專利名稱：一種釉面上光機的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于陶瓷及石材制品加工技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種在精拋機精拋基礎(chǔ)上繼續(xù)進行 釉面拋光，高端產(chǎn)品的釉面上光機。
背景技術(shù)：
目前，釉面磚種類繁多，現(xiàn)在市場上廣泛生產(chǎn)的有仿古磚、高檔花樣磚、拋晶磚等。 這些瓷磚產(chǎn)品需要滿足其表面質(zhì)量高，光澤度高，無瑕疵，使之能呈現(xiàn)出高品質(zhì)、高雅文 化、仿古風(fēng)格。而目前這些瓷磚常用的拋光方法是經(jīng)過精拋機精拋，但是釉面磚在精拋后 其表面還仍存在一定的切削痕跡，這樣就使得表面光澤度不高，其表面質(zhì)量不高，不能滿 足消費對高檔瓷磚的需求。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是克服所述現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種釉面上光機，該釉面上光機是在 精拋機精拋基礎(chǔ)上繼續(xù)進行釉面拋光，最大程度地消除切削痕跡，以取得較好的表面光澤 度，有效地提高瓷磚產(chǎn)品的表面質(zhì)量，滿足消費者對高品質(zhì)磚的需求。
為了達到所述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案是
一種釉面上光機，包括瓷磚輸送裝置，還包括沿著輸送裝置延伸方向設(shè)置的拋光裝置， 所述拋光裝置包括擺動磨臺裝置，以及置于擺動磨臺裝置上的磨頭裝置，所述磨頭裝置上 還設(shè)置有冷卻系統(tǒng)。
所述擺動磨臺裝置包括機架、設(shè)置在機架上的支撐架、橫梁、轉(zhuǎn)動磨臺，以及與轉(zhuǎn)動 磨臺相連的擺動裝置，該轉(zhuǎn)動磨臺通過橫梁上的轉(zhuǎn)軸裝置連接且可繞轉(zhuǎn)軸作勻速擺動。
所述轉(zhuǎn)動磨臺上設(shè)置有偶數(shù)數(shù)目的磨頭裝置，所有磨頭裝置對稱地分居于轉(zhuǎn)動磨臺的 中心軸線位置的兩側(cè)。
所述磨頭裝置包括中心軸、氣缸升降裝置、置于轉(zhuǎn)動磨臺上下分布的磨頭裝置，置于 轉(zhuǎn)動磨臺上部的是磨頭上部，置于轉(zhuǎn)動磨臺下部的是行星磨頭及連接在磨頭上的磨輪，在 中心軸上設(shè)置有直達磨輪上的冷卻液通道。
所述冷卻系統(tǒng)包括置于輸送裝置下方的冷卻液儲存箱、設(shè)置在儲存箱上的冷卻泵，所 述冷卻泵上連接有將冷卻液輸送至中心軸的冷卻液通道的連接管。
所述輸送裝置的下方對應(yīng)于磨頭裝置的下方設(shè)置有集液槽，該集液槽與冷卻液儲存箱
連通，其底面呈坡形斜面結(jié)構(gòu)，該集液槽的最低點位置為集液槽與冷卻液儲存箱連通點。 所述冷卻液為強氧化性的氧化鈰水溶液，該氧化鈰水溶液的濃度范圍是5 40°%。
所述冷卻液儲存箱內(nèi)設(shè)置有攪拌裝置，該攪拌裝置包括驅(qū)動電機、減速器，與減速器 的輸出端連接的攪拌手。
所述輸送裝置包括機架及帶有驅(qū)動沿著輸送線方向平行設(shè)置的輥棒臺。
所述輸送裝置的進磚入口處設(shè)置有以適應(yīng)于不同磚尺寸的進磚調(diào)寬裝置，所述輸送裝 置的兩端部還設(shè)置有調(diào)節(jié)張緊度的張緊裝置，且在輸送裝置上設(shè)置有防止拋光時冷卻液飛 濺出來的防護裝置。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果-
(1) 本發(fā)明由于使用了曲柄擺動磨臺裝置，該曲柄擺動磨臺裝置有效地解決了雙磨頭均 勻擺動、覆蓋被加工表面的問題，從而有效地提高拋光機的拋光效率及大幅度地提高拋光
面積；
(2) 本發(fā)明首次將強氧化性的氧化鈰水溶液應(yīng)用于瓷磚拋光技術(shù)領(lǐng)域，充分利用氧化鈰 的機械摩擦性能和化學(xué)分解性能，在一定壓力和轉(zhuǎn)速的作用下，實現(xiàn)其較好的研磨效果， 最大程度地消除切削痕跡，有效地提高表面光澤度，達到預(yù)期的拋光效果。
