專(zhuān)利名稱(chēng)：涂層、具有該涂層的被覆件及該被覆件的制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種涂層、具有該涂層的被覆件及該被覆件的制備方法，特別涉及一種具有抗指紋性能的涂層、具有該涂層的被覆件及該被覆件的制備方法。
背景技術(shù)：
隨著3C電子產(chǎn)品的使用越來(lái)越頻繁，消費(fèi)者對(duì)產(chǎn)品的外觀也有了越來(lái)越高的要求。除了要求其色彩美觀、手感舒適，還要求其表面具有較好的耐磨性、抗刮傷性、以及抗指紋性。為了提高金屬表面的抗指紋性，美國(guó)專(zhuān)利US006736908公開(kāi)了一種抗指紋化的金屬表面處理液。該表面處理液含有特殊有機(jī)樹(shù)脂，可溶性釩化物，以及可溶性金屬化合物， 其含有ai、Ti、Mo、W、Mn及Ce中至少一種金屬元素，經(jīng)此處理液處理的金屬表面具有良好的抗指紋性。但是，所述特殊的有機(jī)樹(shù)脂成分結(jié)構(gòu)復(fù)雜，難以制備，且易對(duì)環(huán)境造成污染。因此，開(kāi)發(fā)一種能實(shí)現(xiàn)抗指紋效果且易于制備、無(wú)環(huán)境污染的涂層實(shí)為必要。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種能實(shí)現(xiàn)抗指紋效果且易于制備、無(wú)環(huán)境污染的涂層。另外，還有必要提供一種應(yīng)用上述涂層的被覆件。另外，還有必要提供一種上述被覆件的制備方法?！N涂層，該涂層包括一抗指紋層，該抗指紋層為一 ZnO-Al2O3層，其表面分布有若干納米量級(jí)的乳突。一種被覆件，該被覆件包括一基體及形成于該基體上的一涂層，該涂層包括一抗指紋層，該抗指紋層為一 SiO-Al2O3層，其表面分布有若干納米量級(jí)的乳突。一種被覆件的制備方法，包括以下步驟提供一基體；通過(guò)磁控濺射鍍膜方法在該基體上形成一抗指紋層，該抗指紋層為一 SiO-Al2O3 層，其表面分布有若干納米量級(jí)的乳突。相較于現(xiàn)有技術(shù)，所述被覆件通過(guò)磁控濺射鍍膜方法于基體上形成一 SiO-Al2O3 的抗指紋層。由于該抗指紋層表面分布有若干納米級(jí)的乳突，使得所述抗指紋層的表面形成凹凸相間的界面結(jié)構(gòu)。所述若干乳突之間的低凹表面可吸附氣體分子并使該氣體分子穩(wěn)定存在，而在該抗指紋層的表面上形成一層穩(wěn)定的氣體薄膜，使水/油無(wú)法與材料的表面直接接觸，從而使抗指紋層的表面呈現(xiàn)超常的疏水及疏油性，達(dá)到抗指紋效果。因此通過(guò)上述方法制備的被覆件具有良好的抗指紋性。所述被覆件制備方法不需要使用特殊的有機(jī)樹(shù)脂，也不需經(jīng)酸或堿處理，對(duì)環(huán)境及人體健康無(wú)害；且該方法簡(jiǎn)單易行。


圖1為本發(fā)明較佳實(shí)施例的涂層的剖視圖2為本發(fā)明較佳實(shí)施例的被覆件的剖視圖；圖3為本發(fā)明較佳實(shí)施例的被覆件的制備方法的流程圖。主要元件符號(hào)說(shuō)明涂層10顏色層 11抗指紋層 13基體20被覆件 30
具體實(shí)施例方式請(qǐng)參閱圖1，本發(fā)明一較佳實(shí)施例的涂層10包括一抗指紋層13。該抗指紋層13為一無(wú)色透明的氧化鋅-氧化鋁(ZnO-Al2O3)層其通過(guò)磁控濺射法沉積形成，其厚度為0. 3-1 μ m。所述SiO-Al2O3層的表面分布有若干納米量級(jí)的乳突(圖未示)，使得所述抗指紋層13的表面形成凹凸相間的界面結(jié)構(gòu)，而所述若干乳突之間的低凹表面可吸附氣體分子并使該氣體分子穩(wěn)定存在，而在該抗指紋層13的表面上形成一層穩(wěn)定的氣體薄膜，使水/ 油無(wú)法與材料的表面直接接觸，從而使抗指紋層13的表面呈現(xiàn)超常的疏水及疏油性，達(dá)到抗指紋效果?？梢岳斫獾模诔练e該抗指紋層13之前還可鍍覆一顏色層11，以增強(qiáng)該涂層10的美觀性。所述抗指紋層13形成于該顏色層11上。請(qǐng)參閱圖2，本發(fā)明一較佳實(shí)施例的被覆件30包括一基體20、及形成于該基體20 上的涂層10。所述基體20可由金屬材料或非金屬材料制成。該金屬材料可包括不銹鋼、 鋁、鋁合金、銅、銅合金、鎂合金等。該非金屬材料可包括塑料、陶瓷、玻璃、聚合物等。該被覆件30可以為3C電子產(chǎn)品的殼體、家具、廚房用具或其它裝潢件。請(qǐng)參見(jiàn)圖3，本發(fā)明一較佳實(shí)施例的制備所述被覆件30的方法主要包括如下步驟Si:提供一基體 20。所述基體20可由金屬材料或非金屬材料制成。該金屬材料可包括不銹鋼、鋁、鋁合金、銅、銅合金、鎂合金等。該非金屬材料可包括塑料、陶瓷、玻璃、聚合物等。S2 對(duì)該基體20進(jìn)行前處理。