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      研磨拋光用磨粒流循環(huán)系統(tǒng)內(nèi)置式專用攪拌分離器的制作方法

      文檔序號:3421945閱讀:444來源:國知局
      專利名稱:研磨拋光用磨粒流循環(huán)系統(tǒng)內(nèi)置式專用攪拌分離器的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實用新型涉及一種攪拌分離設(shè)備,特別是一種應(yīng)用于研磨拋光 用磨粒流循環(huán)系統(tǒng)的專用攪拌分離器。
      (二)
      背景技術(shù)
      研磨拋光用磨粒流循環(huán)系統(tǒng)要求工作時產(chǎn)生的固液兩相液體要及 時的分離出金屬顆粒同時及時清除金屬顆粒,不使金屬顆粒再次進入 循環(huán)系統(tǒng)以減少對系統(tǒng)設(shè)備的損害和對加工工件精度的破壞,從而使 得經(jīng)過分離后的磨料能及時進入循環(huán)系統(tǒng)再次工作。然而,目前市場 上的攪拌分離設(shè)備并不能達到研磨拋光用磨粒流循環(huán)系統(tǒng)的上述要 求。
      (三) 發(fā)明內(nèi)容
      為了解決現(xiàn)有的攪拌分離設(shè)備不能滿足研磨拋光用磨粒流循環(huán)系 統(tǒng)的上述要求的不足,本實用新型提出了一種專門為研磨拋光用磨粒 流循環(huán)系統(tǒng)設(shè)計的專用攪拌分離器。
      研磨拋光用磨粒流循環(huán)系統(tǒng)內(nèi)置式專用攪拌分離器,包括攪拌桶、 設(shè)在攪拌桶內(nèi)的攪拌漿,所述的攪拌漿由裝在攪拌桶上方的電機驅(qū)動, 所述的攪拌桶的側(cè)壁上方設(shè)有進料口 ,所述攪拌桶的側(cè)壁下方設(shè)有出 流口,所述攪拌桶的底壁上設(shè)有排污口,所述的攪拌桶內(nèi)腔與所述的 排污口相通,所述的攪拌桶的底壁內(nèi)側(cè)上裝有永磁體,所述的攪拌桶 的側(cè)壁下方設(shè)有回流口。
      優(yōu)選的,所述的排污口設(shè)在所述的攪拌桶底壁的中心,所述的永 磁體環(huán)置在排污口的上方,所述的永磁體上有與排污口連通的開口 。
      優(yōu)選的,所述的永磁體為永磁鐵。
      本實用新型的技術(shù)構(gòu)思為通過在攪拌桶的底壁內(nèi)側(cè)上安裝永磁 體,使得固液兩相液體經(jīng)過攪拌分離后,金屬顆粒由于磁吸力的作用 而吸附在攪拌桶的底壁上,阻止了金屬顆粒再次進入循環(huán)系統(tǒng)中,這 樣, 一方面使得從出流口排出的液體不含有金屬雜質(zhì),磨料能及時再 次進入循環(huán)系統(tǒng)工作;另一方面也減少了金屬顆粒對于系統(tǒng)隔膜泵、 系統(tǒng)管路和加工工件的損害。金屬顆??梢酝ㄟ^攪拌桶底壁上的排污 口排出,方便了及時排污和對于攪拌桶的清洗。
      本實用新型的有益效果為(1)磨料能夠高效地循環(huán)使用;(2)
      減少了金屬顆粒對系統(tǒng)設(shè)備的損害和對加工工件精度的破壞;(3)方
      便了及時排污和對于攪拌桶的清洗。
      (四)
      圖l是本實用新型的正視圖。
      圖2是本實用新型的俯視圖。
      具體實施方式
      以下結(jié)合附圖對本實用新型做進一步的說明。
      參見圖1-2:研磨拋光用磨粒流循環(huán)系統(tǒng)內(nèi)置式專用攪拌分離器,
      包括攪拌桶3、設(shè)在攪拌桶3內(nèi)的攪拌漿4,所述的攪拌漿4由裝在攪 拌桶上方的電機1驅(qū)動,所述的攪拌桶3的側(cè)壁上方設(shè)有進料口 8, 所述攪拌桶3的側(cè)壁下方設(shè)有出流口 9,所述攪拌桶3的底壁上設(shè)有 排污口 7,所述的攪拌桶3內(nèi)腔與所述的排污口 7相通,所述的攪拌 桶3的底壁內(nèi)側(cè)上裝有永磁體6,所述的攪拌桶3的側(cè)壁下方設(shè)有回 流口5。所述的永磁體6為永久磁鐵。