(3) 本發(fā)明由于設(shè)置有攪拌裝置及集液槽，將研磨使用后的氧化鈰水溶液通過集液槽可 回收至氧化鈰的儲存箱，清潔衛(wèi)生，而且通過攪拌裝置將沉淀于底部的氧化鈰攪拌后懸浮 于溶液表面，循環(huán)利用，極大地節(jié)約了氧化鈰的使用量；
(4) 本發(fā)明由于使用了輥棒狀支撐輥輸送臺用于輸送瓷磚，且在輥棒臺的兩端部設(shè)置有 調(diào)節(jié)用的張緊裝置，保證輥棒臺能勻速且平穩(wěn)地運轉(zhuǎn)，確保瓷磚能平穩(wěn)持續(xù)地向前輸送。


圖1是本發(fā)明釉面上光機正面結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是本發(fā)明釉面上光機側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3是本發(fā)明釉面上光機俯視圖。
圖4是本發(fā)明輸送裝置正面結(jié)構(gòu)示意圖。
圖5是本發(fā)明輸送裝置側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖。
圖6是本發(fā)明曲柄擺動磨臺裝置正面結(jié)構(gòu)示意圖。
圖7是本發(fā)明曲柄擺動磨臺裝置側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖。
圖8是本發(fā)明磨頭裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
圖9是本發(fā)明冷卻系統(tǒng)正面結(jié)構(gòu)示意圖。
圖10是本發(fā)明中冷卻系統(tǒng)側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖。
圖11是本發(fā)明中攪拌裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式
如圖1 3所示，本發(fā)明的一種釉面上光機，包括瓷磚輸送裝置l，還包括沿著輸 送裝置1延伸方向設(shè)置的拋光裝置。所述拋光裝置包括擺動磨臺裝置2，以及置于擺 動磨臺裝置2上的轉(zhuǎn)動磨臺以及分布在轉(zhuǎn)動磨臺上的磨頭裝置3，所述磨頭裝置3上 還設(shè)置有冷卻系統(tǒng)4。在本發(fā)明中，沿著輸送裝置1的軸向延伸方向設(shè)置有三組擺動 磨臺裝置2及磨頭裝置3，通常，為了達到更好的拋光研磨效果，擺動磨臺裝置2及 磨頭裝置3還可以設(shè)置有更多組。
如圖4、圖5所示，輸送裝置1包括支撐腳101及置于支撐腳101上的橫梁102， 在橫梁102的延伸方向設(shè)置支撐軸103，在該支撐軸103上平行設(shè)置有多個用于輸送 瓷磚的輥棒狀支撐輥104，該輥棒狀支撐輥104上設(shè)有齒輪；另外，在支撐軸103的 對應(yīng)位置也設(shè)置有齒輪，該兩齒輪相互嚙合組成齒輪傳動副105傳動，即可使得每個 輥棒狀支撐輥104均能繞著自己的中心軸線轉(zhuǎn)動。在支撐腳101上還設(shè)置有第一驅(qū)動 電機106，該第一驅(qū)動電機106通過鏈傳動裝置與支撐軸103配合傳動。這樣，第一 驅(qū)動電機105啟動后帶動鏈傳動裝置的傳動后，接著帶動支撐軸103轉(zhuǎn)動，支撐軸103 轉(zhuǎn)動后通過兩齒輪組成的齒輪傳動副105帶動每個輥棒狀支撐輥104轉(zhuǎn)動，從而實現(xiàn) 了瓷磚平穩(wěn)的輸送傳動過程。另外，為了能適應(yīng)不同尺寸規(guī)格的瓷磚的輸送，在輸送 裝置1的進磚入口處設(shè)置有以適應(yīng)于不同磚尺寸的進磚調(diào)寬裝置107;同時，在輸送 裝置1的兩端部所設(shè)的端部軸承處還設(shè)置有調(diào)節(jié)張緊度的張緊裝置108，這樣就確保 瓷磚能平穩(wěn)勻速地向前輸送；除此以外，輸送裝置1上還設(shè)置有防止拋光時冷卻液飛 濺出來的防護裝置109。
