專利名稱：一種中溫珍珠拋光方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種珍珠的加工工藝，具體來說是指一種珍珠拋光方法。
技術(shù)背景珍珠以它絢麗的色彩，特殊的珍珠光澤，晶瑩凝重的朦朧美吸引了眾 多的愛好者，人們亦將珍珠視作純真、完美、尊貴、權(quán)威和富有的象征。 珍珠的經(jīng)濟價值主要是由珍珠的圓度、大小、白度、光澤、表面光潔度幾 個方面的因素決定的。珍珠力口工工藝通常是指從珍珠原料到到制成工藝首飾成品的總過程， 它包括初加工和并f細加工兩個階^殳。初加工是把養(yǎng)殖場生產(chǎn)出來的原珠進 行優(yōu)化改善處理，以達到寶石級的商品要求，從而提高其經(jīng)濟價值。精細 加工主要指飾用加工，有款式造型設(shè)計，組合,鑲嵌，成型產(chǎn)品等工序。珍珠優(yōu)化加工包括預(yù)處理、增光、漂白、染色、拋光等工藝流程。拋 光是珍珠優(yōu)化工藝中的最后一道工序，它反映優(yōu)化加工水平的高低，其結(jié) 果直接影響珍珠的光潔度與光澤，處理得好，大大增強珍珠晶瑩潔白的效 果。拋光速度與拋料配比的選擇是決定拋光質(zhì)量的關(guān)鍵。傳統(tǒng)拋光速度均為恒定，導(dǎo)致拋光設(shè)備內(nèi)工作溫度或高或低，直接影 響珍珠表皮磨損度及拋光效果。拋光設(shè)備與拋光材料的不斷改進提高了珍珠拋光水平。目前最先進的 拋光技術(shù)所采用的拋光材料來自于美國的一種農(nóng)作物內(nèi)芯，經(jīng)特殊加工制 作而成。其特點是在較短時間內(nèi)不損傷，不污染珍珠，又能盡現(xiàn)珍珠的光 澤。該技術(shù)對拋光速度這一影響拋光水平的重要因素并沒有改進。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明提供了 一種解決傳統(tǒng)珍珠拋光加工中因轉(zhuǎn)速恒定，使工作溫度 缺少合適變化，造成不合理的珍珠表皮磨損問題，提高珍珠拋光加工出品 品質(zhì)的可變速^^珠拋光方法。一種珍珠中溫拋光方法，包括以下步驟
(1) 在拋光設(shè)備內(nèi)置入拋光料；
(2) 設(shè)定拋光設(shè)備轉(zhuǎn)速150 ~ 180轉(zhuǎn)/分鐘，預(yù)運行至設(shè)備內(nèi)工作溫度 達到50。C ~60°C;
(3 )在拋光設(shè)備內(nèi)置入珍珠，轉(zhuǎn)速提至200 ~ 220轉(zhuǎn)/分鐘進行拋光， 設(shè)備內(nèi)工作溫度升至90°C ~ 100。C時；
(4 )將拋光設(shè)備轉(zhuǎn)速降至120 ~ 150轉(zhuǎn)/分鐘，使設(shè)備內(nèi)工作溫度下降 至60。C ~80°C;
(5)關(guān)閉拋光設(shè)備，冷卻，完成珍珠的拋光。
所述的拋光設(shè)備可選用珍珠加工工藝中的常用拋光設(shè)備。所述的拋光料采用顆粒狀脫水玉米棒芯或固化顆粒狀的紡織物或粉 碎顆粒狀的核桃殼或其它可用的拋光料。最優(yōu)選為顆粒狀脫水玉米棒芯， 硬度適當(dāng)，不會過硬損傷珍珠，也不會過軟，達不到拋光的效果。顆粒狀 脫水玉米棒芯和粉碎顆粒狀的核桃殼也可分次加入，混合使用。