      所述的排污口 7設(shè)在所述的攪拌桶3底壁的中心,所述的永磁體 6環(huán)置在排污口 7的上方,所述的永磁體6上有與排污口 7連通的開 □。 本實用新型通過在攪拌桶的底壁內(nèi)側(cè)上安裝永磁體6,使得固液 兩相液體經(jīng)過攪拌分離后,金屬顆粒由于磁吸力的作用而吸附在攪拌 桶3的底壁上,更容易清洗,也阻止了金屬顆粒再次進入循環(huán)系統(tǒng)中, 減少了對系統(tǒng)設(shè)備的損害和對加工工件精度的破壞。金屬顆??梢酝?過攪拌桶3底壁上的排污口 7排出,方便了及時排污和對于攪拌桶的 清洗。 當(dāng)研磨拋光用磨粒流循環(huán)系統(tǒng)工作時,磨料液體從出流口 9流出 后,經(jīng)過隔膜泵的加壓對被加工摸具進行加工后,所產(chǎn)生的金屬顆粒 和磨料液體一起從回流口 5進入攪拌桶3。在攪拌漿4的攪拌分離作 用下,磨料液體和金屬顆粒進行了分離,由于底壁上的永久磁鐵6的 作用,使得金屬顆粒被吸附在攪拌桶底部,可以使從出流口9排出的 液體不含有金屬雜質(zhì),從而確保磨料能再次進入循環(huán)系統(tǒng)工作,減少 了金屬顆粒對加工工件的破壞,延長了隔膜泵和管路的工作壽命。金 屬顆??梢酝ㄟ^攪拌桶底壁上的排污口 7排出,方便了及時排污和對 于攪拌桶的清洗,同時可以從進料口 8對磨料液體進行補充。 本實用新型是為研磨拋光用磨粒流循環(huán)系統(tǒng)專用的攪拌分離器, 本實用新型提高了研磨拋光用磨粒流循環(huán)系統(tǒng)的工作效率和安全性 能,使磨料能夠高效的循環(huán)使用,減少了金屬顆粒對加工工件的傷害, 延長了隔膜泵和管路的工作年限,具有良好的經(jīng)濟效益和社會效益。
      權(quán)利要求1、研磨拋光用磨粒流循環(huán)系統(tǒng)內(nèi)置式專用攪拌分離器,包括攪拌桶、設(shè)在攪拌桶內(nèi)的攪拌漿,所述的攪拌漿由裝在攪拌桶上方的電機驅(qū)動,所述的攪拌桶的側(cè)壁上方設(shè)有進料口,所述攪拌桶的側(cè)壁下方設(shè)有出流口,所述攪拌桶的底壁上設(shè)有排污口,所述的攪拌桶內(nèi)腔與所述的排污口相通,其特征在于所述的攪拌桶的底壁內(nèi)側(cè)上裝有永磁體,所述的攪拌桶的側(cè)壁下方設(shè)有回流口。
      2、 如權(quán)利要求l所述的研磨拋光用磨粒流循環(huán)系統(tǒng)內(nèi)置式專用攪 拌分離器,其特征在于:所述的排污口設(shè)在所述的攪拌桶底壁的中心, 所述的永磁體環(huán)置在排污口的上方,所述的永磁體上有與排污口連通 的開口。
      3、 如權(quán)利要求1或2所述的研磨拋光用磨粒流循環(huán)系統(tǒng)內(nèi)置式專 用攪拌分離器,其特征在于所述的永磁體為永磁鐵。
      專利摘要本實用新型涉及一種研磨拋光用磨粒流循環(huán)系統(tǒng)內(nèi)置式專用攪拌分離器,包括攪拌桶、設(shè)在攪拌桶內(nèi)的攪拌槳,所述的攪拌槳由裝在攪拌桶上方的電機驅(qū)動,所述的攪拌桶的側(cè)壁上方設(shè)有進料口,所述攪拌桶的側(cè)壁下方設(shè)有出流口,所述攪拌桶的底壁上設(shè)有排污口,所述的攪拌桶內(nèi)腔與所述的排污口相通,所述的攪拌桶的底壁內(nèi)側(cè)上裝有永磁體,所述的攪拌桶的側(cè)壁下方設(shè)有回流口。本實用新型的有益效果為(1)磨料能夠高效地循環(huán)使用;(2)減少了金屬顆粒對系統(tǒng)設(shè)備的損害和對加工工件精度的破壞;(3)方便了及時排污和對于攪拌桶的清洗。
      文檔編號B24B57/02GK201175873SQ20082008425
      公開日2009年1月7日 申請日期2008年3月10日 優(yōu)先權(quán)日2008年3月10日
      發(fā)明者佳 周, 利 張, 憲 張, 張生昌, 張金海, 王宗槐, 袁巧玲, 計時鳴, 鄭水華 申請人:浙江工業(yè)大學(xué)
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