如圖6及圖7所示，所述擺動磨臺裝置2包括機架201、設(shè)置在機架201上的支 撐架202及橫梁203，還包括第二驅(qū)動電機及減速器204、與第二驅(qū)動電機及減速器 204連接的擺動裝置205，以及與擺動裝置205相連的轉(zhuǎn)動磨臺206，該轉(zhuǎn)動磨臺206 與橫梁203活動連接且可繞著橫梁203的中心軸線位置所設(shè)的轉(zhuǎn)軸裝置擺動。在轉(zhuǎn)動 磨臺206上設(shè)置有偶數(shù)數(shù)目的磨頭裝置3，且所有成對設(shè)置的磨頭裝置3對稱地分居 于轉(zhuǎn)動磨臺206的中心軸線位置的兩側(cè)，在本發(fā)明中，所述擺動裝置205為曲柄連桿 裝置，該曲柄連桿裝置包括曲柄及與曲柄連接的連桿，所述連桿的另一端與轉(zhuǎn)動磨臺 的一側(cè)面鉸接，所述橫梁202為方形鋼制成。
如圖8所示，所述磨頭裝置3包括中心軸301、氣缸升降裝置302、置于橫梁204 上表面的磨頭上部303、置于橫梁204空腔內(nèi)部且從空腔底部開口處露出的行星磨頭
304及連接在行星磨頭304上的磨輪305，另外，在中心軸301上設(shè)置有將冷卻液輸送 至磨輪上的冷卻液通道306。該磨頭裝置3的中心軸301與驅(qū)動其旋轉(zhuǎn)的第三驅(qū)動電 機307間通過帶輪傳動驅(qū)使行星磨頭304公轉(zhuǎn)，除此以外，每個行星磨頭304還通過 自身的驅(qū)動裝置自轉(zhuǎn)。
如圖9至圖11所示，所述冷卻系統(tǒng)4包括置于輸送裝置1下方的冷卻液儲存箱 401、設(shè)置在儲存箱401上的冷卻泵402，冷卻液儲存箱410上還連接有進水管404， 該冷卻泵402上連接有將冷卻液輸送至磨頭裝置中心軸301的冷卻液通道306的連接 管。所述輸送裝置1的下方對應(yīng)于磨頭裝置3的下方位置還設(shè)置有集液槽403，該集 液槽403與冷卻液儲存箱401連通，且集液槽403的底面呈坡形斜面結(jié)構(gòu)，其斜面最 低點位置為集液槽403與冷卻液儲存箱401連通口處，這樣，就可以即時的將已經(jīng)使 用過的冷卻液收集到集液槽403內(nèi)，利用集液槽403本身的底面傾斜的高度差特點將 收集到的冷卻液全部又回收到冷卻液儲存箱401中，從而保證冷卻液回收利用的目的。 在本發(fā)明中，為了有較好的拋光效果，所述冷卻液通常選用強氧化性較強的氧化鈰水 溶液，該氧化鈰水溶液是通過氧化鈰粉末及水調(diào)配而成，濃度范圍是5 40%，通常， 氧化鈰粉末粒度不同，其拋光效果也不同，為了使瓷磚有更高的表面拋光效果，所用 的氧化鈰粒度要小一點。另外，由于氧化鈰水溶性差，又由于其有一定的重量，當(dāng)靜 置一段時間后，氧化鈰會積淀于儲存箱的底部，其拋光效果不好，為了更好地解決氧 化鈰沉淀的問題，在冷卻液儲存箱內(nèi)設(shè)置有攪拌裝置5，該攪拌裝置5包括第四驅(qū)動 電機及減速器501，及與其輸出端連接的攪拌手502，當(dāng)氧化鈰冷卻液靜置一段時間后， 氧化鈰會沉淀于儲存箱底部時，啟動攪拌裝置5的攪拌手502進行攪拌后，可以將置 于底部的氧化鈰攪起后使其懸浮于溶液的表面，有效地保證了氧化鈰冷卻液即使多次 循環(huán)使用后人仍有較好的拋光性能。
本發(fā)明所述釉面上光機的工作過程是
開啟第一驅(qū)動電機106，驅(qū)動瓷磚在輥棒狀支撐輥104組成的輥棒臺上向前輸送，
與此同時，驅(qū)動擺動磨臺裝置2及磨頭裝置3工作，并開啟冷卻系統(tǒng)4中的冷卻泵402，
使得瓷磚在向前輸送至擺動磨臺裝置2及磨頭裝置3的下方時，第二驅(qū)動電機及減速
器205驅(qū)動擺動磨臺裝置2不停地做勻速偏擺運動，同時磨頭裝置3中的行星磨頭304
公轉(zhuǎn)的同時也繞著其自身自轉(zhuǎn)，復(fù)合運轉(zhuǎn)，通常其轉(zhuǎn)速可以達到3000轉(zhuǎn)/分鐘的高速；
另外，在行星磨頭304上的磨輪305拋光打磨瓷磚表面的同時，氧化鈰冷卻液也不斷
地經(jīng)過冷卻液通道306輸送至磨輪305與瓷磚之間，氧化鈽冷卻液不僅起到較好的冷
卻作用，同時，還起到較好的拋光打磨的作用，這樣，在磨輪305的高速拋光研磨、
壓力及冷卻液的冷卻及拋光等作用下，即可消除瓷磚在精拋工序時其表面所產(chǎn)生的切 削痕跡，上光并達到光澤度90以上，極大地提高了釉面磚的表面質(zhì)量，能滿足高檔磚 的市場需求。氧化鈰冷卻液經(jīng)過集液槽403將溶液回收至冷卻液儲存箱401后回收利 用，通過攪拌裝置5攪拌后再將溶液輸送到行星磨頭處進行拋光研磨，如此循環(huán)，做 到清潔環(huán)保且節(jié)約材料的目的。