所述的顆粒狀脫水玉米棒芯中含有石蠟和硅油，當(dāng)拋光設(shè)備內(nèi)溫度升 高時，石蠟和硅油從拋光料混合物中熔出，增加拋光材料的潤滑度，并可 增加珍珠的光亮度。
當(dāng)選用含有石蠟和硅油的顆粒狀脫水玉米棒芯作為拋光料時，步驟 (2)拋光設(shè)備預(yù)運行時150- 180轉(zhuǎn)/分鐘的轉(zhuǎn)速，預(yù)運行15-20分鐘，使 設(shè)備內(nèi)工作溫度維持在50°C ~ 60°C,此溫度可拋出拋光料含有的石蠟和硅 油；步驟(3 )中將拋光設(shè)備提速至200 ~ 220轉(zhuǎn)/分鐘，運行20-25分鐘后 設(shè)備內(nèi)工作溫度由于摩擦逐漸升至90°C ~ IO(TC，有助于拋去珍珠表皮雜 質(zhì)；步驟(4)中拋光設(shè)備的轉(zhuǎn)速又降至120 ~ 150轉(zhuǎn)/分鐘，運行20-25分 鐘，設(shè)備內(nèi)工作溫度又下降至60°C -80。C為中溫拋光，在該溫度下石蠟和 硅油處于最佳熔解狀態(tài)，可以均勻滲透進入珍珠表層，直接決定拋光效果。
當(dāng)選用顆粒狀脫水玉米棒芯和粉碎顆粒狀的核桃殼分次混合使用作 為拋光料時，先在設(shè)備內(nèi)放入粉碎顆粒狀的核桃殼，步驟(2)拋光設(shè)備 預(yù)運行時150~180轉(zhuǎn)/分鐘的轉(zhuǎn)速，運行15-20分鐘，設(shè)備內(nèi)工作溫度維 持在50。C ~ 60°C;步驟(3 )中將拋光設(shè)備提速至200 ~ 220轉(zhuǎn)/分鐘，運 行20-25分鐘，i殳備內(nèi)工作溫度逐漸升至卯。C ~ IOO'C,高速高溫下利用 核桃殼的硬度高、耐磨損、抗壓性好、吸附截污能力強等優(yōu)點吸附拋去珍珠表皮雜質(zhì)，為吸附拋光；在步驟(4)加入顆粒狀含有石蠟和硅油的脫 水玉米棒芯，拋光設(shè)備的轉(zhuǎn)速在提升至120~150轉(zhuǎn)/分鐘，運行30-40分 鐘，設(shè)備內(nèi)工作溫度降到60°C 80'C光，此時石蠟和硅油處于最佳熔解狀 態(tài)，可以均勻滲透進入珍珠表層。
本發(fā)明通過拋光設(shè)備提供不同的轉(zhuǎn)速，產(chǎn)生不同的工作溫度控制珍珠 表層的磨損程度及拋光料的工作狀況，提高了珍珠拋光加工出 品品質(zhì)。并 且本發(fā)明的主要拋光增光工作溫度控制50°C ~ IOO'C之間，既能達到優(yōu)質(zhì) 的珍珠拋光效果，又能避免由于工作溫度過高給珍珠表層造成較大的磨損 傷害。
具體實施例方式
實施例1:
(1) 在拋光設(shè)備內(nèi)置入含有石蠟和硅油顆粒狀脫水玉米棒芯；
(2) 將拋光設(shè)備設(shè)定轉(zhuǎn)速150轉(zhuǎn)/分鐘，預(yù)運行15分鐘，設(shè)備內(nèi)工作 溫度達到50°C ~60°C;
(3) 在拋光設(shè)備內(nèi)置入珍珠，轉(zhuǎn)速提至200轉(zhuǎn)/分鐘，運行20分鐘， 設(shè)備內(nèi)工作溫度達到90°C ~ IOO'C;
(4) 將拋光設(shè)備轉(zhuǎn)速降至120轉(zhuǎn)/分鐘，運行20分鐘，設(shè)備內(nèi)工作溫 度降到60°C ~80°C;
(5) 關(guān)閉拋光設(shè)備，冷卻，完成珍珠的拋光。 實施例2:
