專利名稱：二元布氣管的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種二元布氣管，尤其涉及一種控制磁控濺射鍍進氣的二元布氣管的裝置。
背景技術(shù)：
鍍膜玻璃如今己廣泛應用于觸摸屏領(lǐng)域和液晶顯示領(lǐng)域，而玻璃鍍膜技術(shù)也日新月異。磁控濺射鍍膜技術(shù)目前廣泛應用于玻璃鍍膜，特別是在大面積玻璃鍍膜工業(yè)上，是主要鍍膜方式。但是，磁控反應濺射鍍膜技術(shù)中，控制反應氣體的流量是一個重要環(huán)節(jié)。常用單一進氣管的方式，由于實行單管進氣在流導上存在著差異，從氣體噴嘴處噴出的氣體流量會從中心向兩端逐漸減少，導致鍍膜不均勻。

實用新型內(nèi)容
本實用新型解決的技術(shù)問題是克服現(xiàn)有磁控濺射鍍膜技術(shù)中，采用單一進氣管不能實現(xiàn)各部分均勻進氣導致鍍膜不均勻的技術(shù)問題。
本實用新型提供的解決技術(shù)問題的技術(shù)方案是:構(gòu)建一種二元布氣管，包括磁控濺射陰極的進氣管、控制進氣管流量的閥門，所述磁控濺射陰極的進氣管的末端部分和中間部分各自采用獨立的進氣管分別供氣。
本實用新型解決技術(shù)問題的進一步技術(shù)方案是所述控制進氣管流量的閥門為壓電閥門。
本實用新型解決技術(shù)問題的進一步技術(shù)方案是所述磁控濺射陰極的 進氣管的中間部分的進氣管分布為多層，各層分別進氣。
本實用新型解決技術(shù)問題的進一步技術(shù)方案是所述磁控濺射陰極的 進氣管的中間部分的多層氣管采取二進制布局，即第一層分隔成2i個獨立 空間，由2i個進氣管分別供氣，第二層分隔成22個獨立空間，由22個進氣 管分別供氣，依次類推，至符合氣體控制系統(tǒng)需要為止。
本實用新型技術(shù)方案的技術(shù)效果是通過構(gòu)建一種二進制布氣管，使 磁控濺射陰極末端部分和中間部分都能更加均勻地進氣，從而使鍍膜更加 均勻。


圖1為本實用新型氣管分布結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式

下面結(jié)合具體實施例對本實用新型技術(shù)方案進行進一步說明 如圖1所示，本實用新型構(gòu)建一種二元布氣管，包括磁控濺射陰極的 進氣管8、控制進氣管流量的閥門1，所述磁控濺射陰極的進氣管8的末端 部分6和中間部分5各自采用獨立的進氣管8分別供氣。由于實行單管進 氣在流導上存在著差異，從氣體噴嘴處噴出的氣體流量會從中心向兩 端逐漸減少，導致鍍膜不均勻。本技術(shù)方案采用二元布氣管，磁控濺射陰極的末端部分6有兩個，分別由兩個進氣管8供氣，末端部分只有一個隔離空間，每個末端部分采用一個進氣管8供氣，而磁控濺射陰極的中間部分也采用單獨的進氣管8供氣，這樣就克服了單管供氣過程中，從氣體噴嘴處噴出的氣體流量會從中心向兩端逐漸減少的技術(shù)問題，從而使鍍膜更加均勻。本實用新型控制進氣管的閥門裝置1優(yōu)先采取壓電閥門。
如圖1所示，本實用新型還根據(jù)需要對進氣管8的布局進行進一步改進，磁控濺射陰極的中間部分設(shè)置成多層隔離空間，每層均采用獨立的進氣管8供氣，每層以不銹鋼板隔離開，防止串氣。所述磁控濺射陰極的進氣管的中間部分5的最外層為排氣孔4，均勻分布。所述磁控濺射陰極的進氣管的中間部分5的多層進氣管8還可以采取二進制布局，即第一層分隔成2i個獨立空間，由2'個進氣管8分別供氣，第二層分隔成22個獨立空間，由22個進氣管分別供氣，依次類推，至符合氣體控制系統(tǒng)需要為止。所述每個隔離空間以不銹鋼板隔離開，防止串氣。
以上內(nèi)容是結(jié)合具體的優(yōu)選實施方式對本實用新型所作的進一步詳細說明，不能認定本實用新型的具體實施只局限于這些說明。對于本實用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實用新型構(gòu)思的前提下，還可以做出若干簡單推演或替換，都應當視為屬于本實用新型的保護范圍。
權(quán)利要求1. 一種二元布氣管，包括磁控濺射陰極的進氣管、控制進氣管流量的閥門，其特征在于所述磁控濺射陰極的進氣管的末端部分和中間部分各自采用獨立的進氣管分別供氣。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的二元布氣管，其特征在于，所述控制進氣管流量 的閥門為壓電閥門。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的二元布氣管，其特征在于，所述磁控濺射陰極的 進氣管的中間部分的進氣管分布為多層，各層分別進氣。
4、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的二元布氣管，其特征在于，所述磁控濺射陰極的 進氣管的中間部分的多層氣管采取二元布局，即第一層分隔成2'個獨立空 間，由2'個進氣管分別供氣，第二層分隔成22個獨立空間，由22個進氣管 分別供氣，依次類推，至符合氣體控制系統(tǒng)需要為止。
專利摘要本實用新型涉及一種二元布氣管，包括磁控濺射陰極的進氣管、控制進氣管流量的閥門，所述磁控濺射陰極的進氣管的末端部分和中間部分各自采用獨立的進氣管分別供氣。通過構(gòu)建一種二元布氣管，使磁控濺射陰極末端部分和中間部分都能更加均勻地進氣，從而使反應濺射鍍膜更加均勻。
文檔編號C23C14/35GK201313933SQ20092013519
公開日2009年9月23日 申請日期2009年3月11日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月11日
發(fā)明者徐日宏 申請人:深圳市三鑫精美特玻璃有限公司