權(quán)利要求
1．一種釉面上光機，包括瓷磚輸送裝置，其特征在于還包括沿著輸送裝置延伸方向設(shè)置的拋光裝置，所述拋光裝置包括擺動磨臺裝置，以及置于擺動磨臺裝置上的磨頭裝置，所述磨頭裝置上還設(shè)置有冷卻系統(tǒng)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的釉面上光機，其特征在于所述擺動磨臺裝置包括機架、設(shè) 置在機架上的支撐架、橫梁、轉(zhuǎn)動磨臺，以及與轉(zhuǎn)動磨臺相連的擺動裝置，該轉(zhuǎn)動磨臺通 過橫梁上的轉(zhuǎn)軸裝置連接且可繞轉(zhuǎn)軸作勻速擺動。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的釉面上光機，其特征在于所述轉(zhuǎn)動磨臺上設(shè)置有偶數(shù)數(shù)目 的磨頭裝置，所有磨頭裝置對稱地分居于轉(zhuǎn)動磨臺的中心軸線位置的兩側(cè)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的釉面上光機，其特征在于所述磨頭裝置包括中心軸、氣缸 升降裝置、置于轉(zhuǎn)動磨臺上下分布的磨頭裝置，置于轉(zhuǎn)動磨臺上部的是磨頭上部，置于轉(zhuǎn) 動磨臺下部的行星磨頭及連接在磨頭上的磨輪，在中心軸上設(shè)置有直達磨輪上的冷卻液通 道。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的釉面拋光機，其特征在于所述冷卻系統(tǒng)包括置于輸送裝置 下方的冷卻液儲存箱、設(shè)置在儲存箱旁有冷卻泵，所述冷卻泵通過管路連接將冷卻液輸送 至中心軸的冷卻液通道直達磨輪。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的釉面上光機，其特征在于所述輸送裝置的下方對應(yīng)于磨頭 裝置的下方設(shè)置有集液槽，該集液槽與冷卻液儲存箱連通，其底面呈坡形斜面結(jié)構(gòu)，該集 液槽的最低點位置為集液槽與冷卻液儲存箱連通點。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的釉面上光機，其特征在于所述冷卻液為強氧化性的氧化鈰水溶液，該氧化鈰水溶液的濃度范圍是5 40%。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述釉面上光機，其特征在于所述冷卻液儲存箱內(nèi)設(shè)置有攪拌裝置，該攪拌裝置包括驅(qū)動電機、減速器，與減速器的輸出端連接的攪拌手。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的釉面上光機，其特征在于上述輸送裝置包括機架及帶有驅(qū)動沿著輸送線方向平行設(shè)置的輥棒臺。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的釉面上光機，其特征在于上述輸送裝置的進磚入口處設(shè)置 有以適應(yīng)于不同磚尺寸的進磚調(diào)寬裝置。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種釉面上光機，包括瓷磚輸送裝置，還包括沿著輸送裝置延伸方向設(shè)置的拋光裝置，所述拋光裝置包括擺動磨臺裝置，以及置于擺動磨臺裝置上的磨頭裝置，所述磨頭裝置上還設(shè)置有冷卻系統(tǒng)。該釉面上光機是在精拋機精拋基礎(chǔ)上，繼續(xù)進行釉面拋光。最大程度地消除切削痕跡，達到市場需求的表面光澤度，該釉面上光機以其拋光效率高，拋光面廣，有效地提高瓷磚產(chǎn)品的表面質(zhì)量，滿足消費者對高品質(zhì)磚的需求。
文檔編號B24B41/047GK101362312SQ20081019872
公開日2009年2月11日 申請日期2008年9月24日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月24日
發(fā)明者丘兆才, 沈慧萍 申請人:廣東科達機電股份有限公司