將基體20放入盛裝有乙醇及/或丙酮溶液的超聲波清洗器中進(jìn)行震動(dòng)清洗，以除去基體20表面的雜質(zhì)和油污等。清洗完畢后烘干備用。對(duì)經(jīng)上述處理后的基體20的表面進(jìn)行氬氣等離子體清洗，進(jìn)一步去除基體20表面的油污，以改善基體20表面與后續(xù)涂層的結(jié)合力。該等離子清洗的具體操作及工藝參數(shù)為將基體20放入一磁控濺射鍍膜機(jī)的真空室內(nèi)的工件架上(未圖示)，抽真空至真空度為8. OX l(T3Pa，以300 500sccm的流量向真空室通入純度為99. 999%的氬氣，對(duì)基體20 表面進(jìn)行等離子體清洗，清洗時(shí)間為5 lOmin。S3 于該基體20上形成一抗指紋層13。本實(shí)例中，該抗指紋層13為一無(wú)色透明的SiO-Al2O3層。在對(duì)基體20進(jìn)行等離子體清洗后，加熱該真空室至20 300°C，設(shè)置該工件架的公轉(zhuǎn)速度為1 3rpm(revolution per minute，轉(zhuǎn)/分鐘)，調(diào)節(jié)氬氣流量至10 300sccm，并以10 IOOsccm的流量向真空室通入純度為99. 99 %的氧氣，開(kāi)啟鋅鋁復(fù)合靶的電源，對(duì)所述基體施加-100 -300V的偏壓，沉積抗指紋層13。沉積該抗指紋層13的時(shí)間為20 60min。所述鋅鋁復(fù)合靶中Al的質(zhì)量百分含量為50-95%。關(guān)閉負(fù)偏壓及鋅鋁合金靶電流，停止通入氬氣及氧氣，待所述抗指紋層13冷卻后，向真空室內(nèi)通入空氣，打開(kāi)真空室門(mén)，取出鍍覆有抗指紋層13的基體20。可以理解的，在沉積該抗指紋層13之前還可于基體20鍍覆一顏色層11，以增強(qiáng)該被覆件30的美觀性。所述被覆件30的制備方法，采用鋅鋁復(fù)合靶材，以氧氣作為反應(yīng)性氣體，于基體上形成一 SiO-Al2O3的抗指紋層13。由于該抗指紋層13表面呈現(xiàn)超常的雙疏性而使被覆件30具有良好的抗指紋性。所述被覆件30制備方法不需要使用特殊的有機(jī)樹(shù)脂，也不需經(jīng)酸或堿處理，對(duì)環(huán)境及人體健康無(wú)害；且該方法簡(jiǎn)單易行。
權(quán)利要求
1.一種涂層，包括一抗指紋層，其特征在于該抗指紋層為一 SiO-Al2O3層，其表面分布有若干納米量級(jí)的乳突。
2.如權(quán)利要求1所述的涂層，其特征在于該抗指紋層的厚度為0.3-1 μ m。
3.如權(quán)利要求1所述的涂層，其特征在于該涂層還包括一顏色層，該抗指紋層形成于該顏色層上。
4.一種被覆件，該被覆件包括一基體及形成于該基體上的一涂層，該涂層包括一抗指紋層，其特征在于該抗指紋層為一 SiO-Al2O3層，其表面分布有若干納米量級(jí)的乳突。
5.如權(quán)利要求4所述的被覆件，其特征在于該抗指紋層的厚度為0.3-1 μ m。
6.一種被覆件的制備方法，包括以下步驟提供一基體；通過(guò)磁控濺射鍍膜方法在該基體上形成一抗指紋層，該抗指紋層為一 SiO-Al2O3層，其表面分布有若干納米量級(jí)的乳突。
7.如權(quán)利要求6所述的被覆件的制備方法，其特征在于磁控濺射所述抗指紋層以鋅鋁復(fù)合靶為靶材，以氬氣作為惰性氣體，其流量為10 300sCCm，以氧氣作為反應(yīng)氣體，其流量為10 lOOsccm，對(duì)基體施加-100 -300V的偏壓，濺射溫度為20 300°C，濺射時(shí)間為20 60min。
8.如權(quán)利要求6所述的被覆件的制備方法，其特征在于該鋅鋁復(fù)合靶中Al的質(zhì)量百分含量為50-95%。
9.如權(quán)利要求6所述的被覆件的制備方法，其特征在于所述制備方法還包括在沉積該抗指紋層之前于基體鍍覆一顏色層的步驟。
10.如權(quán)利要求9所述的被覆件的制備方法，其特征在于所述制備方法還包括在形成顏色層前對(duì)該基體進(jìn)行前處理，該前處理包括化學(xué)清洗及等離子體清洗。
全文摘要
本發(fā)明提供一種涂層，該涂層包括一ZnO-Al2O3的抗指紋層。該抗指紋層的表面分布有若干納米量級(jí)的乳突，使該涂層具有良好的抗指紋性。本發(fā)明還提供一種具有上述涂層的被覆件。該被覆件包括一基體及形成于該基體上一所述涂層。另外，本發(fā)明還提供了一種上述被覆件的制備方法。
文檔編號(hào)C23C14/35GK102373429SQ20101025739
公開(kāi)日2012年3月14日 申請(qǐng)日期2010年8月19日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月19日
發(fā)明者張娟, 張新倍, 蔣煥梧, 陳文榮, 陳正士 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司