求而設(shè)。
3.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)鍍膜裝置，其特征在于該擋流板上設(shè)有一安裝孔。
4.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)鍍膜裝置，其特征在于該支撐柱設(shè)置在該鍍膜室的底面，與該擋流板上的安裝孔配合。
5.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)鍍膜裝置，其特征在于該支撐柱密封延伸至該鍍膜室外，其可在鍍膜室外調(diào)節(jié)擋流板作定位旋轉(zhuǎn)。
6.如權(quán)利要求5所述的光學(xué)鍍膜裝置，其特征在于該擋流板為三遮板結(jié)構(gòu)，即其為Y字形結(jié)構(gòu)。
7.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)鍍膜裝置，其特征在于該擋流板為四遮板結(jié)構(gòu)，即其為十字形結(jié)構(gòu)。
8.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)鍍膜裝置，其特征在于該鍍膜室是一種真空鍍膜室。
9.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)鍍膜裝置，其特征在于該承載架上設(shè)置有多個夾板裝置。
10.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)鍍膜裝置，其特征在于該鍍膜室的形狀可為長方體、正方體、球體或圓柱體。
11.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)鍍膜裝置，其特征在于該蒸鍍源藉由電阻式加熱蒸鍍或電子束轟擊。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光學(xué)鍍膜裝置，包括一鍍膜室、一承載架、一旋轉(zhuǎn)馬達、一蒸鍍源及一擋流板。該承載架設(shè)在該鍍膜室內(nèi)，其用于安裝多個待鍍組件。該旋轉(zhuǎn)馬達經(jīng)一連軸器帶動該承載架旋轉(zhuǎn)。該蒸鍍源設(shè)在該鍍膜室底部，與該承載架相對。該擋流板經(jīng)一支撐柱設(shè)在鍍膜源與承載架之間，其包括有不同形狀的多個遮板，且每一遮板皆可旋轉(zhuǎn)至一特定位置定位。
文檔編號C23C14/04GK1847445SQ200510034248
公開日2006年10月18日 申請日期2005年4月15日 優(yōu)先權(quán)日2005年4月15日
發(fā)明者張慶州 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司