(1) 在拋光設(shè)備內(nèi)置入粉碎顆粒狀的核桃殼；
(2) 將拋光設(shè)備設(shè)定轉(zhuǎn)速180轉(zhuǎn)/分鐘，預(yù)運行20分鐘，設(shè)備內(nèi)工作 溫度達到50°C ~60°C;
(3 )在拋光設(shè)備內(nèi)置入珍珠，轉(zhuǎn)速提至220轉(zhuǎn)/分鐘，運行25分鐘， 設(shè)備內(nèi)工作溫度達到90°C ~ IOO'C;
(4) 在拋光設(shè)備內(nèi)置入含有石蠟和硅油顆粒狀脫水玉米棒芯，將拋 光設(shè)備轉(zhuǎn)速降至150轉(zhuǎn)/分鐘，運行40分鐘，設(shè)備內(nèi)工作溫度降到60°C ~ 80°C;
(5) 關(guān)閉拋光設(shè)備，冷卻，完成珍珠的拋光。
權(quán)利要求
1.一種珍珠中溫拋光方法，包括以下步驟(1)在拋光設(shè)備內(nèi)置入拋光料；(2)設(shè)定拋光設(shè)備轉(zhuǎn)速150～180轉(zhuǎn)/分鐘，預(yù)運行至設(shè)備內(nèi)工作溫度達到50℃～60℃；(3)在拋光設(shè)備內(nèi)置入珍珠，轉(zhuǎn)速提至200～220轉(zhuǎn)/分鐘進行拋光，設(shè)備內(nèi)工作溫度升至90℃～100℃時；(4)將拋光設(shè)備轉(zhuǎn)速降至120～150轉(zhuǎn)/分鐘，使設(shè)備內(nèi)工作溫度下降至60℃～80℃；(5)關(guān)閉拋光設(shè)備，冷卻，完成珍珠的拋光。
2. 如權(quán)利要求1所述的珍珠拋光方法，其特征在于所述的拋光料 為顆粒狀脫水玉米棒芯和或粉碎顆粒狀的核桃殼。
3. 如權(quán)利要求2所述的珍珠拋光方法，其特征在于所述的顆粒狀 脫水玉米棒芯中含有石蠟和硅油。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種珍珠中溫拋光技術(shù)，包括以下步驟(1)在拋光設(shè)備內(nèi)置入拋光料；(2)設(shè)定拋光設(shè)備轉(zhuǎn)速150～180轉(zhuǎn)/分鐘，預(yù)運行至設(shè)備內(nèi)工作溫度達到50℃～60℃；(3)在拋光設(shè)備內(nèi)置入珍珠，轉(zhuǎn)速提至200～220轉(zhuǎn)/分鐘進行拋光，設(shè)備內(nèi)工作溫度升至90℃～100℃時；(4)將拋光設(shè)備轉(zhuǎn)速降至120～150轉(zhuǎn)/分鐘，使設(shè)備內(nèi)工作溫度下降至50℃～100℃；(5)關(guān)閉拋光設(shè)備，冷卻，完成珍珠的拋光。本發(fā)明通過拋光設(shè)備提供不同的速度，產(chǎn)生不同的工作溫度控制珍珠表層的磨損程度及拋光料的工作狀況，既能達到優(yōu)質(zhì)的珍珠拋光效果，又能避免由于工作溫度過高給珍珠表層造成較大的磨損傷害。
文檔編號B24B31/14GK101314213SQ200810063550
公開日2008年12月3日 申請日期2008年6月26日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月26日
發(fā)明者戚鳥定 申請人:浙江天使之淚珠寶有限公司